JPH01143033A - 光ディスクおよびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光ディスクおよびその製造法、更に詳しくは、
特定の紫外線架橋性ホットメルト型接着剤を用いて一対
の基板を貼合せて成る光ディスクおよびその製造法に関
する。

従来技術と発明の解決すべき問題点 一対の基板を貼合せて成る光ディスクは、その少なくと
も一方の基板に光学的に読み取り可能な情報記録部を設
け、ビデオディスクやデジタルオーディオディスク、文
書やデータのファイル用のディスクとして利用されてい
る。

ところで、光ディスクの製造にあって上記貼合せには通
常、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、紫外線硬化
型接着剤、ホットメルト型接着剤等が用いられている。

しかし、エポキシ系接着剤やウレタン系接着剤では硬化
速度が遅く、生産性に問題があり、紫外線硬化型接着剤
では含有されるモノマー成分が基板を浸食する恐れがあ
る。また、ホットメルト型接着剤においては耐熱性が低
いという問題がある。

本発明の目的は、かかる問題点を解決し、生産性が高く
、浸食性がなく、かつ耐熱性の高い高信頼性の光ディス
クおよびその製造法を提供することにある。

本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭意検討を進め
たところ、上記基板の一方に紫外線架橋性ホットメルト
型接着剤を塗布し、紫外線照射（ＵＶ照射）を行えば、
ホットメルト型接着剤（以下、ＨＭＡと略す）成分の物
性を高軟化点、高粘度に変えて、耐熱性を高めることが
でき、かつ浸食性の恐れもなく、７生産効率よく光ディ
スクを製造しうることを見出し１本発明を完成させるに
至った。

発明の構成と効果 すなわち、本発明は、一対の基板を貼合せて成り、側基
板の少なくとも一方に情報記録部を設けた光ディスクに
おいて、上記貼合せに紫外線架橋性ＨＭＡを用いたこと
を特徴とする光ディスク、並びに少なくとも一方に情報
記録部を設けた一対の基板に対し、一方の基板に紫外線
架橋性ＨＭＡを塗布し、ＵＶ照射した後塗布面に他方の
基板を貼合せることを特徴とする光ディスクの製造法を
提供するものである。

本発明で使用する紫外線架橋性ＨＭＡは、たとえばＨＭ
Ａベース成分、紫外線架橋性成分として１分子中に少な
くとも１個のＴりＩＪ　ロイル基を含有する飽和炭化水
素系樹脂オリゴマー、および光重合開始剤を必須とし、
更に必要に応じて通常の充填剤、老化防止剤、重合禁止
剤等を加えた系で構成され、その配合の中に、基板の浸
食を引き起したり、熱重合で増粘、ゲル化を引き起すラ
ジカル重合性モノマーは一切含まれていない。

上記ＨＭＡベース成分としては、常温で粘着性を有する
ものであって、式： ％式％ 〔式中、Ａは分子量２０００−１２５００（７）ポリス
チレンブロック、およびＢは分子［１０００〜２５００
００のポリブタジェンブロック、ポリイソプレンブロッ
クまたはエチレンブチレン共重合体ブロックである〕 で示されるブロック状熱可塑性エラストマーの１種また
は２種以上、またはこれに合成ゴム（ポリイソプレン、
スチレンゴム、ブタジェンゴム、ブチルゴムなど）、ポ
リオレフィンもしくはポリオレフィン系共重合体（ポリ
エチレン、ポリプロピレン、エチレン−ビニルアセテー
ト共重合体など）、更に粘着付与剤（ロジン樹脂、水添
石油樹脂、水添テルペン樹脂、フェノール樹脂、クマロ
ン樹脂など）、軟化剤（プロセス油、パラフィン油、ポ
リブテン、ポリイソブチレンなど）を適量加えたものが
好ましい。水添タイプの粘着付与剤は、相溶性が良（、
熱安定性に悪影響を及ぼさず、また吸水率が低いので良
好な耐食性をもたらす。

上記紫外線架橋性成分である１分子中に少なくとも１個
のアクロイル基を含有する飽和炭化水素系樹脂オリゴマ
ーとは、具体的に、１分子中に少なくとも１個の水酸基
もしくはカルボキシル基を含有する飽和炭化水素系樹脂
オリゴマー（水添ポリブタジェン、ポリブテン、水添ポ
リイソプレン、ポリインブチレンなど）のアクリレート
、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートまたは
エステルアクリレートを指称し、これらの１種または２
種以上を使用に供する。使用量は通常、ＨＭＡベース成
分１００部（重量部、以下同様）に対して５〜１００部
、好ましくは１０〜４０部の範囲で選定すればよい。５
部未満であると、紫外線照射による耐熱性向上の効果が
低く、また１００部を越えると、粘着性が低下する傾向
にある。

上記光重合開始剤としては、ＵＶ照射によりラジカルを
発生する通常の、たとえばベンゾインエーテル系（ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテルなど）、ベンゾフェノン系（ベンゾフェノン、ｐ
−メトキシベンゾフェノン、ｐ−ブロモベンゾフェノン
など）、アセトフェノン系（ベンジルメチルケタール、
２，２−ジェトキシアセトフェノン、１，１−ジクロロ
アセトフェノンなど）、チオキサントン系（２−クロロ
チオキサントンなど）が挙げられる。使用量は通常、Ｈ
ＭＡベース成分と紫外線架橋性成分の合計量に対して０
．５〜５重量％の範囲で選定すればよい。

本発明に係る光ディスクの製造法は、上記紫外線架橋性
ＨＭＡ（溶融粘度が一般に１２０℃で５０００〜５００
０００ｃｐｓに設定）を用い、これをＵＶ照射すること
を特徴とするもので、以下、添付図面に基づき説明する
。

第１図において、アクリル板、ポリカーボネート板、ア
モルファスポリオレフィン板、ガラス板等の基板１上に
、光学的に読み取り可能な情報記録部２を設け、さらに
その上に必要に応じて保護膜３を形成したデイ−スフ基
材（１〜３）に、通常８０−１６０℃の温度で溶融した
紫外線架橋性ＨＭＡ４を厚み１０〜５０μｍにて塗布し
、次いで２〜２０秒のＵＶ照射を行った後、これに同じ
ディスク基材（１′〜３′）を重ね合せて０．２〜２０
に７／ｃｄで圧締することにより、図示の本発明光ディ
スクが得られる。なお、かかる本発明光ディスクにあっ
て、従来の光ディスクと同様に、情報記録部（２，２’
）の一方および保護膜（３，３’）の両方もしくは一方
を省略してもよい。

次に実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。

実施例１ （１）紫外線架橋性ＨＭＡの調製 成分 ポリスチレン−エチレンブチレン共重合体ブロック状熱
可塑性エラストマー〔シェル化学（拗製、カリフレック
スＧＸ−１７２６）−−−２０部両末端アクリロイル基
（ウレタンアクリレートタイプ）含有水添ポリブタジェ
ンオリゴマー〔日本曹達（株）製、ＴＥＡ　！　−３０
００］　−−−２５部水添スチレン系粘着付与剤〔理化
バーキュレス（株）製、リガレッッ１０９４］　　　−
−−４０部ポリイソブチレン〔日本石油（株）製、テト
ラックス３Ｔ］　　　　　　　　　　　−−−１０部ベ
ンジルメチルケタール 株）製、イルガキュアー６５１］　　−−−　　３部上
記成分を一括混合して紫外線架橋性ＨＭＡ（１２０℃の
溶融粘度７００００ＣＩ）Ｓ）を得る。

（２）光ディスクの製造 ピット記録情報部を有する直径３０ｃｍの射出ア多すル
基板にアルミニウムを蒸着し、その上にエチレン−酢酸
ビニル共重合体系保護膜をコーティングした一対のディ
スクの一方に、ホットメルトロールコータを用いて上記
（１）の紫外線架橋性ＨＭＡを１２０℃の温度で３０μ
の厚さに塗布する。

次いで高圧水銀灯（　８’　Ｏ　Ｗ／ｃｍ　）により１
０Ｇのイスクを完成した。

比較例１ 実施例１において、 ＳＩＳゴム〔シェル化学（陳製、カリフレックスＴＲ−
１　１　０　７　３　　　　　　　　−−−３０部粘着
付与剤（安原油脂工業社製、クリアロンＰｉｏｓ）　　
　　　　　　　−−−ｓｏ部オイル〔シェル化学（株）
製、シェルフレックス３７１Ｎ）　　　　　　　　−−
−２０部老化防止剤（日本チバガイギー社製、イルガノ
ックス１０１０）　　　　　　　　　−−−　　２部カ
ラなる通常のＨＭＡを使用し、ホットメルトロールコー
タ−で塗布後、゛すぐに貼合せて光ディスクを完成した
。

比較例２ 実施例１において、２液室温硬化型のエポキシ接着剤を
゛使用し、塗布後２　Ｋ９／　ｃ４　（７）圧力で貼合
せ、接着剤が硬化するまで室温で２４時間静置し、光デ
ィスクを完成した。

上記実施例１．比較例１，２で得られた光ディスクの性
能評価結果を表１に示す。

表１

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明光ディスクの一例を示す断面図であって
、 １．１’：基板、２．２’：記録情報部、３．３’：保
護膜、４：接着剤。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一対の基板を貼合せて成り、両基板の少なくとも一
   方に情報記録部を設けた光ディスクにおいて、上記貼合
   せに紫外線架橋性ホットメルト型接着剤を用いたことを
   特徴とする光ディスク。 ２、紫外線架橋性ホットメルト型接着剤が、ホットメル
   ト型接着剤ベース成分、紫外線架橋性成分として１分子
   中に少なくとも１個のアクリロイル基を含有する飽和炭
   化水素系樹脂オリゴマー、および光重合開始剤から成る
   前記第１項記載の光ディスク。 ３、少なくとも一方に情報記録部を設けた一対の基板に
   対し、一方の基板に紫外線架橋性ホットメルト型接着剤
   を塗布し、紫外線照射した後塗布面に他方の基板を貼合
   せることを特徴とする光ディスクの製造法。