JPH01138137A - シリカガラスの製造法 - Google Patents
シリカガラスの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光学用、半導体工業用、電子工業用、理化学用
等に使用されるシリカガラスを製造する。
等に使用されるシリカガラスを製造する。
(従来の技術)
シリカガラスは耐熱性、耐食性および光学的性質に優れ
ていることから、半導体 製造に欠かせない重要な材料
であり、さらには光ファイバやIC製造用フォトマスク
基板、TPT基)反などに使用され、その用途はますま
す拡大されている。
ていることから、半導体 製造に欠かせない重要な材料
であり、さらには光ファイバやIC製造用フォトマスク
基板、TPT基)反などに使用され、その用途はますま
す拡大されている。
従来のシリカガラスの製造法には、天然石英を電気炉ま
たは酸水素炎により溶解する方法、あるいは四塩化ケイ
素を酸水素炎又はプラズマ炎中で高温酸化し溶解する方
法があるが、いずれの方法も製造工程に2000℃ある
いはそれ以上の高温を必要とするため大量のエネルギー
を消費し、また製造時にそのような高温に耐える材料が
必要であり、また高純度のものが得にくいなど経済的2
品質的にいくつかの問題点をもっている。
たは酸水素炎により溶解する方法、あるいは四塩化ケイ
素を酸水素炎又はプラズマ炎中で高温酸化し溶解する方
法があるが、いずれの方法も製造工程に2000℃ある
いはそれ以上の高温を必要とするため大量のエネルギー
を消費し、また製造時にそのような高温に耐える材料が
必要であり、また高純度のものが得にくいなど経済的2
品質的にいくつかの問題点をもっている。
これに対し、近年ゾル−ゲル法と呼ばれるシリカガラス
を低温で合成する方法が注目されている。その重要を簡
単に述べる。
を低温で合成する方法が注目されている。その重要を簡
単に述べる。
一般式Si (OR)、(R:アルキル基)で表わさ
れるシリコンアルキシド(本発明に於いては、その重縮
合物を含む)9例えば(RO)3Si・ [OS i
(OR)zl。・O5i(OR)s、 (n=o〜8
.R:アルキル基)に水(アルカリまたは酸でpHを調
整してもよい)を加え、加水分解し、シリカヒドロシル
(本発明に於いてはシリカゾルという)とする。この時
、シリコンアルコキシドと水が均一な系となる様、一般
には溶媒として適当なアルコールが添加されている。こ
のシリカゾルを静置、昇温、ゲル化剤の添加等によって
ゲル化させる。その後ゲルを蒸発乾燥することによりシ
リカ乾燥ゲルとする。この乾燥ゲルを適当な雰囲気中で
焼結することによりシリカガラスを得る。
れるシリコンアルキシド(本発明に於いては、その重縮
合物を含む)9例えば(RO)3Si・ [OS i
(OR)zl。・O5i(OR)s、 (n=o〜8
.R:アルキル基)に水(アルカリまたは酸でpHを調
整してもよい)を加え、加水分解し、シリカヒドロシル
(本発明に於いてはシリカゾルという)とする。この時
、シリコンアルコキシドと水が均一な系となる様、一般
には溶媒として適当なアルコールが添加されている。こ
のシリカゾルを静置、昇温、ゲル化剤の添加等によって
ゲル化させる。その後ゲルを蒸発乾燥することによりシ
リカ乾燥ゲルとする。この乾燥ゲルを適当な雰囲気中で
焼結することによりシリカガラスを得る。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造にはま
だ未解決の問題が残されている。
だ未解決の問題が残されている。
特にゲルを乾燥していく過程でゲルにクランクや割れが
発生し易く、クランクや割れのないモノリシックな大形
の乾燥ゲルを歩留り良く製造することが困難となること
である。
発生し易く、クランクや割れのないモノリシックな大形
の乾燥ゲルを歩留り良く製造することが困難となること
である。
本発明はクランクや割れの発生することのないシリカガ
ラスの製造法を提供するものである。
ラスの製造法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造法に
於て、ゾル調整時に、ポリメタクリル酸エステルを添加
することを特徴とするものである。
於て、ゾル調整時に、ポリメタクリル酸エステルを添加
することを特徴とするものである。
本発明において、シリコンアルコキシドのアルキル基に
ついて、特に制限はないが、加水分解のし易さ、ゲル化
時間の点から、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基を有するシリコンアルコキシドを使用することが好
ましい。シリコンアルコキシドに水又は水とアルコール
の混合溶液を加えて加水分解してシリカゾルを生成させ
る際、水、アルコール、又は水とアルコールの混合溶液
にあらかじめポリメタクリル酸エステルを添加、均一に
溶解させておく。
ついて、特に制限はないが、加水分解のし易さ、ゲル化
時間の点から、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基を有するシリコンアルコキシドを使用することが好
ましい。シリコンアルコキシドに水又は水とアルコール
の混合溶液を加えて加水分解してシリカゾルを生成させ
る際、水、アルコール、又は水とアルコールの混合溶液
にあらかじめポリメタクリル酸エステルを添加、均一に
溶解させておく。
ポリメタクリル酸エステルとしては、水と相溶性のある
有m溶媒に溶解するものが望ましい。ポリメタクリル酸
エステルのアルキル基としてはメチル基、エチル基等が
望ましい。
有m溶媒に溶解するものが望ましい。ポリメタクリル酸
エステルのアルキル基としてはメチル基、エチル基等が
望ましい。
添加するポリメタクリル酸エステルの分子量は、ポリメ
タクリル酸エステルを水、アルコール、又は水とアルコ
ールの混合溶液にあらかじめ添加、均一に溶解させてお
く点等を考慮して選定される。
タクリル酸エステルを水、アルコール、又は水とアルコ
ールの混合溶液にあらかじめ添加、均一に溶解させてお
く点等を考慮して選定される。
添加するポリメタクリル酸エステルの量は用いるシリコ
ンアルコキシドの種類等、及び加水分解速度によって適
宜調整できる。
ンアルコキシドの種類等、及び加水分解速度によって適
宜調整できる。
水と共に加える触媒は、塩基、酸等特に制限しないが、
ゲル化時間、また得られる乾燥ゲルの焼結のし易すさの
点から塩基の方が好ましい結果が得られる。水と共に加
えるアルコールについては特に制限しないが、水、アル
コキシドの両者に対する溶解性の点より。
ゲル化時間、また得られる乾燥ゲルの焼結のし易すさの
点から塩基の方が好ましい結果が得られる。水と共に加
えるアルコールについては特に制限しないが、水、アル
コキシドの両者に対する溶解性の点より。
メチルアルコール、エチルアルコール、t−プロピルア
ルコール、2−プロピルアルコール等のアルコール類を
使用するのが好ましい。
ルコール、2−プロピルアルコール等のアルコール類を
使用するのが好ましい。
シリカガラスは、上記のようにして調整したシリカゾル
をシャーレ等の容器に移し、室温〜70℃に保って、ゲ
ル化し1次いで室温以上の温度で数週間乾燥して、乾燥
ゲルとし。
をシャーレ等の容器に移し、室温〜70℃に保って、ゲ
ル化し1次いで室温以上の温度で数週間乾燥して、乾燥
ゲルとし。
更に公知の方法1例えば、空気中で1000〜1400
℃に昇温しで焼結することにより得られる。
℃に昇温しで焼結することにより得られる。
(作用)
ポリメタクリル酸エステルの添加効果の原因については
、詳細は不明であるが、ゾル中でのシリカ微粒子の生成
の制御、ゲル中でのこれらのシリカ微粒子間の結合、乾
燥過程でゲル中に発生する応力の緩和等に寄与し、ゲル
の大形化が可能となったものと考えられる。
、詳細は不明であるが、ゾル中でのシリカ微粒子の生成
の制御、ゲル中でのこれらのシリカ微粒子間の結合、乾
燥過程でゲル中に発生する応力の緩和等に寄与し、ゲル
の大形化が可能となったものと考えられる。
実施例 1
3モルのエチルアルコールにポリメタクリル酸メチルを
7.6g充分に溶解させた後、3モルの水と0.000
5モルのコリンを混合た。
7.6g充分に溶解させた後、3モルの水と0.000
5モルのコリンを混合た。
得られた溶液を1モルのシリコンメトキシド(Si (
OCH3) a)にゆっくりと加え、さらに充分混合し
シリカゾルを得た。これを直径150mmのテフロンで
コーティングしたガラス製シャーレに入れ、アルミ箔で
密封し、室温でゲル化した。その後、蓋に孔を開け25
0℃の恒温槽中で2週間乾燥し、その後120℃の恒温
槽に移して1日乾燥して、直径約120mmの乾燥ゲル
を得た。こうして得られた乾燥ゲルのかさ密度は約0.
6g/−であり、クランクや割れは全くなかった。
OCH3) a)にゆっくりと加え、さらに充分混合し
シリカゾルを得た。これを直径150mmのテフロンで
コーティングしたガラス製シャーレに入れ、アルミ箔で
密封し、室温でゲル化した。その後、蓋に孔を開け25
0℃の恒温槽中で2週間乾燥し、その後120℃の恒温
槽に移して1日乾燥して、直径約120mmの乾燥ゲル
を得た。こうして得られた乾燥ゲルのかさ密度は約0.
6g/−であり、クランクや割れは全くなかった。
得られたゲルを空気中1200°Cまで加熱焼結したと
ころ直径約801.厚さ5mmのクランクや割れのない
透明なシリカガラスが得られた。このシリカガラスは分
析の結果、そのシリカガラスと一致した。
ころ直径約801.厚さ5mmのクランクや割れのない
透明なシリカガラスが得られた。このシリカガラスは分
析の結果、そのシリカガラスと一致した。
実施例 2
ポリメタクリル酸メチル3.0gを3モルのメチルアル
コールに充分に溶解させた後、3モルの水、0.000
5モルのコリンとを混合した。以下実施例1と同様の操
作を行って乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルにはクラ
ンクや割れは全くなかった。
コールに充分に溶解させた後、3モルの水、0.000
5モルのコリンとを混合した。以下実施例1と同様の操
作を行って乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルにはクラ
ンクや割れは全くなかった。
実施例 3
ポリメタクリルアクリル酸メチル15.2 gを3モル
のメチルアルコールに充分に溶解させた後、3モルの水
、o、ooosモルのコリンとを混合した。以下実施例
1と同様の操作を行って乾燥ゲルを得た。得られた乾燥
ゲルにはクランクや割れは全くなかった。
のメチルアルコールに充分に溶解させた後、3モルの水
、o、ooosモルのコリンとを混合した。以下実施例
1と同様の操作を行って乾燥ゲルを得た。得られた乾燥
ゲルにはクランクや割れは全くなかった。
(発明の効果)
本発明によれば、クランクや割れのない大形のシリカガ
ラスをゾルケール法により容易に製造可能となる。その
大きさは基本的には制約がなく、形状も板状、棒状、管
状等のいずれでも製造できる。
ラスをゾルケール法により容易に製造可能となる。その
大きさは基本的には制約がなく、形状も板状、棒状、管
状等のいずれでも製造できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、シリコンアルコキシドを加水分解して シリカゾルとし、これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルと
し、次いで焼結するシリカガラスの製造法に於て、シリ
コンアルキシドを加水分解してシリカゾルとする段階で
、ポリメタクリル酸エステルを添加することを特徴とす
るシリカガラスの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29445387A JPH01138137A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | シリカガラスの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29445387A JPH01138137A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | シリカガラスの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01138137A true JPH01138137A (ja) | 1989-05-31 |
Family
ID=17807979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29445387A Pending JPH01138137A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | シリカガラスの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01138137A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5463568A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for measuring a distance of a route in a solid figure |
US6243096B1 (en) | 1997-10-17 | 2001-06-05 | Nec Corporation | Instruction input system with changeable cursor |
WO2005098553A3 (en) * | 2004-01-06 | 2007-03-08 | Aspen Aerogels Inc | Ormosil aerogels containing silicon bonded polymethacrylate |
US8044934B2 (en) | 2006-03-29 | 2011-10-25 | Denso Corporation | Operating device, image display system, map display controller and program for map display controller |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP29445387A patent/JPH01138137A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5463568A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for measuring a distance of a route in a solid figure |
US6243096B1 (en) | 1997-10-17 | 2001-06-05 | Nec Corporation | Instruction input system with changeable cursor |
WO2005098553A3 (en) * | 2004-01-06 | 2007-03-08 | Aspen Aerogels Inc | Ormosil aerogels containing silicon bonded polymethacrylate |
US8044934B2 (en) | 2006-03-29 | 2011-10-25 | Denso Corporation | Operating device, image display system, map display controller and program for map display controller |
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