JPH01133960A - タイル用釉薬 - Google Patents
タイル用釉薬Info
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- JPH01133960A JPH01133960A JP63166493A JP16649388A JPH01133960A JP H01133960 A JPH01133960 A JP H01133960A JP 63166493 A JP63166493 A JP 63166493A JP 16649388 A JP16649388 A JP 16649388A JP H01133960 A JPH01133960 A JP H01133960A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はタイル用釉薬に係り、特に内装用タイルを1回
の焼成のみで製造する、所謂−度焼きに用いるタイル用
釉薬に関する。
の焼成のみで製造する、所謂−度焼きに用いるタイル用
釉薬に関する。
[従来の技術]
従来より、内装用タイルは2回焼成過程を経る、所謂二
度焼により製造されている。即ち、従来の内装用タイル
は坏土の成形及び乾燥の後、第1回目の焼成(素焼き)
を行ない、冷却後、この素焼きタイルに釉掛けし、第2
回目の焼成を行うことにより製造されている。
度焼により製造されている。即ち、従来の内装用タイル
は坏土の成形及び乾燥の後、第1回目の焼成(素焼き)
を行ない、冷却後、この素焼きタイルに釉掛けし、第2
回目の焼成を行うことにより製造されている。
このように二度焼きする理由の一つとして、内装用タイ
ルは外装用タイルに比べ厚く釉掛けして(即ち、釉薬を
多量に掛け、釉の厚さを大きくして)光沢に富む施釉面
を形成する必要がある点が挙げられる。
ルは外装用タイルに比べ厚く釉掛けして(即ち、釉薬を
多量に掛け、釉の厚さを大きくして)光沢に富む施釉面
を形成する必要がある点が挙げられる。
即ち、仮に内装用タイルを一度焼きにて製造しようとし
て厚く釉掛けを行なうと、釉薬から大量の水分が坏土成
形体側に浸出する。しかして、釉薬に含まれる水分が坏
土成形体に少しでも過剰に吸収されると、該坏土成形体
が膨潤して変形してしまうのである。また、坏土成形体
は吸水量も少ないので、多量の泥葉釉を該成形体の上に
掛けても流れ落ちてしまい、釉固形分(グレーズ、gr
aze )を必要な量だけ成形体表面上に残留させるこ
とができない、この場合釉薬の水分を少なくすれば、厚
く釉掛けしても坏土成形体への吸収水量が少なくなり、
成形体の膨潤はある程度押えられ、また成形体表面上へ
の釉固形分の残留量も多くなるものの、従来の釉薬にお
いて水分を少なくして高比重としたものは同時に粘性も
高くなり。
て厚く釉掛けを行なうと、釉薬から大量の水分が坏土成
形体側に浸出する。しかして、釉薬に含まれる水分が坏
土成形体に少しでも過剰に吸収されると、該坏土成形体
が膨潤して変形してしまうのである。また、坏土成形体
は吸水量も少ないので、多量の泥葉釉を該成形体の上に
掛けても流れ落ちてしまい、釉固形分(グレーズ、gr
aze )を必要な量だけ成形体表面上に残留させるこ
とができない、この場合釉薬の水分を少なくすれば、厚
く釉掛けしても坏土成形体への吸収水量が少なくなり、
成形体の膨潤はある程度押えられ、また成形体表面上へ
の釉固形分の残留量も多くなるものの、従来の釉薬にお
いて水分を少なくして高比重としたものは同時に粘性も
高くなり。
成形体の表面全体に均一に施釉することが著しく困難に
なっていた。
なっていた。
なお、二度焼きする場合には、坏土成形体は素焼き品と
された後に釉掛けされているから、従来の泥漿釉を厚く
釉掛けしても該素焼き品には膨潤、変形は生じない、ま
た、泥漿軸中の水分が素早く吸収されるので、釉固形分
を厚く、しかも均一に素焼き品の表面に付着させること
ができる。
された後に釉掛けされているから、従来の泥漿釉を厚く
釉掛けしても該素焼き品には膨潤、変形は生じない、ま
た、泥漿軸中の水分が素早く吸収されるので、釉固形分
を厚く、しかも均一に素焼き品の表面に付着させること
ができる。
[発明が解決しようとする問題点]
以上の通り、従来の泥柴釉は、これを−度焼き方式にて
内装用タイルを製造する際の釉薬として使用すると、坏
土成形体が膨潤、変形してしまい、美麗な内装用タイル
を製造することはできなかった。また、釉薬も成形体か
ら流れ落ちてしまい、均一な施釉層を形成することがで
きなかった。
内装用タイルを製造する際の釉薬として使用すると、坏
土成形体が膨潤、変形してしまい、美麗な内装用タイル
を製造することはできなかった。また、釉薬も成形体か
ら流れ落ちてしまい、均一な施釉層を形成することがで
きなかった。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、−度焼きにて内装用タイルを製造することを
可能とするタイル用釉薬を提供するものである0本発明
のタイル用釉薬はフリットを含有する泥漿状のタイル用
釉薬であって、比重が1.7〜2.0.25℃における
粘度が5〜100cp (センチ・ポアズ)のものであ
る。
可能とするタイル用釉薬を提供するものである0本発明
のタイル用釉薬はフリットを含有する泥漿状のタイル用
釉薬であって、比重が1.7〜2.0.25℃における
粘度が5〜100cp (センチ・ポアズ)のものであ
る。
[作用]
かかる本発明のタイル用釉薬は、比重が1゜7〜2.0
と大きく固形分濃度が高いため、厚く釉掛けを行なった
場合でも、坏土成形体への吸収水量が少なく、従って、
坏土成形体が膨潤して変形することがなく、また、成形
体表面上への釉固形分の残留量も多く、−度に多量の釉
掛けをすることが可能である。しかも、本発明のタイル
用釉薬は粘度が5〜1oOcpと比較的低粘性であるた
め、容易に均一厚に施釉することができる。
と大きく固形分濃度が高いため、厚く釉掛けを行なった
場合でも、坏土成形体への吸収水量が少なく、従って、
坏土成形体が膨潤して変形することがなく、また、成形
体表面上への釉固形分の残留量も多く、−度に多量の釉
掛けをすることが可能である。しかも、本発明のタイル
用釉薬は粘度が5〜1oOcpと比較的低粘性であるた
め、容易に均一厚に施釉することができる。
以下、本発明の釉薬の特性による作用を、その好ましい
態様と共に詳細に説明する。
態様と共に詳細に説明する。
本発明のタイル用釉薬の比重は1.7〜2.0とする。
釉薬の比重を1.7以上とすると、釉薬の水分が少なく
なり、坏土成形体に過剰の水分が吸収されて、成形体が
膨潤して変形するのが防止される。また、多量の泥漿釉
を成形体上に掛けた場合、成形体表面上に必要量の釉固
形分を残留させることができ、厚掛けが可能とされる。
なり、坏土成形体に過剰の水分が吸収されて、成形体が
膨潤して変形するのが防止される。また、多量の泥漿釉
を成形体上に掛けた場合、成形体表面上に必要量の釉固
形分を残留させることができ、厚掛けが可能とされる。
釉薬の比重が1.7未満では釉薬中の水分が過多となり
、上記の膨潤、変形が生じ、厚掛けもできない、一方、
釉薬の比重が2.0を越えると、釉薬の水分量が不足し
、坏土成形体の弱い吸収率を十分に補うことができず、
平滑に厚掛けすることが困難となる。従って、本発明の
おいては、釉薬の比重は1.7〜2.0とする。
、上記の膨潤、変形が生じ、厚掛けもできない、一方、
釉薬の比重が2.0を越えると、釉薬の水分量が不足し
、坏土成形体の弱い吸収率を十分に補うことができず、
平滑に厚掛けすることが困難となる。従って、本発明の
おいては、釉薬の比重は1.7〜2.0とする。
また、本発明のタイル用釉薬の粘度は5〜100cpで
ある。粘度が100cpを越えると粘性が高すぎ、均一
かつ平滑な施釉面を得ることができない、一方、粘度が
5cp未溝のものは、上述のような好適な高比重範囲を
満足するのが困難である。従って、本発明においては、
釉薬の比重は5〜100cpとする。釉薬の特に好まし
い粘度は10〜40cpである。
ある。粘度が100cpを越えると粘性が高すぎ、均一
かつ平滑な施釉面を得ることができない、一方、粘度が
5cp未溝のものは、上述のような好適な高比重範囲を
満足するのが困難である。従って、本発明においては、
釉薬の比重は5〜100cpとする。釉薬の特に好まし
い粘度は10〜40cpである。
このような本発明の釉薬は、適当な組成のフリット、そ
の他長石、粘土、ジルコン(珪酸ジルコニウム)等を、
水、アルコール、その他適宜の液体に分散させて釉薬を
調製する際に、適当な分散剤を用いて比重、粘度を調整
することにより、容易に得ることができる。この場合、
分散剤としては、カルボン酸系分散剤、リン酸系分散剤
、フミン酸系分散剤等の一般に釉薬の分散剤として市販
されているものを用いることができる。市販されている
分散剤としては、例えば、特殊ポリカルボン酸型高分子
水溶液(KE−512瓦応化学工業株製)等が挙げられ
る。
の他長石、粘土、ジルコン(珪酸ジルコニウム)等を、
水、アルコール、その他適宜の液体に分散させて釉薬を
調製する際に、適当な分散剤を用いて比重、粘度を調整
することにより、容易に得ることができる。この場合、
分散剤としては、カルボン酸系分散剤、リン酸系分散剤
、フミン酸系分散剤等の一般に釉薬の分散剤として市販
されているものを用いることができる。市販されている
分散剤としては、例えば、特殊ポリカルボン酸型高分子
水溶液(KE−512瓦応化学工業株製)等が挙げられ
る。
本発明の釉薬を坏土成形体に釉掛けする方法としては幕
掛は法が好適、である。この幕掛は法は、坏土成形体を
連続的に搬送するコンベアの該搬送方向と交差する方向
に泥漿釉の水膜(カーテン)を形成し、坏土成形体をこ
の水膜の下をくぐらせて該成形体の上面に釉層を厚く形
成するものである。上記水膜を形成するために、コンベ
アの搬送面の上側には搬送方向と交差する方向に延在す
るスリット状開口を底面に有する流出−が設置され、泥
漿釉はこの流出−内において一定レベルとなるように供
本合される。
掛は法が好適、である。この幕掛は法は、坏土成形体を
連続的に搬送するコンベアの該搬送方向と交差する方向
に泥漿釉の水膜(カーテン)を形成し、坏土成形体をこ
の水膜の下をくぐらせて該成形体の上面に釉層を厚く形
成するものである。上記水膜を形成するために、コンベ
アの搬送面の上側には搬送方向と交差する方向に延在す
るスリット状開口を底面に有する流出−が設置され、泥
漿釉はこの流出−内において一定レベルとなるように供
本合される。
ところで、従来において内装用タイルを製造するに当り
、二度焼きを行なう理由として、次の理由もある。即ち
、前述の如く、外装用タイルに比べ、内装用タイルは厚
く釉掛けする必要があるのであるが、仮に一度焼きする
ために坏土成形体(圧粉体)に厚く釉掛けすると、焼成
過程において坏土から発生するガスが釉層を通過しにく
くなり、半溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り
、釉層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホール、
亀裂等の泡吹き現象と称される事態が生じてしまうので
ある。
、二度焼きを行なう理由として、次の理由もある。即ち
、前述の如く、外装用タイルに比べ、内装用タイルは厚
く釉掛けする必要があるのであるが、仮に一度焼きする
ために坏土成形体(圧粉体)に厚く釉掛けすると、焼成
過程において坏土から発生するガスが釉層を通過しにく
くなり、半溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破り
、釉層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホール、
亀裂等の泡吹き現象と称される事態が生じてしまうので
ある。
即ち、坏土成形体(素地)を焼成するプロセスにおいて
は、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の熱分解や有機物
質の燃焼に伴ってガスが発生する。このガス発生は、極
めてゆっくりと昇温する場合には700〜800℃程度
で完了するのであるが、ローラーハースキルン等を採用
する高生産効率製造法の下では昇温速度が大であり、上
記ガス発生反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超え
る領域にまでずれ込むようになる。殊に、成形体内部に
おいては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲温度
がttoo℃になってもガス発生反応が継続している場
合すらある。
は、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の熱分解や有機物
質の燃焼に伴ってガスが発生する。このガス発生は、極
めてゆっくりと昇温する場合には700〜800℃程度
で完了するのであるが、ローラーハースキルン等を採用
する高生産効率製造法の下では昇温速度が大であり、上
記ガス発生反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超え
る領域にまでずれ込むようになる。殊に、成形体内部に
おいては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲温度
がttoo℃になってもガス発生反応が継続している場
合すらある。
従来のタイル用釉薬においては、1ooo℃前後程度か
ら急速に軟化を開始し、溶融状態となってタイル素地表
面を覆うようになるのであるが、このように溶けた釉が
表面を覆った後でも前記の如く素地内部からガスが発生
してくることになると前記の泡吹き現象が生じてしまう
のである。
ら急速に軟化を開始し、溶融状態となってタイル素地表
面を覆うようになるのであるが、このように溶けた釉が
表面を覆った後でも前記の如く素地内部からガスが発生
してくることになると前記の泡吹き現象が生じてしまう
のである。
二度焼き方式によれば、素地は素焼品となっており、2
度目の焼成時には素地からのガス発生は無く、厚く釉掛
けしても泡吹き現象が発生せず、光沢に富み奇麗な平坦
施釉面を有する内装用タイルが製造される。
度目の焼成時には素地からのガス発生は無く、厚く釉掛
けしても泡吹き現象が発生せず、光沢に富み奇麗な平坦
施釉面を有する内装用タイルが製造される。
このように、従来の釉薬を用いて内装用タイルを一度焼
き方式にて製造しようとすると、泡吹き現象が生じ、お
よそ製品とするには適わない釉面となってしまう、この
ようなことからも従来では、内装用タイルは二度焼きに
よらざるを得す、それだけ焼成燃料コストが高く、焼成
の手間等も嵩み、生産性が低いものとなっていた。
き方式にて製造しようとすると、泡吹き現象が生じ、お
よそ製品とするには適わない釉面となってしまう、この
ようなことからも従来では、内装用タイルは二度焼きに
よらざるを得す、それだけ焼成燃料コストが高く、焼成
の手間等も嵩み、生産性が低いものとなっていた。
このような泡吹き現象を防止して、−度焼きにより良好
な厚掛けを可能とする釉薬として、全体として100重
量部の下記■〜■を含む成分と、この成分100重量部
に対して0〜15重量部の顔料を含むものが挙げられる
。
な厚掛けを可能とする釉薬として、全体として100重
量部の下記■〜■を含む成分と、この成分100重量部
に対して0〜15重量部の顔料を含むものが挙げられる
。
■ 5i02 55〜65重量%
A220310〜18重量%
Ca0 18〜25重量%
アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量%Z r 02
0 ” 10重量%82030〜2重量% MgO,Bad、SrO及びZ n Oc7) 1種又
は2種以上 合計でo−io重量%を含むフリット:
50〜80重量部 ■ 長石:10〜25重量部 ■ 粘土二0.5〜10重量部 ■ ジルコン二〇〜20重量部 ■ 珪砂10〜10重量部 ■ アルミナ:0〜5重量部 ■ 酸化チタン;0−10重量部 ■ 炭酸/ヘリウム:0〜10重量部 ■ 酸化亜鉛:0〜5重量部 上記組成のタイル用釉薬に含まれるフリットは、アルカ
リ金属の酸化物及びB2O3成分が微量であり、軟化開
始点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩慢であり
、軟化開始温度よりも相当高温にならないと素地表面を
全面的に、所謂べたっと覆うようにはならない。また、
フリット以外の成分も同様である。そのため、素地内部
からガスが発生しても、このガスはフリット粒子の間を
通り抜けて外部に容易に抜は出すことができるようにな
り、泡吹き現象が防止される。
0 ” 10重量%82030〜2重量% MgO,Bad、SrO及びZ n Oc7) 1種又
は2種以上 合計でo−io重量%を含むフリット:
50〜80重量部 ■ 長石:10〜25重量部 ■ 粘土二0.5〜10重量部 ■ ジルコン二〇〜20重量部 ■ 珪砂10〜10重量部 ■ アルミナ:0〜5重量部 ■ 酸化チタン;0−10重量部 ■ 炭酸/ヘリウム:0〜10重量部 ■ 酸化亜鉛:0〜5重量部 上記組成のタイル用釉薬に含まれるフリットは、アルカ
リ金属の酸化物及びB2O3成分が微量であり、軟化開
始点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩慢であり
、軟化開始温度よりも相当高温にならないと素地表面を
全面的に、所謂べたっと覆うようにはならない。また、
フリット以外の成分も同様である。そのため、素地内部
からガスが発生しても、このガスはフリット粒子の間を
通り抜けて外部に容易に抜は出すことができるようにな
り、泡吹き現象が防止される。
以下、上記組成の釉薬の各成分の作用をその好ましい態
様と共に詳細に説明する。
様と共に詳細に説明する。
まず、■フリットの成分について説明する。
■のフリットにおいて、S i 02 、 AQ203
は高軟化点フリットを構成する主成分であり、アルミノ
シリケート系ガラスの骨格部分を構成する。
は高軟化点フリットを構成する主成分であり、アルミノ
シリケート系ガラスの骨格部分を構成する。
また、CaOとアルカリ金属の酸化物(以下、R20と
略)とは、それぞれ上記アルミノシリケートのネットワ
ークを部分的に断ち切り、そのガラス化を促進し、軟化
開始温度を低下させる作用を有する。
略)とは、それぞれ上記アルミノシリケートのネットワ
ークを部分的に断ち切り、そのガラス化を促進し、軟化
開始温度を低下させる作用を有する。
上記■のフリットにおいて、その化学組成は、SiO2
が55〜65重量%(以下%と略)、A l 203が
to−18%、CaOが18〜25%、R20が0.5
〜4%であることが好適であり、それぞれ上記範囲を逸
脱するとフリットの軟化温度が過度に低くなって泡吹き
現象をもたらしたり、逆に軟化温度が過度に高くなって
素地焼成後においても釉が十分には溶けない事態が生じ
る。特に好ましい範囲は、S E O2は57〜62.
5%、A l 203は12〜16%、CaOは19〜
21%、R20は1〜3%である。
が55〜65重量%(以下%と略)、A l 203が
to−18%、CaOが18〜25%、R20が0.5
〜4%であることが好適であり、それぞれ上記範囲を逸
脱するとフリットの軟化温度が過度に低くなって泡吹き
現象をもたらしたり、逆に軟化温度が過度に高くなって
素地焼成後においても釉が十分には溶けない事態が生じ
る。特に好ましい範囲は、S E O2は57〜62.
5%、A l 203は12〜16%、CaOは19〜
21%、R20は1〜3%である。
Li2Oはなくてもよいが、二度焼に準する釉面の平滑
性を得るためには添加するのが好ましい。
性を得るためには添加するのが好ましい。
このLi2Oの含有%は0.5〜1.5%の範囲が好ま
しい、0.5%未満では平滑性の改善効果が少なく、1
.5%を超えると釉面にビンポールが出易くなる。
しい、0.5%未満では平滑性の改善効果が少なく、1
.5%を超えると釉面にビンポールが出易くなる。
■のフリットは、B201 、MgO,Z no、Sr
O及びBaOを含んでも良い、これらの酸化物を必要に
応じ含有させることにより、フリットの軟化点を低下さ
せることができる。これらの酸化物は、過度に多く含有
するとフリットの軟化点が過度に低下し、また軟化開始
後急速に7リフトの粘性を低下させるようになるので、
B201は2%以下とりわけ1%以下、MgOは5%以
下とりわけ3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以
下、SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%
以下とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、Mg
O,B ao、S ro及びZnOが合量でも10%以
下とする。
O及びBaOを含んでも良い、これらの酸化物を必要に
応じ含有させることにより、フリットの軟化点を低下さ
せることができる。これらの酸化物は、過度に多く含有
するとフリットの軟化点が過度に低下し、また軟化開始
後急速に7リフトの粘性を低下させるようになるので、
B201は2%以下とりわけ1%以下、MgOは5%以
下とりわけ3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以
下、SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%
以下とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、Mg
O,B ao、S ro及びZnOが合量でも10%以
下とする。
本発明のフリットは、素地の隠蔽力を付与するZ r
O2を10%以下含有していても良い。
O2を10%以下含有していても良い。
上記■のフリットは、さらに必要に応じ他のBaO等の
酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を含んでも良いが、
それらは含量でも3%以下とりわけ1%以下とするのが
好ましい。
酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を含んでも良いが、
それらは含量でも3%以下とりわけ1%以下とするのが
好ましい。
上記■のフリットは常法に従い、通常のフリット用原料
を調合及び溶融後、冷却し1次いで粉砕することにより
製造することができる。
を調合及び溶融後、冷却し1次いで粉砕することにより
製造することができる。
上記■の長石及び■の粘土は、それぞれ釉薬の融点を上
げる作用を有する。釉薬の好適な融点を得るために、長
石を10〜25重量部、とりわけ12〜18重量部、カ
オリン、蛙目等の粘土を0.5〜10重量部好ましくは
1〜3重量部とするのが好ましい。
げる作用を有する。釉薬の好適な融点を得るために、長
石を10〜25重量部、とりわけ12〜18重量部、カ
オリン、蛙目等の粘土を0.5〜10重量部好ましくは
1〜3重量部とするのが好ましい。
■ジルコン(珪酸ジルコニウム)は隠蔽力を付与する成
分であって、その配合量は0〜20重量部、好ましくは
10〜15重量部とする。
分であって、その配合量は0〜20重量部、好ましくは
10〜15重量部とする。
■珪砂、■アルミナ、■酸化チタン、■炭酸バリウム、
■酸化亜鉛は、釉薬の融点の調節、並びに、ブライトマ
ットの調整を行なう成分であって、それぞれ配合量は、
珪砂0〜10重量部、アルミナ0〜5重量部、酸化チタ
ン0〜10重量部、つ酸バリウム0−10重量部、酸化
亜鉛0〜5重量部とする。
■酸化亜鉛は、釉薬の融点の調節、並びに、ブライトマ
ットの調整を行なう成分であって、それぞれ配合量は、
珪砂0〜10重量部、アルミナ0〜5重量部、酸化チタ
ン0〜10重量部、つ酸バリウム0−10重量部、酸化
亜鉛0〜5重量部とする。
顔料は、タイルの施釉面の意匠性の向上の目的で、必要
に応じて配合される。顔料としてはタイル用に用いられ
る顔料であればいずれも使用することができ、その配合
量は、上記■〜■の成分の合計100重量部に対して、
0〜15重量部とする。
に応じて配合される。顔料としてはタイル用に用いられ
る顔料であればいずれも使用することができ、その配合
量は、上記■〜■の成分の合計100重量部に対して、
0〜15重量部とする。
[実施例]
以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさらに詳細に
説明する。
説明する。
なお、以下の実施例及び比較例において、タイル用の坏
土成形体としては次のものを用いた。
土成形体としては次のものを用いた。
即ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石灰石10
重量部及びシャモット5重量部をボールミルで粉砕、混
合し、水分を加え、350kg/Cmlで成形し、これ
を乾燥したものである。この成形体(素地)の大きさは
locmXlocmXO,5ctnである。
重量部及びシャモット5重量部をボールミルで粉砕、混
合し、水分を加え、350kg/Cmlで成形し、これ
を乾燥したものである。この成形体(素地)の大きさは
locmXlocmXO,5ctnである。
また、この成形体を焼成するには全長25mのローラー
ハースキルンを用い、走行速度1.0m7分、焼成帯最
高温度1190℃とした。
ハースキルンを用い、走行速度1.0m7分、焼成帯最
高温度1190℃とした。
実施例1〜8、比較例1〜5
原料として長石、珪石、石灰石を採用し、これらを乾燥
、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中で1400°C
にて1時間溶融した後急冷し、第1表に示す化学組成の
フリット陥、1〜3を調製した。
、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中で1400°C
にて1時間溶融した後急冷し、第1表に示す化学組成の
フリット陥、1〜3を調製した。
第1表 フリットの化学組成(重量%)このフリットを
用いて、長石、粘土、ジルコン等と共に第2表に示す配
合でボールミルにて混合し、これに水及びカルボン酸系
分散剤を第2表に示す量加え、更にボールミル中で混合
し、第2表に示す比重及び粘度の泥漿釉とした。この泥
漿釉を幕掛は法により前記成形体表面に、乾燥後の厚さ
が0.6mm程度となるように塗付し、乾燥後焼成した
。
用いて、長石、粘土、ジルコン等と共に第2表に示す配
合でボールミルにて混合し、これに水及びカルボン酸系
分散剤を第2表に示す量加え、更にボールミル中で混合
し、第2表に示す比重及び粘度の泥漿釉とした。この泥
漿釉を幕掛は法により前記成形体表面に、乾燥後の厚さ
が0.6mm程度となるように塗付し、乾燥後焼成した
。
焼成後、タイルを観察したところ、実施例1〜8のもの
はいずれも釉面は泡吹きも全くなく、平坦で光沢を帯び
、厚い釉薬層を有する高級感に富む内装用タイルである
ことが認められた。
はいずれも釉面は泡吹きも全くなく、平坦で光沢を帯び
、厚い釉薬層を有する高級感に富む内装用タイルである
ことが認められた。
一方、比較例1〜5のうち、比較例1〜4のものは焼成
中に泡が吹き、比較例5のものは光沢が不足し、いずれ
も−度焼きでは実使用に酎えないことが確認された。
中に泡が吹き、比較例5のものは光沢が不足し、いずれ
も−度焼きでは実使用に酎えないことが確認された。
[効果]
以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、本発明の
タイル用釉薬を用いることにより美麗な厚掛けした釉薬
層を有するタイルが一度焼きにして製造される。従って
1本発明のタイル用釉薬を採用することにより内装用タ
イルの製造コストが大幅に低減される。
タイル用釉薬を用いることにより美麗な厚掛けした釉薬
層を有するタイルが一度焼きにして製造される。従って
1本発明のタイル用釉薬を採用することにより内装用タ
イルの製造コストが大幅に低減される。
特許出願人 株式会社イナックス
代理人 弁理士 重 野 剛
Claims (1)
- (1)フリットを含有する泥漿状のタイル用釉薬におい
て、比重を1.7〜2.0、25℃における粘度を5〜
100cpとしたことを特徴とするタイル用釉薬。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63166493A JPH0667773B2 (ja) | 1987-08-10 | 1988-07-04 | タイル用釉薬 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19951087 | 1987-08-10 | ||
JP62-199510 | 1987-08-10 | ||
JP63166493A JPH0667773B2 (ja) | 1987-08-10 | 1988-07-04 | タイル用釉薬 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01133960A true JPH01133960A (ja) | 1989-05-26 |
JPH0667773B2 JPH0667773B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=26490847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63166493A Expired - Lifetime JPH0667773B2 (ja) | 1987-08-10 | 1988-07-04 | タイル用釉薬 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0667773B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0474732A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-10 | Ngk Insulators Ltd | 石模様ほうろう製品の製造方法 |
JPH04349144A (ja) * | 1991-05-24 | 1992-12-03 | Inax Corp | 超光沢釉 |
CN112624744A (zh) * | 2020-12-02 | 2021-04-09 | 广西欧神诺陶瓷有限公司 | 一种具有高底面粘结强度的瓷砖及其制备方法和应用 |
CN114956564A (zh) * | 2022-07-07 | 2022-08-30 | 深圳市国瓷永丰源瓷业有限公司 | 釉浆、施釉陶瓷及其制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5445318A (en) * | 1977-09-19 | 1979-04-10 | Teruko Tsuji | Method of making decorative porcelain |
-
1988
- 1988-07-04 JP JP63166493A patent/JPH0667773B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5445318A (en) * | 1977-09-19 | 1979-04-10 | Teruko Tsuji | Method of making decorative porcelain |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0474732A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-10 | Ngk Insulators Ltd | 石模様ほうろう製品の製造方法 |
JPH04349144A (ja) * | 1991-05-24 | 1992-12-03 | Inax Corp | 超光沢釉 |
CN112624744A (zh) * | 2020-12-02 | 2021-04-09 | 广西欧神诺陶瓷有限公司 | 一种具有高底面粘结强度的瓷砖及其制备方法和应用 |
CN114956564A (zh) * | 2022-07-07 | 2022-08-30 | 深圳市国瓷永丰源瓷业有限公司 | 釉浆、施釉陶瓷及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0667773B2 (ja) | 1994-08-31 |
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