JPH04349144A - 超光沢釉 - Google Patents
超光沢釉Info
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- JPH04349144A JPH04349144A JP12008391A JP12008391A JPH04349144A JP H04349144 A JPH04349144 A JP H04349144A JP 12008391 A JP12008391 A JP 12008391A JP 12008391 A JP12008391 A JP 12008391A JP H04349144 A JPH04349144 A JP H04349144A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光沢度が極めて高い超光
沢釉に関する。
沢釉に関する。
【０００２】
【従来の技術】表面に釉層が形成されたタイルは、一般
に、その釉層表面の光沢度が高いもの程、高級感に富み
、美麗で高品質のものと評価される。即ち、例えば、白
色釉層が形成されたものにあっては、その白色度が高い
もの程、商品価値が高い。
に、その釉層表面の光沢度が高いもの程、高級感に富み
、美麗で高品質のものと評価される。即ち、例えば、白
色釉層が形成されたものにあっては、その白色度が高い
もの程、商品価値が高い。
【０００３】従来、光沢度が比較的高い釉薬として、例
えば次のような組成のものが提案されている。 Ｋ２ Ｏ：０．１０モル部 Ｎａ２ Ｏ：０．１０モル部 Ｌｉ２ Ｏ：０．１０モル部 ＣａＯ：０．４５モル部 ＭｇＯ：０．０５モル部 ＳｒＯ：０モル部 Ａｌ２ Ｏ３ ：０．１０モル部 ＺｎＯ：０．２０モル部 Ｂ２ Ｏ３ ：０．２０モル部 ＳｉＯ２ ：１．５０モル部 ＺｒＯ２ ：０．１５モル部
えば次のような組成のものが提案されている。 Ｋ２ Ｏ：０．１０モル部 Ｎａ２ Ｏ：０．１０モル部 Ｌｉ２ Ｏ：０．１０モル部 ＣａＯ：０．４５モル部 ＭｇＯ：０．０５モル部 ＳｒＯ：０モル部 Ａｌ２ Ｏ３ ：０．１０モル部 ＺｎＯ：０．２０モル部 Ｂ２ Ｏ３ ：０．２０モル部 ＳｉＯ２ ：１．５０モル部 ＺｒＯ２ ：０．１５モル部
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の釉薬でも十分な光沢度は得られておらず、光沢度の
より一層の向上が望まれているのが現状である。即ち、
光沢度の低下の理由は、施釉後のタイル焼成時に、タイ
ル素地から発生するガス成分が、釉層を通り抜け、この
際に、釉層表面に微細な凹凸（ピンホール及びダク）が
形成されることによるが、従来の釉層では、タイル素地
からのガス成分の通り抜けを十分に防止することができ
ず、このため光沢度の低下を招いていた。
来の釉薬でも十分な光沢度は得られておらず、光沢度の
より一層の向上が望まれているのが現状である。即ち、
光沢度の低下の理由は、施釉後のタイル焼成時に、タイ
ル素地から発生するガス成分が、釉層を通り抜け、この
際に、釉層表面に微細な凹凸（ピンホール及びダク）が
形成されることによるが、従来の釉層では、タイル素地
からのガス成分の通り抜けを十分に防止することができ
ず、このため光沢度の低下を招いていた。
【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決し、光沢
度の極めて高い超光沢釉を提供することを目的とする。
度の極めて高い超光沢釉を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の超光沢釉は、
下記組成のフリット８０〜９５重量部と、粘土２０〜５
重量部とを配合してなることを特徴とする。 Ｋ２ Ｏ：０．１５〜０．２０
モル部Ｎａ２ Ｏ：０〜０．０５
モル部Ｌｉ２ Ｏ：０．０５〜
０．４０ モル部ＣａＯ：０．
４０〜０．６０ モル部Ｍ
ｇＯ：０．０５〜０．１５
モル部ＳｒＯ：０〜０．０２
モル部Ａｌ２ Ｏ３ ：０．０５〜
０．２０ モル部ＺｎＯ：０〜０．
１０ モル部
Ｂ２ Ｏ３ ：０〜０．１０
モル部ＺｎＯ＋Ｂ２ Ｏ３ ：０〜０．１
５ モル部ＳｉＯ２ ：０．９０〜
３．００ モル部ＺｒＯ２ ：
０〜０．５０ モ
ル部請求項２の超光沢釉は、請求項１の釉１００重量部
に対し顔料を２０重量部以下加えてなることを特徴とす
る。
下記組成のフリット８０〜９５重量部と、粘土２０〜５
重量部とを配合してなることを特徴とする。 Ｋ２ Ｏ：０．１５〜０．２０
モル部Ｎａ２ Ｏ：０〜０．０５
モル部Ｌｉ２ Ｏ：０．０５〜
０．４０ モル部ＣａＯ：０．
４０〜０．６０ モル部Ｍ
ｇＯ：０．０５〜０．１５
モル部ＳｒＯ：０〜０．０２
モル部Ａｌ２ Ｏ３ ：０．０５〜
０．２０ モル部ＺｎＯ：０〜０．
１０ モル部
Ｂ２ Ｏ３ ：０〜０．１０
モル部ＺｎＯ＋Ｂ２ Ｏ３ ：０〜０．１
５ モル部ＳｉＯ２ ：０．９０〜
３．００ モル部ＺｒＯ２ ：
０〜０．５０ モ
ル部請求項２の超光沢釉は、請求項１の釉１００重量部
に対し顔料を２０重量部以下加えてなることを特徴とす
る。
【０００７】以下に本発明を詳細に説明する。まず、本
発明の超光沢釉を構成するフリットの組成の限定理由に
ついて説明する。
発明の超光沢釉を構成するフリットの組成の限定理由に
ついて説明する。
【０００８】Ｌｉ２ Ｏが０．０５モル部未満では、鏡
面ガラス層の釉薬が得られず、０．４０モル部を超える
と耐火度の低下により、脱色及びピンホール、ダクの形
成が促進される。従って、Ｌｉ２ Ｏは０．０５〜０．
４０モル部とする。
面ガラス層の釉薬が得られず、０．４０モル部を超える
と耐火度の低下により、脱色及びピンホール、ダクの形
成が促進される。従って、Ｌｉ２ Ｏは０．０５〜０．
４０モル部とする。
【０００９】ＺｎＯとＢ２ Ｏ３ はその含量が０．１
５モル部を超えると高溶融粘性の釉薬が得られない。従
って、ＺｎＯ＋Ｂ２ Ｏ３ は０〜０．１５モル部とす
る。なお、ＺｎＯは０．１０モル部を超えるとダク面形
成が促進され、またＢ２ Ｏ３ は０．１０モル部を超
えると微細な穴が形成されるので、ＺｎＯ、Ｂ２ Ｏ３
はそれぞれ０〜０．１０モル部、０〜０．１０モル部
とする。
５モル部を超えると高溶融粘性の釉薬が得られない。従
って、ＺｎＯ＋Ｂ２ Ｏ３ は０〜０．１５モル部とす
る。なお、ＺｎＯは０．１０モル部を超えるとダク面形
成が促進され、またＢ２ Ｏ３ は０．１０モル部を超
えると微細な穴が形成されるので、ＺｎＯ、Ｂ２ Ｏ３
はそれぞれ０〜０．１０モル部、０〜０．１０モル部
とする。
【００１０】Ｋ２ Ｏが０．１５モル部未満では溶融粘
性の低下により、ピンホールが発生しやすく、０．２０
モル部を超えると耐火度アップによる失透並びに大幅な
コストアップにつながる。従って、Ｋ２ Ｏは０．１５
〜０．２０モル部とする。Ｎａ２ Ｏが０．０５モル部
を超えると溶融粘性の低下により、ピンホールが増加す
る。 従って、Ｎａ２ Ｏは０〜０．０５モル部とする。
性の低下により、ピンホールが発生しやすく、０．２０
モル部を超えると耐火度アップによる失透並びに大幅な
コストアップにつながる。従って、Ｋ２ Ｏは０．１５
〜０．２０モル部とする。Ｎａ２ Ｏが０．０５モル部
を超えると溶融粘性の低下により、ピンホールが増加す
る。 従って、Ｎａ２ Ｏは０〜０．０５モル部とする。
【００１１】ＣａＯが０．４０モル部未満では釉面光沢
の低下があり、０．６０モル部を超えると釉のスリップ
の粘性が上がり作業性が低下する。従って、ＣａＯは０
．４０〜０．６０モル部とする。ＭｇＯが０．０５モル
部未満では釉面光沢の低下があり、０．１５モル部を超
えるとマット傾向を示す。従って、ＭｇＯは０．０５〜
０．１５モル部とする。ＳｒＯが０．０２モル部を超え
るとコストアップになる。従って、ＳｒＯは０〜０．０
２モル部とする。
の低下があり、０．６０モル部を超えると釉のスリップ
の粘性が上がり作業性が低下する。従って、ＣａＯは０
．４０〜０．６０モル部とする。ＭｇＯが０．０５モル
部未満では釉面光沢の低下があり、０．１５モル部を超
えるとマット傾向を示す。従って、ＭｇＯは０．０５〜
０．１５モル部とする。ＳｒＯが０．０２モル部を超え
るとコストアップになる。従って、ＳｒＯは０〜０．０
２モル部とする。
【００１２】Ａｌ２ Ｏ３ が０．０５モル部未満では
耐火度の低下により、ピンホールが発生し、０．２０モ
ル部を超えると耐火度アップにより、釉面光沢が低下す
る。 従って、Ａｌ２ Ｏ３ は０．０５〜０．２０モル部と
する。ＳｉＯ２ が０．９０モル部未満では高熱膨張と
なり、耐貫入性が問題となり、３．００モル部を超える
と低熱膨張となり凸反りが発生する。従って、ＳｉＯ２
は０．９０〜３．００モル部とする。ＺｒＯ２ が０．
５０モル部を超えると釉面光沢の低下がある。従って、
ＺｒＯ２ は０〜０．５０モル部とする。
耐火度の低下により、ピンホールが発生し、０．２０モ
ル部を超えると耐火度アップにより、釉面光沢が低下す
る。 従って、Ａｌ２ Ｏ３ は０．０５〜０．２０モル部と
する。ＳｉＯ２ が０．９０モル部未満では高熱膨張と
なり、耐貫入性が問題となり、３．００モル部を超える
と低熱膨張となり凸反りが発生する。従って、ＳｉＯ２
は０．９０〜３．００モル部とする。ＺｒＯ２ が０．
５０モル部を超えると釉面光沢の低下がある。従って、
ＺｒＯ２ は０〜０．５０モル部とする。
【００１３】このような組成のフリットと粘土との配合
は、フリットが多過ぎると釉の沈澱が発生する。逆に、
少な過ぎると超光沢の釉面が得られないので、フリット
８０〜９５重量部に対して粘土２０〜５重量部とする。
は、フリットが多過ぎると釉の沈澱が発生する。逆に、
少な過ぎると超光沢の釉面が得られないので、フリット
８０〜９５重量部に対して粘土２０〜５重量部とする。
【００１４】請求項２の超光沢釉において、使用される
顔料としては特に制限はなく、通常の着色釉に使用され
るものを用いることができるが、その含有割合が請求項
１の釉１００重量部に対して２０重量部を超えると耐火
度アップにより、超光沢の釉面が得られないことから、
２０重量部以下とする。
顔料としては特に制限はなく、通常の着色釉に使用され
るものを用いることができるが、その含有割合が請求項
１の釉１００重量部に対して２０重量部を超えると耐火
度アップにより、超光沢の釉面が得られないことから、
２０重量部以下とする。
【００１５】このような本発明の超光沢釉を用いて施釉
タイルを製造する場合、その製造条件として下記のよう
な条件を採用するのが好ましい。
タイルを製造する場合、その製造条件として下記のよう
な条件を採用するのが好ましい。
【００１６】まず、施釉条件として、通常の釉掛け条件
よりも厚掛け条件にて施釉を行なうのが好ましい。因み
に、従来の釉掛け条件は、乾燥釉換算で、１００ｍｍ×
１００ｍｍの角タイルに対して６．０〜８．０ｇ程度で
あるが、本発明の超光沢釉を用いる場合、乾燥釉換算で
、１００ｍｍ×１００ｍｍの角タイルに対して７．０〜
１１．０ｇ程度とするのが好ましい。このような厚掛け
条件を採用することにより、焼成時にタイル素地から発
生するガス成分の釉層通り抜けをより一層確実に防止す
ることができ、著しく光沢度の高い施釉表面が得られる
。更に、焼成過程において、低温から溶融状態を促進す
るため、平滑な釉面が得られる。
よりも厚掛け条件にて施釉を行なうのが好ましい。因み
に、従来の釉掛け条件は、乾燥釉換算で、１００ｍｍ×
１００ｍｍの角タイルに対して６．０〜８．０ｇ程度で
あるが、本発明の超光沢釉を用いる場合、乾燥釉換算で
、１００ｍｍ×１００ｍｍの角タイルに対して７．０〜
１１．０ｇ程度とするのが好ましい。このような厚掛け
条件を採用することにより、焼成時にタイル素地から発
生するガス成分の釉層通り抜けをより一層確実に防止す
ることができ、著しく光沢度の高い施釉表面が得られる
。更に、焼成過程において、低温から溶融状態を促進す
るため、平滑な釉面が得られる。
【００１７】また、焼成条件として、焼成時間を短縮し
て迅速焼成条件を採用するのが好ましい。焼成はローラ
ーハースキルンにて１０７０〜１１５０℃で１５〜４０
分程度とするのが好ましい。
て迅速焼成条件を採用するのが好ましい。焼成はローラ
ーハースキルンにて１０７０〜１１５０℃で１５〜４０
分程度とするのが好ましい。
【００１８】このような迅速焼成を行なうことにより、
タイル素地の色が釉層に浸出するのが防止され、特に白
色釉にあっては、より一層白色度の高い施釉表面が得ら
れる。
タイル素地の色が釉層に浸出するのが防止され、特に白
色釉にあっては、より一層白色度の高い施釉表面が得ら
れる。
【００１９】
【作用】釉薬を構成するフリット中のＬｉ２ Ｏ量を０
．０５〜０．４０モル部、ＺｎＯとＢ２ Ｏ３ を合量
で０〜０．１５モル部とすることにより、著しく溶融粘
性の高い釉薬が提供される。
．０５〜０．４０モル部、ＺｎＯとＢ２ Ｏ３ を合量
で０〜０．１５モル部とすることにより、著しく溶融粘
性の高い釉薬が提供される。
【００２０】ところで、前述の如く、釉層の光沢度は、
焼成時にタイル素地から発生したガス成分が、釉層を通
り抜けて、施釉表面に微細な凹凸が形成されることによ
る。
焼成時にタイル素地から発生したガス成分が、釉層を通
り抜けて、施釉表面に微細な凹凸が形成されることによ
る。
【００２１】これに対して、本発明の超光沢釉は、上述
の如く、溶融粘性が高いため、上記ガス成分が通り抜け
ることが殆どなく、更に、フリット生産の焼結温度が、
実生産のローラーハースキルンよりも高いため、釉薬か
らのガス成分の放出が殆どないことから、本焼表面に凹
凸が形成されることがなく、超平滑表面の本焼表面とな
る。このため、顔料を含まない釉にあっては著しく白色
度の高い超白色釉が、また、顔料を含む釉にあってはそ
の色調において、著しく光沢度の高い釉が提供される。
の如く、溶融粘性が高いため、上記ガス成分が通り抜け
ることが殆どなく、更に、フリット生産の焼結温度が、
実生産のローラーハースキルンよりも高いため、釉薬か
らのガス成分の放出が殆どないことから、本焼表面に凹
凸が形成されることがなく、超平滑表面の本焼表面とな
る。このため、顔料を含まない釉にあっては著しく白色
度の高い超白色釉が、また、顔料を含む釉にあってはそ
の色調において、著しく光沢度の高い釉が提供される。
【００２２】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２３】実施例１〜６、比較例１〜６表１に示す配
合のフリット９５重量部と粘土５重量部とを調合し、平
均粒径５μｍに細磨した釉薬を、タイル素地に釉層厚さ
２５０μｍで施釉した後、ローラーハースキルンにて１
１２２℃で３０分間焼成した。得られた施釉タイルにつ
いて、白色度を評価し、結果を表１に示した。なお、評
価基準は次の通りである。 ○ 白色度が著しく高い。 △ 白色度が非常に高い。 × 白色度が低い。
合のフリット９５重量部と粘土５重量部とを調合し、平
均粒径５μｍに細磨した釉薬を、タイル素地に釉層厚さ
２５０μｍで施釉した後、ローラーハースキルンにて１
１２２℃で３０分間焼成した。得られた施釉タイルにつ
いて、白色度を評価し、結果を表１に示した。なお、評
価基準は次の通りである。 ○ 白色度が著しく高い。 △ 白色度が非常に高い。 × 白色度が低い。
【００２４】
【表１】
【００２５】表１より、次のことが明らかである。即ち
、フリット中のＬｉ２ Ｏ量を増量してゆくと、Ｌｉ２
Ｏモル部０．０７から光沢及び白色度の向上がみられ
る。また、ＺｎＯとＢ２ Ｏ３ 量を減量すると共に、
Ｌｉ２ Ｏ量を増量してゆくとより顕著な結果が表れる
。フリット中のＬｉ２ Ｏ量は０．０５モル部以上、Ｚ
ｎＯとＢ２Ｏ３ は合量で０．１５モル部以下で良好な
結果が得られた。
、フリット中のＬｉ２ Ｏ量を増量してゆくと、Ｌｉ２
Ｏモル部０．０７から光沢及び白色度の向上がみられ
る。また、ＺｎＯとＢ２ Ｏ３ 量を減量すると共に、
Ｌｉ２ Ｏ量を増量してゆくとより顕著な結果が表れる
。フリット中のＬｉ２ Ｏ量は０．０５モル部以上、Ｚ
ｎＯとＢ２Ｏ３ は合量で０．１５モル部以下で良好な
結果が得られた。
【００２６】なお、実施例６で得られた施釉タイルにつ
いて、分光光度計にて＊Ｌ（明度）、＊ａ、＊ｂ（色相
）を測定し、従来一般に提供されている白色釉による場
合の測定結果と比較した結果を表２に示す。
いて、分光光度計にて＊Ｌ（明度）、＊ａ、＊ｂ（色相
）を測定し、従来一般に提供されている白色釉による場
合の測定結果と比較した結果を表２に示す。
【００２７】
【表２】
【００２８】表２より明らかなように、実施例６のもの
は、従来に比べて＊Ｌが高く、また＊ａ、＊ｂが０に近
く、著しく白色度が高い。
は、従来に比べて＊Ｌが高く、また＊ａ、＊ｂが０に近
く、著しく白色度が高い。
【００２９】
【発明の効果】以上詳述した通り、請求項１の超光沢釉
によれば、白色度の極めて高い超光沢釉が提供される。 また、請求項２の超光沢釉によれば、光沢度の極めて高
い超光沢釉が提供される。従って、本発明の超光沢釉に
よれば、美麗で高級感のある本焼表面を有する、商品価
値の高い本焼タイルを提供することが可能とされる。
によれば、白色度の極めて高い超光沢釉が提供される。 また、請求項２の超光沢釉によれば、光沢度の極めて高
い超光沢釉が提供される。従って、本発明の超光沢釉に
よれば、美麗で高級感のある本焼表面を有する、商品価
値の高い本焼タイルを提供することが可能とされる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記組成のフリット８０〜９５重量部
と、粘土２０〜５重量部とを配合してなる超光沢釉。 Ｋ２ Ｏ：０．１５〜０．２０
モル部Ｎａ２ Ｏ：０〜０．０５
モル部Ｌｉ２ Ｏ：０．０５〜
０．４０ モル部ＣａＯ：０．
４０〜０．６０ モル部Ｍ
ｇＯ：０．０５〜０．１５
モル部ＳｒＯ：０〜０．０２
モル部Ａｌ２ Ｏ３ ：０．０５〜
０．２０ モル部ＺｎＯ：０〜０．
１０ モル部
Ｂ２ Ｏ３ ：０〜０．１０
モル部ＺｎＯ＋Ｂ２ Ｏ３ ：０〜０．１
５ モル部ＳｉＯ２ ：０．９０〜
３．００ モル部ＺｒＯ２ ：
０〜０．５０ モ
ル部 - 【請求項２】 請求項１の釉１００重量部に対し
顔料を２０重量部以下加えてなる超光沢釉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12008391A JPH04349144A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 超光沢釉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12008391A JPH04349144A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 超光沢釉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04349144A true JPH04349144A (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=14777486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12008391A Pending JPH04349144A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 超光沢釉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04349144A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05279081A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-10-26 | Narumi China Corp | 無鉛フリット釉 |
| US5362687A (en) * | 1992-02-04 | 1994-11-08 | Narumi China Corporation | Lead-free frit glaze |
| WO1999061392A1 (fr) * | 1998-05-27 | 1999-12-02 | Toto Ltd. | Appareils sanitaires en ceramique et procede de production associe |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6442340A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Inax Corp | Frit for tile glaze |
| JPS6442342A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Inax Corp | Glaze for tile |
| JPH01133960A (ja) * | 1987-08-10 | 1989-05-26 | Inax Corp | タイル用釉薬 |
-
1991
- 1991-05-24 JP JP12008391A patent/JPH04349144A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6442340A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Inax Corp | Frit for tile glaze |
| JPS6442342A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Inax Corp | Glaze for tile |
| JPH01133960A (ja) * | 1987-08-10 | 1989-05-26 | Inax Corp | タイル用釉薬 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH05279081A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-10-26 | Narumi China Corp | 無鉛フリット釉 |
| US5362687A (en) * | 1992-02-04 | 1994-11-08 | Narumi China Corporation | Lead-free frit glaze |
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| EP1176130A2 (en) * | 1998-05-27 | 2002-01-30 | Toto Ltd. | Sanitary ware and process for producing the same |
| EP1176129A2 (en) * | 1998-05-27 | 2002-01-30 | Toto Ltd. | Sanitary ware and process for producing the same |
| EP1176130A3 (en) * | 1998-05-27 | 2002-03-20 | Toto Ltd. | Sanitary ware and process for producing the same |
| EP1176129A3 (en) * | 1998-05-27 | 2002-03-20 | Toto Ltd. | Sanitary ware and process for producing the same |
| US6699606B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-03-02 | Toto Ltd. | Sanitary ware and process for producing the same |
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