JPH01124949A - 二次電子検出器 - Google Patents
二次電子検出器Info
- Publication number
- JPH01124949A JPH01124949A JP62283840A JP28384087A JPH01124949A JP H01124949 A JPH01124949 A JP H01124949A JP 62283840 A JP62283840 A JP 62283840A JP 28384087 A JP28384087 A JP 28384087A JP H01124949 A JPH01124949 A JP H01124949A
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- grid
- secondary electrons
- scintillator
- objective lens
- electric field
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- Granted
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
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- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
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Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【概要〕
本発明は二次電子検出器、特に電子ビームを照射した試
料から放出される二次電子の検出手段に関し、 分析グリッドを通過した低エネルギーの二次電子を対物
レンズ等にリークさせることなく、シンチレータの加速
電界領域内に突入させて、それを捕捉することを目的と
し、 電子ビームを試料に照射する電子源と、試料より放出さ
れる二次電子を集束する対物レンズと、対物レンズの上
部に設けられる分析グリッドと二次電子の発散を囲繞す
る円筒状のコレクタグリッド及び円形状の上部リフレク
タグリッドと、二次電子を光信号に変換するシンチレー
タと、光信号を伝送するライトガイドとを具備する二次
電子検出器において、 前記円筒状のコレクタグリッドと、対物レンズ上部の分
析グリッドとの間に負電位を印加する円形状の下部リフ
レクタグリッドを設けていることを含み構成する。
料から放出される二次電子の検出手段に関し、 分析グリッドを通過した低エネルギーの二次電子を対物
レンズ等にリークさせることなく、シンチレータの加速
電界領域内に突入させて、それを捕捉することを目的と
し、 電子ビームを試料に照射する電子源と、試料より放出さ
れる二次電子を集束する対物レンズと、対物レンズの上
部に設けられる分析グリッドと二次電子の発散を囲繞す
る円筒状のコレクタグリッド及び円形状の上部リフレク
タグリッドと、二次電子を光信号に変換するシンチレー
タと、光信号を伝送するライトガイドとを具備する二次
電子検出器において、 前記円筒状のコレクタグリッドと、対物レンズ上部の分
析グリッドとの間に負電位を印加する円形状の下部リフ
レクタグリッドを設けていることを含み構成する。
本発明は二次電子検出器に関するものであり、更に詳し
く言えば電子ビームを照射した試料から放出される二次
電子の検出手段に関するものである。
く言えば電子ビームを照射した試料から放出される二次
電子の検出手段に関するものである。
第3.4図は従来例に係る説明図である。
第3図は二次電子検出器の構成を説明する模式図である
0図において、lは試料、2は電子ビーム2aを試料1
に照射する電子源、3は二次電子2b、2cを光軸に集
束させる対物レンズ、4はシンチレータ電圧E+ (
10,KV程度)を印加して、二次電子2b、2cを蛍
光物質に衝突させることにより光信号9に変換するシン
チレータである。
0図において、lは試料、2は電子ビーム2aを試料1
に照射する電子源、3は二次電子2b、2cを光軸に集
束させる対物レンズ、4はシンチレータ電圧E+ (
10,KV程度)を印加して、二次電子2b、2cを蛍
光物質に衝突させることにより光信号9に変換するシン
チレータである。
5はコレクタ電圧E8 (−数+V−OV程度)を印加
して、二次電子2b、2cを各シンチレータ(4ケ所)
に導くコレクタグリッドであり、その形状を金属製の円
筒により形成されその側面に開口部を設けその開口部毎
に二次電子2b、2cを捕捉するシンチレータ4を有し
ている。
して、二次電子2b、2cを各シンチレータ(4ケ所)
に導くコレクタグリッドであり、その形状を金属製の円
筒により形成されその側面に開口部を設けその開口部毎
に二次電子2b、2cを捕捉するシンチレータ4を有し
ている。
6はリフレクタ電圧Es(−数十ボルト程度)を印加し
て高エネルギーの二次電子2bをコレクタグリッド5の
中央附近に追い返すリフレクタグリッドである。
て高エネルギーの二次電子2bをコレクタグリッド5の
中央附近に追い返すリフレクタグリッドである。
7は光信号9を不図示の光電子倍増部に導くライトガイ
ド、8はコレクタグリッド5の開口部附近にシンチレー
タ電圧E1により分布する加速電界領域である。9は高
エネルギーの二次電子2bや、低ネルギーの二次電子2
cに比例し、蛍光物質を介して発光する信号である。な
お、lOは二次電子2b、2cのエネルギー分析条件を
与える分析電圧を印加する分析グリッドである。これ等
により二次電子検出器を構成する。
ド、8はコレクタグリッド5の開口部附近にシンチレー
タ電圧E1により分布する加速電界領域である。9は高
エネルギーの二次電子2bや、低ネルギーの二次電子2
cに比例し、蛍光物質を介して発光する信号である。な
お、lOは二次電子2b、2cのエネルギー分析条件を
与える分析電圧を印加する分析グリッドである。これ等
により二次電子検出器を構成する。
次にその動作を説明すると、まず電子源2より発射され
た電子ビーム2aを試料lに照射する。
た電子ビーム2aを試料lに照射する。
次いで試料lのアルミ配線等より放出される二次電子2
b、2cを対物レンズ3により一旦光軸に集束し、不図
示のエネルギー分析筒を通過させる。
b、2cを対物レンズ3により一旦光軸に集束し、不図
示のエネルギー分析筒を通過させる。
次に、二次電子2b、2’cの所望の分析条件により分
析グリッド10の分析電圧を印加し、シンチレータ4に
よりその二次電子2b、2cを捕捉する。さらに二次電
子2b、2cを不図示の光電子倍増部を介して増幅し、
その信号処理をして試料1の電圧分布等を取得する。
析グリッド10の分析電圧を印加し、シンチレータ4に
よりその二次電子2b、2cを捕捉する。さらに二次電
子2b、2cを不図示の光電子倍増部を介して増幅し、
その信号処理をして試料1の電圧分布等を取得する。
ところで従来例によれば、第4図に示すように分析グリ
ッド10を通過した高エネルギーの二次電子2bは加速
電界領域8に突入して、はとんどシンチレータ4に捕捉
されるが、低エネルギーの二次電子2cは対物レンズ3
の金属フレーム等にリークする。
ッド10を通過した高エネルギーの二次電子2bは加速
電界領域8に突入して、はとんどシンチレータ4に捕捉
されるが、低エネルギーの二次電子2cは対物レンズ3
の金属フレーム等にリークする。
すなわち、シンチレータ4に印加したアノード電圧E1
により形成される加速電界領域8に突入できなかった低
エネルギーの二次電子2Cは、分析グリッド10を通過
した後に急速に減衰して対物レンズ3を構成する電磁コ
イルの鉄芯やそのヨーク等にリークして、シンチレータ
4に711+1れない。
により形成される加速電界領域8に突入できなかった低
エネルギーの二次電子2Cは、分析グリッド10を通過
した後に急速に減衰して対物レンズ3を構成する電磁コ
イルの鉄芯やそのヨーク等にリークして、シンチレータ
4に711+1れない。
したがって、エネルギー分析筒を通過した二次電子2b
、2c、全てを検出できないことからその分析結果に誤
差を生ずるという問題がある。
、2c、全てを検出できないことからその分析結果に誤
差を生ずるという問題がある。
本発明はかかる従来の問題に鑑み創作されたものであり
、分析グリッドを通過した低エネルギーの二次電子を対
物レンズの金属部分等にリークさせることなく、シンチ
レータの加速電界領域内に突入させて、それを捕捉する
ことを可能とする二次電子検出器の提供を目的とする。
、分析グリッドを通過した低エネルギーの二次電子を対
物レンズの金属部分等にリークさせることなく、シンチ
レータの加速電界領域内に突入させて、それを捕捉する
ことを可能とする二次電子検出器の提供を目的とする。
本発明の二次電子検出器は、その−実株例を第1.2図
に示すように、電子ビーム12aを試料11に照射する
電子源12と、試料11より放出される二次電子12b
〜12dを集束する対物レンズ13と、対物レンズ13
の上部に設けられる分析グリッド20と二次電子12b
〜12dの発散を囲繞する円筒状のコレクタグリッド1
5及び円形状の上部リフレクタグリッド16aと、二次
電子12〜12dを光信号19に変換するシンチレータ
14と、光信号19を伝送するライトガイド17とを具
備する二次電子検出器において、前記円筒状のコレクタ
グリッド15と、対物レンズ13の上部の分析グリッド
20との間に負電位を印加する円形状の下部リフレクタ
グリッド16bを設けていることを特徴とし、上記目的
を達成する。
に示すように、電子ビーム12aを試料11に照射する
電子源12と、試料11より放出される二次電子12b
〜12dを集束する対物レンズ13と、対物レンズ13
の上部に設けられる分析グリッド20と二次電子12b
〜12dの発散を囲繞する円筒状のコレクタグリッド1
5及び円形状の上部リフレクタグリッド16aと、二次
電子12〜12dを光信号19に変換するシンチレータ
14と、光信号19を伝送するライトガイド17とを具
備する二次電子検出器において、前記円筒状のコレクタ
グリッド15と、対物レンズ13の上部の分析グリッド
20との間に負電位を印加する円形状の下部リフレクタ
グリッド16bを設けていることを特徴とし、上記目的
を達成する。
本発明によれば、分析グリッド上部に負電位を印加した
下部リフレクタグリッドを設けているので、該分析グリ
ッドを通過した低エネルギーの二次電子を負の電界領域
によりその放散軌道方向を強制的に立ち上げて、加速電
界領域に突入させることが可能となる。これにより、分
析グリッドを通過した二次電子全てを従来のように対物
レンズの金属部分等にリークさせることなくシンチレー
タにより捕捉することが可能となる。
下部リフレクタグリッドを設けているので、該分析グリ
ッドを通過した低エネルギーの二次電子を負の電界領域
によりその放散軌道方向を強制的に立ち上げて、加速電
界領域に突入させることが可能となる。これにより、分
析グリッドを通過した二次電子全てを従来のように対物
レンズの金属部分等にリークさせることなくシンチレー
タにより捕捉することが可能となる。
次に図を参照しながら本発明の実施例について説明する
。
。
第1図は本発明の実施例に係る二次電子検出器の構成図
である0図において、11は所定工程を経て形成された
集積回路を内蔵する半導体装置等の試料であり、金属配
線等に電子ビーム12aを照射することによって、そこ
から放出された二次電子12b、12c、、12dを検
出して電圧分布等が測定される。12は不図示の電子ビ
ーム鏡筒内に配置され、電子ビーム12aを試料11に
照射する電子源、13は試料11より放出された二次電
子12b、12c、12dを一旦電子ピーム12aの光
軸に集束させる対物レンズであり、不図示の電磁コイル
や鉄芯により形成される磁気作用を利用している。
である0図において、11は所定工程を経て形成された
集積回路を内蔵する半導体装置等の試料であり、金属配
線等に電子ビーム12aを照射することによって、そこ
から放出された二次電子12b、12c、、12dを検
出して電圧分布等が測定される。12は不図示の電子ビ
ーム鏡筒内に配置され、電子ビーム12aを試料11に
照射する電子源、13は試料11より放出された二次電
子12b、12c、12dを一旦電子ピーム12aの光
軸に集束させる対物レンズであり、不図示の電磁コイル
や鉄芯により形成される磁気作用を利用している。
14はシンチレータ電圧E++ (直流電圧10KV程
度)を印加して、二次電子12 b、 12 c。
度)を印加して、二次電子12 b、 12 c。
12dを加速電界領域に導き、それを蛍光物質に通過さ
せることにより光信号19に変換するシンチレータであ
る。15はコレクタ電圧Egg(負の直流電圧を数十V
〜0■程度)を印加して、二次電子12 b、 L
2 c、 l 2 dを各シンチレータ(4ケ所)に
導くコレクタグリッドである。
せることにより光信号19に変換するシンチレータであ
る。15はコレクタ電圧Egg(負の直流電圧を数十V
〜0■程度)を印加して、二次電子12 b、 L
2 c、 l 2 dを各シンチレータ(4ケ所)に
導くコレクタグリッドである。
16aは、リフレクタ電圧Es5(負の直流電圧数10
V程度)を印加し、高エネルギーの二次電子12bをコ
レクタグリッド15の中央附近に追い返す上部リフレク
タグリッドである。17は光信号19を不図示の光電子
倍増部等に導くライトガイドである。
V程度)を印加し、高エネルギーの二次電子12bをコ
レクタグリッド15の中央附近に追い返す上部リフレク
タグリッドである。17は光信号19を不図示の光電子
倍増部等に導くライトガイドである。
なお18はコレクタグリッド15の開口部附近に分布す
る加速電界領域である。また、19は高エネルギーの二
次電子12b、低エネルギーの二次電子12c及び中エ
ネルギーの二次電子12dに比例し、シンチレータの蛍
光物質を介して発光する光信号である。なお20は対物
レンズ13に設けられる不図示のエネルギー分析筒の上
部に配置された分析グリッドであり、二次電子12b。
る加速電界領域である。また、19は高エネルギーの二
次電子12b、低エネルギーの二次電子12c及び中エ
ネルギーの二次電子12dに比例し、シンチレータの蛍
光物質を介して発光する光信号である。なお20は対物
レンズ13に設けられる不図示のエネルギー分析筒の上
部に配置された分析グリッドであり、二次電子12b。
12c、L2dのエネルギー分析条件を与える分析電圧
を印加するための金属メツシュ製の半球状又は平面形状
のグリッドである。
を印加するための金属メツシュ製の半球状又は平面形状
のグリッドである。
なお、第2図は本発明の実施例の二次電子検出器に係る
説明図であり、同図(a)は二次電子12b、12c、
12dを捕捉するコレクタグリッド15附近の斜視図で
ある。また、同図は便宜1各グリッド、シンチレータを
間隔を置いて示しているが不図示の絶縁物を介して結合
されている。
説明図であり、同図(a)は二次電子12b、12c、
12dを捕捉するコレクタグリッド15附近の斜視図で
ある。また、同図は便宜1各グリッド、シンチレータを
間隔を置いて示しているが不図示の絶縁物を介して結合
されている。
図において、15はコレクタグリッドであり、金属製の
円筒形状を有し、その側面に開口部15aを設け、その
開口部15a毎に二次電子12b。
円筒形状を有し、その側面に開口部15aを設け、その
開口部15a毎に二次電子12b。
12c、12dを捕捉するシンチレータ14を有してい
る。16aは上部リフレクタグリッドであり、金属製の
円形平面状を有し、その中央附近に電子ビーム12aを
通過させる電子ビーム通過穴16cを有している。16
bは下部リフレクタグリッドであり、上部リフレクタグ
リッド16aと同様な金属製の円形平面状を有し、その
中央の開口部16dは二次電子12b、12Cを通過さ
せるために開口されている。
る。16aは上部リフレクタグリッドであり、金属製の
円形平面状を有し、その中央附近に電子ビーム12aを
通過させる電子ビーム通過穴16cを有している。16
bは下部リフレクタグリッドであり、上部リフレクタグ
リッド16aと同様な金属製の円形平面状を有し、その
中央の開口部16dは二次電子12b、12Cを通過さ
せるために開口されている。
これ等により二次電子検出器を構成する。
同図(b)はコレクタグリッド15、上・下りコレクタ
グリッド16a、16b及びシンチレータのアノード電
圧E、により分布する電界領域を説明する図である。図
において、61aは上部リフレクタグリッド16aに一
30V程度の電圧を印加することにより分布する負の電
界領域であり、61bは同様に下部リフレクタグリッド
16bに一30V程度の電圧を印加することにより分布
する負の電界領域である。
グリッド16a、16b及びシンチレータのアノード電
圧E、により分布する電界領域を説明する図である。図
において、61aは上部リフレクタグリッド16aに一
30V程度の電圧を印加することにより分布する負の電
界領域であり、61bは同様に下部リフレクタグリッド
16bに一30V程度の電圧を印加することにより分布
する負の電界領域である。
なお18はシンチレータのシンチレータ電圧E+t(O
KV程度)により分布する正の電界領域であり、二次電
子12b、12c、12dの加速電界領域である。12
bは電子ビーム12aを試料11に照射することにより
試料”11から放出され、不図示のエネルギー分析筒を
経て、分析グリッド20を通過した高エネルギーの二次
電子であり、12c、12dは同様に分析グリッド20
を通過した低エネルギー、中エネルギーの二次電子であ
る。
KV程度)により分布する正の電界領域であり、二次電
子12b、12c、12dの加速電界領域である。12
bは電子ビーム12aを試料11に照射することにより
試料”11から放出され、不図示のエネルギー分析筒を
経て、分析グリッド20を通過した高エネルギーの二次
電子であり、12c、12dは同様に分析グリッド20
を通過した低エネルギー、中エネルギーの二次電子であ
る。
ここで、分析グリッド20を通過した低エネルギーの二
次電子12cは下部リフレクタグリッド16bに一30
V程度の直流電圧を印加することにより分布する負の電
界領域61bに反発して、その放散軌道方向を強制的に
立ち上げられて加速電界領域に突入する。なお、中エネ
ルギーの二次電子12dは上下りコレクタグリッド16
a。
次電子12cは下部リフレクタグリッド16bに一30
V程度の直流電圧を印加することにより分布する負の電
界領域61bに反発して、その放散軌道方向を強制的に
立ち上げられて加速電界領域に突入する。なお、中エネ
ルギーの二次電子12dは上下りコレクタグリッド16
a。
16bに左右されることなく加速電界領域1日に突入し
、高エネルギーの二次電子12b上部リフレクタグリッ
ド16aにより分布する負の電界領域61aに追い返さ
れ、加速領域18に突入する。
、高エネルギーの二次電子12b上部リフレクタグリッ
ド16aにより分布する負の電界領域61aに追い返さ
れ、加速領域18に突入する。
これにより二次電子12b、12c、12d全てをシン
チレータ14によって捕捉される。
チレータ14によって捕捉される。
このようにして、分析グリッド20の上部に一30V程
度の直流電圧を印加した下部リフレクタグリッド16b
を設けているので、該分析グリッド20を通過した低エ
ネルギーの二次電子12cを負の電界領域61bにより
その放散軌道方向を強制的に立ち上げて、加速電界領域
18に突入させることか可能となる。
度の直流電圧を印加した下部リフレクタグリッド16b
を設けているので、該分析グリッド20を通過した低エ
ネルギーの二次電子12cを負の電界領域61bにより
その放散軌道方向を強制的に立ち上げて、加速電界領域
18に突入させることか可能となる。
これにより、分析グリッド20を通過した二次電子12
b、12c、12d全てを従来のように対物レンズの金
属部分等にリークさせることなくシンチレータ14によ
り捕捉することが可能となる。
b、12c、12d全てを従来のように対物レンズの金
属部分等にリークさせることなくシンチレータ14によ
り捕捉することが可能となる。
以上説明したように本発明によれば、分析グリッドを通
過した各エネルギーの二次電子、特に低エネルギーの二
次電子をシンチレータにより効率良く捕捉することが可
能となる。これにより従来のような対物レンズのヨーク
等にリークする二次電子を原因とする分析誤差の発生を
阻止できるので、試料の電圧分布等の測定精度を向上さ
せることが可能となる。
過した各エネルギーの二次電子、特に低エネルギーの二
次電子をシンチレータにより効率良く捕捉することが可
能となる。これにより従来のような対物レンズのヨーク
等にリークする二次電子を原因とする分析誤差の発生を
阻止できるので、試料の電圧分布等の測定精度を向上さ
せることが可能となる。
第1図は、本発明の実施例に係る二次電子検出器の構成
図、 第2図は、本発明の実施例の二次電子検出器に係る説明
図、 第3図は、従来例に係る二次電子検出器の説明図、 第4図は、従来例に係る説明図である。 (符号の説明) 1.11・・・試料、 2.12・・・電子源、 2a、12a・・・電子ビーム、 2b、12b・・・高エネルギーの二次電子、2c、1
2c・・・低エネルギーの二次電子、12d・・・中エ
ネルギーの二次電子、3.13・・・対物レンズ、 4.14・・・シンチレータ、 5.15・・・コレクタグリッド、 6.16a・・・リフレクタグリッド(上部リフレクタ
グリッド)、 16b・・・下部リフレクタグリッド、7.17・・・
ライトガイド、 8.18・・・加速電界領域、 9.19・・・光信号、 10.20・・・分析グリッド、 16c・・・電子ビーム通過穴、 15a、15d・・・開口部、 15b、61a、61b・・−負の電界領域、Eu 、
Eu・・・アノード電圧、 Ez、Ess・・・コレクタ電圧、 Es、Ess・・・リフレクタ電圧。 下4 叩n 岐pI LCIts : :X’fl ;
Jモ1檀−トt1r6<71g k@第1図 (b) ff畔38例の=イ電了禮仕井1(摩る謎叩閏第2図 Ez−コレクタgと 1 ε3−++7,41□ン。 f定iJ便1+てイt−S=;tnm−ビ;チじシ←1
ビヒト鐙δ−と^jヨ吐−111で薩コ第3図
図、 第2図は、本発明の実施例の二次電子検出器に係る説明
図、 第3図は、従来例に係る二次電子検出器の説明図、 第4図は、従来例に係る説明図である。 (符号の説明) 1.11・・・試料、 2.12・・・電子源、 2a、12a・・・電子ビーム、 2b、12b・・・高エネルギーの二次電子、2c、1
2c・・・低エネルギーの二次電子、12d・・・中エ
ネルギーの二次電子、3.13・・・対物レンズ、 4.14・・・シンチレータ、 5.15・・・コレクタグリッド、 6.16a・・・リフレクタグリッド(上部リフレクタ
グリッド)、 16b・・・下部リフレクタグリッド、7.17・・・
ライトガイド、 8.18・・・加速電界領域、 9.19・・・光信号、 10.20・・・分析グリッド、 16c・・・電子ビーム通過穴、 15a、15d・・・開口部、 15b、61a、61b・・−負の電界領域、Eu 、
Eu・・・アノード電圧、 Ez、Ess・・・コレクタ電圧、 Es、Ess・・・リフレクタ電圧。 下4 叩n 岐pI LCIts : :X’fl ;
Jモ1檀−トt1r6<71g k@第1図 (b) ff畔38例の=イ電了禮仕井1(摩る謎叩閏第2図 Ez−コレクタgと 1 ε3−++7,41□ン。 f定iJ便1+てイt−S=;tnm−ビ;チじシ←1
ビヒト鐙δ−と^jヨ吐−111で薩コ第3図
Claims (1)
- 電子ビーム(12a)を試料(11)に照射する電子源
(12)と、試料(11)より放出される二次電子(1
2b〜12d)を集束する対物レンズ(13)と、対物
レンズ(13)の上部に設けられる分析グリット(20
)と二次電子(12〜12d)の発散を囲繞する円筒状
のコレクタグリッド(15)及び円形状の上部リフレク
タグリッド(16a)と、二次電子(12b〜12d)
を光信号(19)に変換するシンチレータ(14)と、
光信号(19)を伝送するライトガイド(17)とを具
備する二次電子検出器において、前記円筒状のコレクタ
グリッド(15)と、対物レンズ(13)の上部の分析
グリッド(20)との間に負電位を印加する円形状の下
部リフレクタグリッド(16b)を設けていることを特
徴とする二次電子検出器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62283840A JP2578446B2 (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | 二次電子検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62283840A JP2578446B2 (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | 二次電子検出器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01124949A true JPH01124949A (ja) | 1989-05-17 |
JP2578446B2 JP2578446B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=17670840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62283840A Expired - Lifetime JP2578446B2 (ja) | 1987-11-10 | 1987-11-10 | 二次電子検出器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2578446B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0769799A2 (en) * | 1995-10-19 | 1997-04-23 | Hitachi, Ltd. | Scanning electron microscope |
DE4216730C2 (de) * | 1992-05-20 | 2003-07-24 | Advantest Corp | Rasterelektronenstrahlgerät |
JP2008257914A (ja) * | 2007-04-02 | 2008-10-23 | Jeol Ltd | ビーム装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5875750A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Shimadzu Corp | 走査型電子顕微鏡 |
JPS615483U (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-13 | 日本電子株式会社 | 電子線検出器 |
JPS61131353A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-19 | Hitachi Ltd | 二次電子検出器 |
-
1987
- 1987-11-10 JP JP62283840A patent/JP2578446B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008257914A (ja) * | 2007-04-02 | 2008-10-23 | Jeol Ltd | ビーム装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2578446B2 (ja) | 1997-02-05 |
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