JPH01121921U - - Google Patents

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JPH01121921U
JPH01121921U JP1664688U JP1664688U JPH01121921U JP H01121921 U JPH01121921 U JP H01121921U JP 1664688 U JP1664688 U JP 1664688U JP 1664688 U JP1664688 U JP 1664688U JP H01121921 U JPH01121921 U JP H01121921U
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JP
Japan
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support substrate
susceptor
insulating thin
thin plate
upper insulating
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JP1664688U
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はバレル型サセプターの一例であつて、
半導体ウエハー保持部を27個有するバレル型サ
セプターの側面説明図、第2図は該バレル型サセ
プターを支持する従来のサセプター支持基板の側
面説明図、第3図は該サセプター支持基板の上面
説明図、第4図は第3図のA―A線に沿う断面説
明図である。第5〜第6図は本考案のサセプター
支持基板の種々の例を該支持基板の腕の先端部分
のみについて示した部分説明図であり、第5図及
び第6図はそれらの上面の例を示した上面部分説
明図であつて、第7図はそれらの縦断面の例を示
す縦断面部分説明図である。 1……半導体ウエハー保持部、2……切欠部、
3……腕、4……絶縁性薄板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. バレル型サセプターを該サセプターの底部にお
    いて支持するスパイダー支持基板において、該支
    持基板の放射状腕の先端であつてサセプターが載
    置される位置に凹穴を設け、該凹穴に2枚の絶縁
    性薄板を重ねて載置せしめ、その際凹穴周囲の支
    持基板上面が上側の絶縁性薄板の厚みの中間位置
    であり、かつ少くとも上側の絶縁性薄板が、凹穴
    内で、支持基板の腕の放射方向に摺動可能となる
    如く、該放射方向の長さが、上側の絶縁性薄板よ
    り凹穴の方を大に構成せしめたことを特徴とする
    サセプター支持基板。
JP1664688U 1988-02-10 1988-02-10 Pending JPH01121921U (ja)

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JP1664688U JPH01121921U (ja) 1988-02-10 1988-02-10

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JPH01121921U true JPH01121921U (ja) 1989-08-18

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JP1664688U Pending JPH01121921U (ja) 1988-02-10 1988-02-10

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