JPH01133731U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01133731U JPH01133731U JP2960688U JP2960688U JPH01133731U JP H01133731 U JPH01133731 U JP H01133731U JP 2960688 U JP2960688 U JP 2960688U JP 2960688 U JP2960688 U JP 2960688U JP H01133731 U JPH01133731 U JP H01133731U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- mounting surface
- supported
- support pins
- quartz holder
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す、ホツトウオ
ール型減圧ＣＶＤ装置に用いる石英ホールダの要
部概略図、第２図は従来技術である。石英ホール
ダを用いるホツトウオール型減圧ＣＶＤ装置の断
面概略図、第３図は従来の石英ホールダの構造を
示す概略図であつてａは正面図、ｂは側面図、ｃ
は上、下部支持ピンの拡大図である。 ５，２５：石英ホールダ、６：ウエハ、７：上
部支持ピン、８，２８：下部支持ピン。
ール型減圧ＣＶＤ装置に用いる石英ホールダの要
部概略図、第２図は従来技術である。石英ホール
ダを用いるホツトウオール型減圧ＣＶＤ装置の断
面概略図、第３図は従来の石英ホールダの構造を
示す概略図であつてａは正面図、ｂは側面図、ｃ
は上、下部支持ピンの拡大図である。 ５，２５：石英ホールダ、６：ウエハ、７：上
部支持ピン、８，２８：下部支持ピン。
Claims (1)
- 平坦にしてほぼ鉛直方向の取付け面を有する石
英ホールダの前記取付け面に複数個固設された支
持ピンによりウエハを前記取付け面に密着状態に
支承し、この支承されたウエハ表面に薄膜の化学
的気相成長を行うＣＶＤ装置において、前記複数
個の支持ピンのうち取付け面下部の、ウエハ荷重
を受ける支持ピンのウエハ外周面との接触面に微
小な凹凸もしくは筋目が形成されたことを特徴と
するＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2960688U JPH01133731U (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2960688U JPH01133731U (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01133731U true JPH01133731U (ja) | 1989-09-12 |
Family
ID=31253966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2960688U Pending JPH01133731U (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01133731U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017220536A (ja) * | 2016-06-06 | 2017-12-14 | 三菱電機株式会社 | 成膜装置および太陽電池の製造方法 |
-
1988
- 1988-03-04 JP JP2960688U patent/JPH01133731U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017220536A (ja) * | 2016-06-06 | 2017-12-14 | 三菱電機株式会社 | 成膜装置および太陽電池の製造方法 |