JPH01117075A - 高周波放電励起レーザ装置 - Google Patents
高周波放電励起レーザ装置Info
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- JPH01117075A JPH01117075A JP62274405A JP27440587A JPH01117075A JP H01117075 A JPH01117075 A JP H01117075A JP 62274405 A JP62274405 A JP 62274405A JP 27440587 A JP27440587 A JP 27440587A JP H01117075 A JPH01117075 A JP H01117075A
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- Japan
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- discharge tube
- tube segments
- partition wall
- discharge
- laser device
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- 230000005284 excitation Effects 0.000 title claims description 12
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属などの切断加工等に用いる大出力用の高周
波放電励起レーザ装置に関し、特に安定した高周波放電
励起ができる高周波放電励起レーザ装置に関する。
波放電励起レーザ装置に関し、特に安定した高周波放電
励起ができる高周波放電励起レーザ装置に関する。
従来の高周波励起軸流レーザは高出力でビーム品質がよ
く、安定性が高く、高速制御が可能などの理由から、用
途が急速に拡がりつつある。
く、安定性が高く、高速制御が可能などの理由から、用
途が急速に拡がりつつある。
従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置の例を第6図に
示す。図において、■は放電管であり、図では4本の放
電管セグメントで構成した例を示しているが、出力に応
じて種々の本数が選択され、放電管セグメントを直列、
並列に配置する。2は全反射鏡、3は出力鏡であり、2
個の鏡は正確に位置が決められている。4は出力である
レーザ光を示す。放電管の各セグメントにはガスの出入
口が設けられており、それは1台のルーツブローワ7に
結合されている。5及び6は熱交換器であり、放電及び
ルーツブロワ7の圧縮作用で発熱したレーザガスを冷却
する。放電管及びガス送風管内のガス流の方向は矢印で
示しである。8a、8b〜11a、llbは電極であり
、それぞれの高周波電源12.13.14及び15に接
続されている。
示す。図において、■は放電管であり、図では4本の放
電管セグメントで構成した例を示しているが、出力に応
じて種々の本数が選択され、放電管セグメントを直列、
並列に配置する。2は全反射鏡、3は出力鏡であり、2
個の鏡は正確に位置が決められている。4は出力である
レーザ光を示す。放電管の各セグメントにはガスの出入
口が設けられており、それは1台のルーツブローワ7に
結合されている。5及び6は熱交換器であり、放電及び
ルーツブロワ7の圧縮作用で発熱したレーザガスを冷却
する。放電管及びガス送風管内のガス流の方向は矢印で
示しである。8a、8b〜11a、llbは電極であり
、それぞれの高周波電源12.13.14及び15に接
続されている。
放電管1内のガス流速は約100m/秒であり、高周波
電源12〜15からの高周波電圧によって放電が行われ
、レーザビームが発振、増幅される。
電源12〜15からの高周波電圧によって放電が行われ
、レーザビームが発振、増幅される。
しかし、このような複数の放電管セグメントをそれぞれ
個別の高周波電源で駆動する高周波放電励起レーザ装置
では、レーザ出力が数ヘルツの程度の周期で変動する。
個別の高周波電源で駆動する高周波放電励起レーザ装置
では、レーザ出力が数ヘルツの程度の周期で変動する。
このレーザ出力変動の状態を第7図に示す。図において
、横軸は時間であり、縦軸はレーザ出力である。図に示
すように、約1000Wのレーザ出力に対して、30W
程度の出力変動が生じる。
、横軸は時間であり、縦軸はレーザ出力である。図に示
すように、約1000Wのレーザ出力に対して、30W
程度の出力変動が生じる。
本発明は、上記問題点を解決し、出力変動の少ない安定
した高周波放電励起ができる高周波放電励起レーザ装置
を提供すること目的とするものである。
した高周波放電励起ができる高周波放電励起レーザ装置
を提供すること目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するために、
放電管に高周波電圧を印加してレーザ発振を生起させる
高周波放電励起レーザ装置において、前記放電管を構成
する複数の放電管セグメントと、 前記放電管セグメントごとに高周波電圧を供給する高周
波電源と、 前記互いに隣接する放電管セグメント間に配置され、導
電性の材料で構成され、一定の電位に保たれた隔壁と、
。
高周波放電励起レーザ装置において、前記放電管を構成
する複数の放電管セグメントと、 前記放電管セグメントごとに高周波電圧を供給する高周
波電源と、 前記互いに隣接する放電管セグメント間に配置され、導
電性の材料で構成され、一定の電位に保たれた隔壁と、
。
を有することを特徴とする高周波放電励起レーザ装置が
、 提供される。
、 提供される。
上記の問題点の原因は、各放電管セグメント間に存在す
る浮遊容量による相互電流にある。この電流の影響を、
放電管セグメントの間に隔壁を設置し、一定の電位に保
つことによりなくする。
る浮遊容量による相互電流にある。この電流の影響を、
放電管セグメントの間に隔壁を設置し、一定の電位に保
つことによりなくする。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
まず、放電管セグメント間の干渉について述べる。第8
図に放電管セグメント間の電流を説明するための図を示
す。図において、放電管セグメントが並列に配置された
例を示し、1a及び1bは放電管セグメントであり、そ
れぞれ、電極8a、8b及び9a、9bの電極に高周波
電源12及び13から高周波電圧が印加される。Cfは
放電管セグメン)laと1b間に存在する浮遊容量を示
す。
図に放電管セグメント間の電流を説明するための図を示
す。図において、放電管セグメントが並列に配置された
例を示し、1a及び1bは放電管セグメントであり、そ
れぞれ、電極8a、8b及び9a、9bの電極に高周波
電源12及び13から高周波電圧が印加される。Cfは
放電管セグメン)laと1b間に存在する浮遊容量を示
す。
第8図の等価回路を第9図に示す。ここで、11は第8
図の高周波電源12の回路の電流であり、■2は同じく
高周波電源13の回路電流であり、Ioは両回路の干渉
電流とする。Zoは前記の浮遊容量Cfによるインピー
ダンスである。
図の高周波電源12の回路の電流であり、■2は同じく
高周波電源13の回路電流であり、Ioは両回路の干渉
電流とする。Zoは前記の浮遊容量Cfによるインピー
ダンスである。
Zl、Z2は放電管セグメント1a及び1bのインピー
ダンスである。
ダンスである。
ここで、高周波電源12の電圧を81、角周波数をω1
とし、高周波電源13の電圧をe2、角周波数をω2と
し、両者の位相差をθ。とすると、el=E、5ina
+、t e 2=11.s i n (ω2t+θ。)と表せ、 X5in (θ2 +tan −’k)但し、 θ1−ω、t−ω2を一θ。+θ8−θ。
とし、高周波電源13の電圧をe2、角周波数をω2と
し、両者の位相差をθ。とすると、el=E、5ina
+、t e 2=11.s i n (ω2t+θ。)と表せ、 X5in (θ2 +tan −’k)但し、 θ1−ω、t−ω2を一θ。+θ8−θ。
0m =Ar g ((zo +z+ ) /zo
Zl )θb = A r g (1/ Zo )θ
、= (1/2) (ω、1+ω2t+θ。+θ8
+θ、) k= ((Ia−Ib)/ (Ia+Ib)) ・
jan (θ、/2) Ia=l (Zo +Z+ )/z、zl l
・E+■ b=l 1/zo l ・E
2となり、他方の電圧e2の影響が表されている。
Zl )θb = A r g (1/ Zo )θ
、= (1/2) (ω、1+ω2t+θ。+θ8
+θ、) k= ((Ia−Ib)/ (Ia+Ib)) ・
jan (θ、/2) Ia=l (Zo +Z+ )/z、zl l
・E+■ b=l 1/zo l ・E
2となり、他方の電圧e2の影響が表されている。
ここで、浮遊容量Z0による結合をなくす、つまりZ0
→閃とすると、 Ib→O r a−+E+ /l Zl l となり、 It =E+/lZ+1sin (ω、t+θ□)θ□
−Arg(1/Zr) が得られ、電圧e2の影響が解消される。
→閃とすると、 Ib→O r a−+E+ /l Zl l となり、 It =E+/lZ+1sin (ω、t+θ□)θ□
−Arg(1/Zr) が得られ、電圧e2の影響が解消される。
以上のように、放電管セグメント1aとIbO間で両者
が直接結合する浮遊容量をなくすることにより、互いの
放電管セグメント1aと1bの間の干渉を防止できるこ
とが分かる。
が直接結合する浮遊容量をなくすることにより、互いの
放電管セグメント1aと1bの間の干渉を防止できるこ
とが分かる。
次に本発明の一実施例の概念図を第3図に、またその等
価回路を第4図に示す。図中の記号はそれぞれ第8図及
び第9図と同一である。第3図において、放電管セグメ
ント1a及び1bの中間に隔壁Bが示されており、P点
で高周波回路のアースに接地されている。この隔壁Bに
よって、放電管セグメント1aと1bの間に存在した浮
遊容量はCfl、Cf2で示される隔壁Bとの間の浮遊
容量となり、隔壁Bがアースに接地されていることから
、その等価回路は第4図のようになり、相互電流の流れ
る経路はなくなる。インピーダンスZ111.202は
それぞれの浮遊容量Cfl、Cf2のインピーダンスを
示す。図より明らかなように、It =el/7:1 −(E+ / l Zr l) sin (a+、t+
θ、)θm+−A r g (1/ Zl) となり、他方の電圧e2の影響はない。
価回路を第4図に示す。図中の記号はそれぞれ第8図及
び第9図と同一である。第3図において、放電管セグメ
ント1a及び1bの中間に隔壁Bが示されており、P点
で高周波回路のアースに接地されている。この隔壁Bに
よって、放電管セグメント1aと1bの間に存在した浮
遊容量はCfl、Cf2で示される隔壁Bとの間の浮遊
容量となり、隔壁Bがアースに接地されていることから
、その等価回路は第4図のようになり、相互電流の流れ
る経路はなくなる。インピーダンスZ111.202は
それぞれの浮遊容量Cfl、Cf2のインピーダンスを
示す。図より明らかなように、It =el/7:1 −(E+ / l Zr l) sin (a+、t+
θ、)θm+−A r g (1/ Zl) となり、他方の電圧e2の影響はない。
第1図に本発明の一実施例の放電管の構成を示す。図に
おいて、放電管セグメント1a及び1bが並列に配置さ
れていおり、これが放電管を構成している。勿論、放電
管セグメントla及び1bは図示されていない折り返し
鏡等でレーザ光軸が連続的に通過するように構成されい
る。Bは隔壁であり、銅或いはアルミニューム等の導電
材料で構成されており、放電管セグメン)la及びib
に平行に配置され、点Pで高周波電源12及び13のア
ースに接続されている。16は放電管セグメント1a及
び1bを支持するための支持体であり、その他の構成要
素は第8図と同じである。
おいて、放電管セグメント1a及び1bが並列に配置さ
れていおり、これが放電管を構成している。勿論、放電
管セグメントla及び1bは図示されていない折り返し
鏡等でレーザ光軸が連続的に通過するように構成されい
る。Bは隔壁であり、銅或いはアルミニューム等の導電
材料で構成されており、放電管セグメン)la及びib
に平行に配置され、点Pで高周波電源12及び13のア
ースに接続されている。16は放電管セグメント1a及
び1bを支持するための支持体であり、その他の構成要
素は第8図と同じである。
すなわち、第1図では、並列に配置された放電管セグメ
ント1a及び1bの中間に隔壁Bを配置して、放電管セ
グメント1aと1bの干渉を防止している。
ント1a及び1bの中間に隔壁Bを配置して、放電管セ
グメント1aと1bの干渉を防止している。
第2図に本発明の他の実施例の放電管の構成を示す。図
において、放電管セグメン)la及び1bが直列に配置
されており、これが放電管を構成している。ここで、レ
ーザ光は放電管セグメント1a及び1bをそのまま通過
するように構成されている。Bは隔壁であり、銅或いは
アルミニニーム等の導電材料で構成されており、放電管
セグメン)la及び1bの軸方向に垂直に配置され、点
Pで高周波電源12及び13のアースに接続されている
。その他の構成要素は第8図と同じである。
において、放電管セグメン)la及び1bが直列に配置
されており、これが放電管を構成している。ここで、レ
ーザ光は放電管セグメント1a及び1bをそのまま通過
するように構成されている。Bは隔壁であり、銅或いは
アルミニニーム等の導電材料で構成されており、放電管
セグメン)la及び1bの軸方向に垂直に配置され、点
Pで高周波電源12及び13のアースに接続されている
。その他の構成要素は第8図と同じである。
すなわち、第2図では、直列に配置された放電管セグメ
ント1a及び1bの中間に隔壁Bを配置して、これを高
周波電源のアースに接地して、放電管セグメント1aと
1bの干渉を防止している。
ント1a及び1bの中間に隔壁Bを配置して、これを高
周波電源のアースに接地して、放電管セグメント1aと
1bの干渉を防止している。
このような第1図及び第2図の構成によるレーザ出力の
グラフを第5図に示す。図において、横軸は時間であり
、縦軸はレーザ出力である。図に示すように、約i o
o owのレーザ出力に対して、レーザ出力の変動は
3W以下となり、第7図と比較して、レーザ出力変動が
1/10以下に改善されていることが分かる。
グラフを第5図に示す。図において、横軸は時間であり
、縦軸はレーザ出力である。図に示すように、約i o
o owのレーザ出力に対して、レーザ出力の変動は
3W以下となり、第7図と比較して、レーザ出力変動が
1/10以下に改善されていることが分かる。
上記の説明では、それぞれ放電管セグメントが並列、あ
るいは直列に配置された場合を述べたが、さらに放電管
セグメントが直列に配置され、直列に配置された放電管
セグメント群をさらに並列に配置した場合も第1図と第
2図に示した隔壁を設けることにより、同様な効果をも
たらすことができる。
るいは直列に配置された場合を述べたが、さらに放電管
セグメントが直列に配置され、直列に配置された放電管
セグメント群をさらに並列に配置した場合も第1図と第
2図に示した隔壁を設けることにより、同様な効果をも
たらすことができる。
これらは、発明者によって初めて明らかにされた現象及
び発明の効果であり、発明者が開発した分割された放電
管セグメントをそれぞれ個別に駆動する方式の高周波放
電励起レーザ装置固有の問題点を解決するものである。
び発明の効果であり、発明者が開発した分割された放電
管セグメントをそれぞれ個別に駆動する方式の高周波放
電励起レーザ装置固有の問題点を解決するものである。
以上説明したように本発明では、互いに隣接する放電管
セグメントの間に導電材料からなる隔壁を設けて、その
隔壁の電位を一定に保ち、放電管セグメント間の干渉を
なくすように構成したので、レーザ出力の変動が大幅に
低減される。
セグメントの間に導電材料からなる隔壁を設けて、その
隔壁の電位を一定に保ち、放電管セグメント間の干渉を
なくすように構成したので、レーザ出力の変動が大幅に
低減される。
第1図は本発明の一実施例の構成図、
第2図は本発明の他の実施例の構成図、第3図は本発明
の一実施例の概念図、 第4図は第3図の等価回路図、 第5図は本発明の実施例によるレーザ出力の変動を示す
図、 第6図は従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置1 置の例を示す図、 第7図は従来の高周波放電励起レーザ装置のレーザ出力
変動の状態を示す図、 第8図は放電管セグメント間の電流を説明するための図
、 第9図は第8図の等価回路図である。 1−−−−−−−−−−−−−−一放電管1 a、 1
b−放電管セグメント 2−・・・−−一−−−−−−−全反射鏡3−・−−−
−−−−一−−−−出力鏡4−−−−−−−−−−−・
−レーザ光12〜15・−高周波電源 16−・−・−一−−−−放電管セグメント支持体B・
−一−−−−−−−−−−−−隔壁Cf−・−−−一−
−−−・−・−浮遊容量特許出願人 ファナック株式会
社 代理人 弁理士 服部毅巖 −■ 区 a) 綜 冒 當 区 へ 情ト 派
の一実施例の概念図、 第4図は第3図の等価回路図、 第5図は本発明の実施例によるレーザ出力の変動を示す
図、 第6図は従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置1 置の例を示す図、 第7図は従来の高周波放電励起レーザ装置のレーザ出力
変動の状態を示す図、 第8図は放電管セグメント間の電流を説明するための図
、 第9図は第8図の等価回路図である。 1−−−−−−−−−−−−−−一放電管1 a、 1
b−放電管セグメント 2−・・・−−一−−−−−−−全反射鏡3−・−−−
−−−−一−−−−出力鏡4−−−−−−−−−−−・
−レーザ光12〜15・−高周波電源 16−・−・−一−−−−放電管セグメント支持体B・
−一−−−−−−−−−−−−隔壁Cf−・−−−一−
−−−・−・−浮遊容量特許出願人 ファナック株式会
社 代理人 弁理士 服部毅巖 −■ 区 a) 綜 冒 當 区 へ 情ト 派
Claims (2)
- (1)放電管に高周波電圧を印加してレーザ発振を生起
させる高周波放電励起レーザ装置において、前記放電管
を構成する複数の放電管セグメントと、 前記放電管セグメントごとに高周波電圧を供給する高周
波電源と、 前記互いに隣接する放電管セグメント間に配置され、導
電性の材料で構成され、一定の電位に保たれた隔壁と、 を有することを特徴とする高周波放電励起レーザ装置。 - (2)前記隔壁を高周波回路のアースに設置して、電位
を一定にするように構成したことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の高周波放電励起レーザ装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62274405A JP2509638B2 (ja) | 1987-10-29 | 1987-10-29 | 高周波放電励起レ―ザ装置 |
EP88908978A EP0439608B1 (en) | 1987-10-29 | 1988-10-18 | R-f discharge excited laser device |
DE3850125T DE3850125T2 (de) | 1987-10-29 | 1988-10-18 | Laservorrichtung mit anregung durch hochfrequenz-entladung. |
PCT/JP1988/001060 WO1989004074A1 (en) | 1987-10-29 | 1988-10-18 | R-f discharge excited laser device |
US07/363,516 US4964136A (en) | 1987-10-29 | 1988-10-18 | High-frequency discharge pumped laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62274405A JP2509638B2 (ja) | 1987-10-29 | 1987-10-29 | 高周波放電励起レ―ザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01117075A true JPH01117075A (ja) | 1989-05-09 |
JP2509638B2 JP2509638B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=17541210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62274405A Expired - Fee Related JP2509638B2 (ja) | 1987-10-29 | 1987-10-29 | 高周波放電励起レ―ザ装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4964136A (ja) |
EP (1) | EP0439608B1 (ja) |
JP (1) | JP2509638B2 (ja) |
DE (1) | DE3850125T2 (ja) |
WO (1) | WO1989004074A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01258482A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Fanuc Ltd | ガスレーザ装置用放電管 |
JPH0766473A (ja) * | 1993-08-26 | 1995-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ発振器 |
US5856993A (en) * | 1994-08-24 | 1999-01-05 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Gas laser oscillator |
US5682400A (en) * | 1995-09-27 | 1997-10-28 | Krasnov; Alexander V. | Supersonic and subsonic laser with high frequency discharge excitation |
US6198762B1 (en) | 1996-09-26 | 2001-03-06 | Yuri Krasnov | Supersonic and subsonic laser with RF discharge excitation |
US6636545B2 (en) * | 1996-09-26 | 2003-10-21 | Alexander V. Krasnov | Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation |
RU2411619C1 (ru) * | 2009-10-15 | 2011-02-10 | Александр Васильевич Краснов | Газовый лазер с возбуждением высокочастотным разрядом |
US8611391B2 (en) | 2011-05-03 | 2013-12-17 | Coherent, Inc. | Waveguide CO2 laser with mutiply folded resonator |
US11095088B1 (en) | 2018-02-21 | 2021-08-17 | Zoyka Llc | Multi-pass coaxial molecular gas laser |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5728439Y2 (ja) * | 1976-08-04 | 1982-06-21 | ||
JPS5733659Y2 (ja) * | 1976-09-13 | 1982-07-24 | ||
US4800567A (en) * | 1986-01-29 | 1989-01-24 | Fanuc Ltd | High-frequency-discharge excited gas laser |
JPS63273378A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Fanuc Ltd | レ−ザ発振装置 |
JP2992715B2 (ja) * | 1991-07-03 | 1999-12-20 | ニスカ株式会社 | 原稿搬送装置 |
-
1987
- 1987-10-29 JP JP62274405A patent/JP2509638B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-10-18 EP EP88908978A patent/EP0439608B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-18 US US07/363,516 patent/US4964136A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-18 WO PCT/JP1988/001060 patent/WO1989004074A1/ja active IP Right Grant
- 1988-10-18 DE DE3850125T patent/DE3850125T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0439608A4 (en) | 1990-02-20 |
WO1989004074A1 (en) | 1989-05-05 |
EP0439608B1 (en) | 1994-06-08 |
EP0439608A1 (en) | 1991-08-07 |
JP2509638B2 (ja) | 1996-06-26 |
DE3850125D1 (de) | 1994-07-14 |
DE3850125T2 (de) | 1994-10-06 |
US4964136A (en) | 1990-10-16 |
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