JPH01116905A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH01116905A JPH01116905A JP27320187A JP27320187A JPH01116905A JP H01116905 A JPH01116905 A JP H01116905A JP 27320187 A JP27320187 A JP 27320187A JP 27320187 A JP27320187 A JP 27320187A JP H01116905 A JPH01116905 A JP H01116905A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は磁気記録媒体に磁気コアを摺接して情報の磁気
記録又は再生を行なう誘導型の磁気ヘッドに関するもの
である。
記録又は再生を行なう誘導型の磁気ヘッドに関するもの
である。
［従来の技術］
近年、磁気記録再生技術の分野では記録の高密度化の傾
向がますます強まり、これに伴なって記録媒体にはより
高い保磁力Ｈｃを有するものが用いられる傾向にある。
向がますます強まり、これに伴なって記録媒体にはより
高い保磁力Ｈｃを有するものが用いられる傾向にある。
このため特に記録用の磁気ヘッドの磁気コア材料として
は飽和磁束密度が高く、かつ高い透磁率を有する材料が
要求されている。
は飽和磁束密度が高く、かつ高い透磁率を有する材料が
要求されている。
これに対して従来磁気コア材料として用いられているも
のの内でフェライトでは飽和磁束密度Ｂｓが５５００ガ
ウス以下であるために、高保磁力媒体を充分に磁化する
強い記録磁界を得ることはできない、高保磁力媒体を使
用するためには飽和磁束密度のより高い金属磁性材料を
コア材に用いた磁気ヘッドが必要になってきた。
のの内でフェライトでは飽和磁束密度Ｂｓが５５００ガ
ウス以下であるために、高保磁力媒体を充分に磁化する
強い記録磁界を得ることはできない、高保磁力媒体を使
用するためには飽和磁束密度のより高い金属磁性材料を
コア材に用いた磁気ヘッドが必要になってきた。
従来用いられてきた高保磁力の金属磁性材料としてはＦ
ｅ−Ａｌ１−５ｉ系合金あるいはＦｅ−Ｎｉ系合金など
の結晶質合金があり、また最近開発された非晶質磁性合
金がある。
ｅ−Ａｌ１−５ｉ系合金あるいはＦｅ−Ｎｉ系合金など
の結晶質合金があり、また最近開発された非晶質磁性合
金がある。
しかしＦｅ−Ａｌ１−３ｔ系或いはＦｅ−Ｎｉ系などの
結晶質合金は結晶であるが故に結晶磁気異方性を有して
おり、磁気ヘッドに好適な磁気特性、特に高い透磁率を
得るためには、結晶磁気異方性がＯとなる近傍の組成と
しなければならない、また同時に磁歪定数も０に近くし
なければならない。このため使用できる組成は極めて限
られており、組成の選択が困難であるという問題がある
。
結晶質合金は結晶であるが故に結晶磁気異方性を有して
おり、磁気ヘッドに好適な磁気特性、特に高い透磁率を
得るためには、結晶磁気異方性がＯとなる近傍の組成と
しなければならない、また同時に磁歪定数も０に近くし
なければならない。このため使用できる組成は極めて限
られており、組成の選択が困難であるという問題がある
。
これに対して最近開発された非晶質磁性合金においては
、結晶磁気異方性がないため磁歪定数のみを調整すれば
よく、使用可能な組成が比較的広い、また結晶質合金で
は得られない高飽和磁束密度で低保−力の合金が得られ
る。さらには電気抵抗が高いため渦電流損失を低減でき
ることなどの種々の利点がある。そしてこの非晶質磁性
合金のなかでも金属−金属系非晶質磁性合金は金属−メ
タロイド系非晶質磁性合金よりも結晶化温度が高く、ま
た耐摩耗性にも優れているため、磁気コア材料として有
望である。
、結晶磁気異方性がないため磁歪定数のみを調整すれば
よく、使用可能な組成が比較的広い、また結晶質合金で
は得られない高飽和磁束密度で低保−力の合金が得られ
る。さらには電気抵抗が高いため渦電流損失を低減でき
ることなどの種々の利点がある。そしてこの非晶質磁性
合金のなかでも金属−金属系非晶質磁性合金は金属−メ
タロイド系非晶質磁性合金よりも結晶化温度が高く、ま
た耐摩耗性にも優れているため、磁気コア材料として有
望である。
ところでこれらの非晶質磁性合金は従来スプラットクー
リング法により作成され、厚さ１０から５０ミクロンメ
ートルの薄板状の物が得られていたが、近年では非晶質
磁性合金薄膜をスパッタリングなどの薄膜形成技術によ
り作成することが行なわれるようになり、従来では酸化
等のために作りにくかった組成の非晶質磁性合金も作成
が可能になった。特に金属−金属系非晶質磁性合金のう
ちでもＣｏ−Ｈｆ合金はスパッタリングにより作成しや
す＜、Ｈｆが５％以上の組成において非晶質化し、優れ
た軟磁気特性を示すことが分っている。
リング法により作成され、厚さ１０から５０ミクロンメ
ートルの薄板状の物が得られていたが、近年では非晶質
磁性合金薄膜をスパッタリングなどの薄膜形成技術によ
り作成することが行なわれるようになり、従来では酸化
等のために作りにくかった組成の非晶質磁性合金も作成
が可能になった。特に金属−金属系非晶質磁性合金のう
ちでもＣｏ−Ｈｆ合金はスパッタリングにより作成しや
す＜、Ｈｆが５％以上の組成において非晶質化し、優れ
た軟磁気特性を示すことが分っている。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら本願発明者らの試験によるとＣ。
−Ｈｆ非晶質磁性合金は耐酸化性、耐食性が悪く、これ
を磁気コア材料の一部に用いた磁気ヘッドとして例えば
磁気コアの磁気ギャップに面する磁気ギャップ形成面に
Ｃ’ｏ −Ｈｆ非晶質磁性合金からなる薄膜を形成した
ＭＩＧ（メタルインギャップ）タイプの磁気ヘッドは前
記薄膜の耐食性の悪さにより特性が経時的に劣化し、耐
環境性に劣るという問題があった。な１ｃｏ−Ｈｆ非晶
質磁性合金の耐食性が悪いのは非晶質化元素である）（
ｆが極めて酸化し易い金属であるためである。
を磁気コア材料の一部に用いた磁気ヘッドとして例えば
磁気コアの磁気ギャップに面する磁気ギャップ形成面に
Ｃ’ｏ −Ｈｆ非晶質磁性合金からなる薄膜を形成した
ＭＩＧ（メタルインギャップ）タイプの磁気ヘッドは前
記薄膜の耐食性の悪さにより特性が経時的に劣化し、耐
環境性に劣るという問題があった。な１ｃｏ−Ｈｆ非晶
質磁性合金の耐食性が悪いのは非晶質化元素である）（
ｆが極めて酸化し易い金属であるためである。
［問題点を解決するための手段］
このような問題点を解決するため本発明による磁気ヘレ
ドにおいては、少なくともＣｏ 、ＨｆおよびＡｌ２を
含有する非晶質磁性合金により磁路の少なくとも一部を
構成した磁気コアを備えた構造を採用した。
ドにおいては、少なくともＣｏ 、ＨｆおよびＡｌ２を
含有する非晶質磁性合金により磁路の少なくとも一部を
構成した磁気コアを備えた構造を採用した。
［作 用］
Ｃｏ−Ｈｆ非晶質磁性合金に更にＡ１を含有させ、極め
て醜化しゃすいＨｆの一部をＡ１で置き換えることによ
り合金の耐食性を向上できる。
て醜化しゃすいＨｆの一部をＡ１で置き換えることによ
り合金の耐食性を向上できる。
従って上記の構造によれば磁気ヘッドの磁気コアの耐食
性を向上し、磁気ヘッドの耐環境性を向上できる。
性を向上し、磁気ヘッドの耐環境性を向上できる。
［実施例］
以下、図を参照して本発明の実施例の詳細を説明する。
第１図は本発明の実施例によるＭＩＧタイプの磁気へ一
２ドの構造を示している。
２ドの構造を示している。
図示のようにこの磁気ヘッドは磁気コア１にコイル巻線
５を巻回して構成されている。
５を巻回して構成されている。
磁気コア１は一対のコア半体１ａ、ｌｂを磁気ギャップ
４を介し突き合わせ、不図示の溶着ガラスの溶着により
接合して構成される。コア半体ｌａ、ｌｂの磁路の大部
分はフェライトがらなり、それぞれの磁気ギャップ４に
面するギャップ形成面には、非晶質磁性合金薄膜（以下
薄膜と略す）２が成膜されている。また一方のコア半体
１ａの突き合わせ面の中央部には巻線窓３が形成されて
おり、この巻線窓３を介してコイル巻ｆｆ１５が磁気コ
アｌに巻回される。
４を介し突き合わせ、不図示の溶着ガラスの溶着により
接合して構成される。コア半体ｌａ、ｌｂの磁路の大部
分はフェライトがらなり、それぞれの磁気ギャップ４に
面するギャップ形成面には、非晶質磁性合金薄膜（以下
薄膜と略す）２が成膜されている。また一方のコア半体
１ａの突き合わせ面の中央部には巻線窓３が形成されて
おり、この巻線窓３を介してコイル巻ｆｆ１５が磁気コ
アｌに巻回される。
ところで本実施例ヘッドの以上に述べた基本的な構造は
従来のＭＩＧヘッドと同様であるが、従来と異なる点と
してＰＪ薄膜はｅｏ、Ｈｆ及びＡ１からなる非晶質磁性
合金から形成するものとする。すなわちＧｏ−Ｈｆ非晶
質磁性合金の組成に更にＡ１を加えてなる合金を用いる
。極めて酸化しやすい金属であるＨｆの一部をＡ１で置
き換えることにより合金の耐食性が向上する。
従来のＭＩＧヘッドと同様であるが、従来と異なる点と
してＰＪ薄膜はｅｏ、Ｈｆ及びＡ１からなる非晶質磁性
合金から形成するものとする。すなわちＧｏ−Ｈｆ非晶
質磁性合金の組成に更にＡ１を加えてなる合金を用いる
。極めて酸化しやすい金属であるＨｆの一部をＡ１で置
き換えることにより合金の耐食性が向上する。
なお薄膜２の非晶質磁性合金の原子組成をＣＯＸ ＠
Ｈｆ ｙ ” Ａ ｊｌ ｚとして前記のｘ、ｙ。
Ｈｆ ｙ ” Ａ ｊｌ ｚとして前記のｘ、ｙ。
Ｚはそれぞれ原子パーセントで８１≦Ｘ≦９４゜５≦Ｙ
≦２０．０．５≦Ｚ≦５であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００で
あるものとする。ここでこの組成を選択した理由を以下
に述べておく。
≦２０．０．５≦Ｚ≦５であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００で
あるものとする。ここでこの組成を選択した理由を以下
に述べておく。
まずＨｆについて言うと、前述のようにＨｆを非晶質化
元素とする非晶質磁性合金は、Ｈｆの添加量を５ａｔ％
以下とすると非晶質化しにくい。
元素とする非晶質磁性合金は、Ｈｆの添加量を５ａｔ％
以下とすると非晶質化しにくい。
またＨｆを多くするとＨｆが極めて酸化しやすい金属で
あるため耐酸化性、耐食性に問題が生じる。そこでＨｆ
の含有量は５〜２０ａｔ％とする。
あるため耐酸化性、耐食性に問題が生じる。そこでＨｆ
の含有量は５〜２０ａｔ％とする。
またＡｌｌは上述のように合金の耐食性を向上させる為
のものであり、その添加量が０．５ａｔ％以下では耐食
性向上の効果が少ない、またＡ１を５％以上添加すると
合金の飽和磁束密度Ｂｓが低下し、また合金の結晶化温
度も低下してしまう。
のものであり、その添加量が０．５ａｔ％以下では耐食
性向上の効果が少ない、またＡ１を５％以上添加すると
合金の飽和磁束密度Ｂｓが低下し、また合金の結晶化温
度も低下してしまう。
そこでＡｌ１の添加量は０．５〜５ａｔ％の範囲内とす
る。
る。
またＣＯの含有量は合金の飽和磁束密度ＢＳを左右し、
８１ａｔ％以下ではＢｓが約８ＫＧ以下となり、この合
金を用いたＭＩＧヘッドは高保磁力テープに対して充分
強い記録磁界が得られない、またＣｏの含有量が９４ａ
ｔ％以上では非晶質磁性合金を得ることができない、従
ってＣｏの含有量は８１〜９４ａｔ％の範囲内とする。
８１ａｔ％以下ではＢｓが約８ＫＧ以下となり、この合
金を用いたＭＩＧヘッドは高保磁力テープに対して充分
強い記録磁界が得られない、またＣｏの含有量が９４ａ
ｔ％以上では非晶質磁性合金を得ることができない、従
ってＣｏの含有量は８１〜９４ａｔ％の範囲内とする。
以上のような理由で上述した薄膜２の合金の組成を上記
のように決定することにより、薄膜２の合金の特性とし
て高保磁力媒体に対しても充分に高い飽和磁束密度Ｂｓ
とともに優れた耐食性が得られる。そして磁気ヘッドの
耐環境性を向上できる。
のように決定することにより、薄膜２の合金の特性とし
て高保磁力媒体に対しても充分に高い飽和磁束密度Ｂｓ
とともに優れた耐食性が得られる。そして磁気ヘッドの
耐環境性を向上できる。
ここでこのような効果を確認するためにＣｏ−Ｈｆ非晶
質磁性合金と本発明に係わるＣｏ−Ｈｆ−Ａｆｆｌ非晶
賀磁性合金の組成を変えたもののそれぞれから形成した
薄膜について飽和磁束密度、結晶化温度、及び耐酸化性
、耐食性の良し悪しの目安となる腐食電流を測定した結
果を下記の表に示す、なお試料の各薄膜は高周波２極ス
パツタリング装置を用いてフェライト基板上に約２時間
スパッタして形成した。成膜の際のアルゴン圧力は５Ｘ
ｌＯ””Ｔｏｒｒとした。また腐食電流の測定は第２図
に示すように行ない、試料の非晶質磁性合金薄膜１１を
白金板１２とともに水１３の中に浸漬し、両者間を銅線
１４で結び、６０分後に薄膜１１の酸化により薄Ｗｉ１
１、白金板１２間に流れる電流を腐食電流として、電流
計１５により測定した。
質磁性合金と本発明に係わるＣｏ−Ｈｆ−Ａｆｆｌ非晶
賀磁性合金の組成を変えたもののそれぞれから形成した
薄膜について飽和磁束密度、結晶化温度、及び耐酸化性
、耐食性の良し悪しの目安となる腐食電流を測定した結
果を下記の表に示す、なお試料の各薄膜は高周波２極ス
パツタリング装置を用いてフェライト基板上に約２時間
スパッタして形成した。成膜の際のアルゴン圧力は５Ｘ
ｌＯ””Ｔｏｒｒとした。また腐食電流の測定は第２図
に示すように行ない、試料の非晶質磁性合金薄膜１１を
白金板１２とともに水１３の中に浸漬し、両者間を銅線
１４で結び、６０分後に薄膜１１の酸化により薄Ｗｉ１
１、白金板１２間に流れる電流を腐食電流として、電流
計１５により測定した。
この表から明らかなように腐食電流については本発明に
係わるＣｏ−Ｈｆ−Ａｌ１非晶質磁性合金の方がＣｏ−
Ｈｆ合金よりもはるかに小さく耐食性に優れていること
が分かる。またＡ１の添加量を大きくするほど耐食性が
向上することが分かる。また飽和磁束密度と結晶化温度
については本発明に係わる合金はＣｏ−Ｈｆ合金と大差
なく、充分に高い、なおこの他に各薄膜について透磁率
も測定したが、その結果Ａ１の添加による透磁率の低下
はＡｌ１の添加量が５％以下ではほとんど見られず、優
れた軟磁気特性を示した。
係わるＣｏ−Ｈｆ−Ａｌ１非晶質磁性合金の方がＣｏ−
Ｈｆ合金よりもはるかに小さく耐食性に優れていること
が分かる。またＡ１の添加量を大きくするほど耐食性が
向上することが分かる。また飽和磁束密度と結晶化温度
については本発明に係わる合金はＣｏ−Ｈｆ合金と大差
なく、充分に高い、なおこの他に各薄膜について透磁率
も測定したが、その結果Ａ１の添加による透磁率の低下
はＡｌ１の添加量が５％以下ではほとんど見られず、優
れた軟磁気特性を示した。
なお本発明に係る合金は少なくともＣｏ。
Ｈｆ、Ａｌを含有するものとしてさらに他の元素を微量
含有させるものとしても良い。
含有させるものとしても良い。
［発明の効果］
以上の説明から明らかなように１本発明による磁気ヘッ
ドによれば、少なくともＣｏ、ＨｆおよびＡ、Ｉｌを含
有する非晶質磁性合金により磁路の少なくとも一部を構
成した磁気コアを備えた構造を採用したので、前記の合
金が耐食性に優れかつ高飽和磁束密度であることなど諸
特性に優れていることにより磁気ヘッドの耐環境性を向
上でき、諸特性を向上できるという優れた効果が得られ
る。
ドによれば、少なくともＣｏ、ＨｆおよびＡ、Ｉｌを含
有する非晶質磁性合金により磁路の少なくとも一部を構
成した磁気コアを備えた構造を採用したので、前記の合
金が耐食性に優れかつ高飽和磁束密度であることなど諸
特性に優れていることにより磁気ヘッドの耐環境性を向
上でき、諸特性を向上できるという優れた効果が得られ
る。
第１図は本発明の実施例による磁気ヘッドの構造を示す
正面図、第２図は耐食性試験における腐食電流の測定方
法の説明図である。 ｌ・・・磁気コア ｌａ、ｌｂ・・・コア半体２
．１１・・・非晶質磁性合金薄膜 ３・・・巻線窓 ４・・・磁気ギャップ５・・
・コイル巻線、 １２・・・白金板１３・・・水
１４・・・銅線１５・・・電流計 特許出願人 キャノン電子株式会社 、ＱｆｔＡ−、）”ノＩ ａ １ｆｆｉ第１図 腐食留５既禾痩万ユの容先明閏 第２図
正面図、第２図は耐食性試験における腐食電流の測定方
法の説明図である。 ｌ・・・磁気コア ｌａ、ｌｂ・・・コア半体２
．１１・・・非晶質磁性合金薄膜 ３・・・巻線窓 ４・・・磁気ギャップ５・・
・コイル巻線、 １２・・・白金板１３・・・水
１４・・・銅線１５・・・電流計 特許出願人 キャノン電子株式会社 、ＱｆｔＡ−、）”ノＩ ａ １ｆｆｉ第１図 腐食留５既禾痩万ユの容先明閏 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）少なくともＣｏ、ＨｆおよびＡｌを含有する非晶質
磁性合金により磁路の少なくとも一部を構成した磁気コ
アを備えたことを特徴とする磁気ヘッド。 ２）前記非晶質磁性合金の原子組成をＣｏ＿Ｘ・Ｈｆ＿
Ｙ・Ａｌ＿Ｚとして前記のＸ、Ｙ、Ｚはそれぞれ原子パ
ーセントで８１≦Ｘ≦９４、５≦Ｙ≦２０、０．５≦Ｚ
≦５であり、Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＝１００であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。 ３）磁気コアの磁気ギャップに面する磁気ギャップ形成
面に前記非晶質磁性合金からなる薄膜を成膜したことを
特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27320187A JPH01116905A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27320187A JPH01116905A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01116905A true JPH01116905A (ja) | 1989-05-09 |
Family
ID=17524506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27320187A Pending JPH01116905A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01116905A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
| JPS58175122A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPS59202614A (ja) * | 1983-05-04 | 1984-11-16 | Showa Denko Kk | 磁気素子 |
| JPS6215805A (ja) * | 1985-07-15 | 1987-01-24 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP27320187A patent/JPH01116905A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS57207308A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-20 | Akai Electric Co Ltd | Amorphous soft magnetic thin film |
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