JPH01113916A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は非磁性基板上に磁性薄膜を設けてなる磁気記録
媒体に関する。

〔従来の技術〕

金属媒体を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドとの接
触に充分耐える機械的信頼性を存することが必要不可欠
である。磁気記録媒体は、ドライブ構成の簡略化により
、コンタクトスタートストップ（以下Ｃ８Ｓ方式と略す
）が採用され更に磁気記録面の保護のため、磁気記録面
以外のシツピングシー７の同一トラックでＣ８Ｓが行な
われる場合が多い。

又、磁気記録密度の高密度化に伴ない、磁気ヘッドも、
フェライトモノ・リシックヘッドから、コノポジットヘ
ッド、薄膜ヘッドと変わり、スライダー材の硬度が上昇
し、磁気記録媒体の保護膜の耐久性の向上が求められて
いる。

従来、金属磁性媒体の表面に飽和脂肪酸等の育種潤滑層
を設ける方法）特公昭５Ｂ−３０６０９号）脂肪酸アミ
ドとリン系化合物の混合潤滑層を設ける方法（特公昭５
９−１ｆ３５２３８）　、高級脂肪酸と脂肪酸金属塩の
混合潤滑層を設ける方法（特公昭Ｆ９−１７７７２８）
　、等があるが、硬度の高いスライダーを仔するヘッド
でのＣ８Ｓでは、摩擦係数の上昇、クラッシュの問題が
ある。

潤滑層と保Ｎ膜層との両方の特性を示す炭素質膜（特公
昭５４−３３５２１）、（特開昭５３−１４３２０６）
（時開５Ｂ−４１５２４）は、Ｃ８Ｓ時にキズが入らず
、磁気ヘッドの衝撃を緩衝するため磁気特性の劣化もみ
られないが、硬度の高いスライダーを存するヘッドでの
Ｃ８Ｓでは、Ｃ８Ｓ回数の増加につれ炭素質膜が削れ、
摩擦係数が増加するという問題点を存していた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述の如く、従来技術では、硬度の高いスライダーを育
する磁気ヘッドとのＣ８Ｓでは充分な機械的信頼性が得
られず、摩擦係数の上昇を押えることができなかった。

そこで本発明は、この様な問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、高硬度のスライダーを仔する磁
気ヘッドでのＣ８Ｓでも強磁性金属薄膜媒体に機械的ダ
メージを与えず、かつ摩擦係数も増加しない磁気記録媒
体を提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に形成された強
磁性金属薄膜媒体上に、炭化物及び炭素の物質より成る
薄膜が被覆され更にポリアミドが被覆され、該薄膜の表
面に少なくとも脂肪酸と、Ｌ　ｉｓ　Ｎ　ａ　ｓ　Ｋ　
１Ｍ　ｇ　ｓ　Ｃａから選ばれる金属との塩で融点が８
０℃以上の物質を被覆せしめたことを特徴とする。

Ｃｒｓ　Ｔｉｓ　Ｔａ１Ｎｂは強磁性金属媒体と炭化物
及び、炭素間の密着性をより確かにする目的で被覆し、
その膜厚は５０〜２００人で充分である。

炭素は１．ダイヤモンド状、グラフフィト状、アモルフ
オス状のいずれでも良く、膜厚は、１５０λ〜８００人
形成する。以上は真空蒸着法、スバフタリ／グ法、イオ
ンジン−ティング法やＣＶＤ法のいずれの方法でも形成
可能である。

ポリアミドは炭化物及び炭素との密着性を良好にし、更
に該薄膜上に形成される脂肪酸とＬｉ１Ｎａ１に１Ｍｇ
５　Ｃａから選ばれる金属との塩の潤滑層を固定する目
的として使用される。

脂肪酸とＬｉ１Ｎａ１に％　Ｍｇ５Ｃａから選ばれる金
属との塩では、脂肪酸は炭素数が１２〜３０のものが良
く、直鎖、分岐、飽和、不飽和の制限はないが、特に直
鎖のものが良好であった。これらの中から融点が８０℃
以上のものを選び用いるが、単独で用いても混合で用い
ても良い。ポリアミド、脂肪酸とＬ　１　％　Ｎ　ａｌ
Ｋｓ　Ｃａから選ばれる金属との塩は、いずれも極性溶
媒に溶解し、スピンコード法、スプレー法、等速用上げ
法の既知の塗布法で形成するか、真空蒸着法で形成して
も良い。いずれの方法でも膜厚は、ポリアミド５０〜２
００人、脂肪酸と金属との塩は　５０〜１００人が適切
であった。

〔イ乍用〕

強磁性金属膜媒体上に形成された炭化物、炭素は磁気ヘ
ッドの衝撃を緩衝する機能があるが、高硬度のスライダ
ーを育する磁気ヘッドとのＣ８Ｓでは炭素質膜が削れて
しまう。そこで炭素質膜の表面に密着性の良好なポリア
ミドを被覆し、ポリアミドと密行性の良好な脂肪酸と金
属との塩を更に被覆する。

炭素質膜表面には、カルボキシル基（−Ｃｏ。

Ｈ）及びヒドロキシル基（−０）（）が存在する。

これにアミノ基（−ＮＨ，’）を存するポリアミンを塗
布し、１００℃以上加熱することにより、水がとれて酸
アミド結合（−ＣＯ二ＮＨ−）を作り高分子化合物がで
きる。この縮合重合によって形成されたポリアミドは、
炭素質膜上に均一に強固に被覆される。更にこの上に形
成される脂肪酸と金属との、塩のカルボニル基（−ＣＯ
ＯＮａ）、（−ＣＯＯＫ）等と、酸アミドとの親和力が
大きいため、脂肪酸と金属との塩もポリアミド上に強固
に固定される。これにより、磁気ヘッドによる摺動でも
最表面層の馨り離、飛散等が発生しない。

更に最表面層の脂肪酸と金属との塩は、摩擦係数を低減
し、融点も８０°Ｃ以上と高いため、効果が持続する。

このように緩衝保護膜上に均一にかつ強固に潤滑層を固
定することが可能となったため、硬度の高いスライダー
を存する磁気ヘッドとのＣＳＳでも機械特性は大幅に向
上した。

次に実施例で具体的に説明する。

〔実施例−１〕 鏡面仕上げされたディスク状アルミ二ウム合金基板上に
非磁性合金メッキとしてＮｉＰ合金メッキを約１５μｍ
の厚さにメッキ後、研摩により１０μｍの厚さ、表面粗
さ０．０３μｍ以下にし、更に金属磁性ＦｓｍとしてＣ
ｏ−Ｎｊ−Ｐ合金を約０．０６μｍ厚にメッキした． 次にマグネトロンスパッタ装置でＣｒを１００人、アモ
ルフォス伏炭素質膜を３００人連続して形成した。

このディスクに下記処理液（菫）約２ｍＩ！をディスク
に清下し２００Ｏｒｐｍで２０秒間回転させるスピンコ
ートを行ない、更にクリーンオーブン中？１００℃３０
分焼成した。更に下記処理液（２）約２ｍρをディスク
に滴下し１５００ｒｐｍで２０秒間回転させ、ステアリ
ン酸ナトリウムを塗布し　　■た。

処理液（１） ※１　三洋化成株式会社製 処理液■ 〔実施例−２〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作製
した。

次にマグネトロンスパッタ装置でＴｉを５０人ダイヤモ
ンド、アモル７オス状の炭素質膜を４００人連続して形
成した。

このディスクに下記処理液（３）約２ｍρをディスクに
演下し２００Ｏｒｐｍで２０秒間回転させるスピンコー
トを行ない、更にクリーンオーブン中で１００℃３０分
焼成した。更に下記処理液（４）約２ｍＪ２をディスク
に滴下し１５００ｒｐｍで約２０秒間回転させ、ステア
リン酸カリウムを塗布した。

処理液（３） 処理液（４） 〔実施例−３〕 実施例１と同様にして金属媒体を育するディスクを作成
した。

次にマグネトロンスバッタ装置でアモルフォス状の炭素
質膜を４００人形成した。

次に下記処理液■を用い、等速引上げ法（引き上げ速度
３　０　ｃｍ／ｍ　ｉ　ｎ）で引き上げ、クリーンオー
プン中で８０℃３０分焼成した。更に下記処理液（６）
を用い等速引上げ法（引き上げ速度３０ｃｍ／ｍｉｎ）
で引き上げ、ステアリ／酸リチウムを憶布した。

処理液向 液温２５℃ ※２　三洋化成株式会社製 ※３　ダイキン工業株式会社製 処理液（６） 〔実施例−４〕 実施例１と同様にして金属媒体を仔するディスクを作成
した。

次にマグネトロンスパッタ装置でグラファイト状の炭素
質膜を５００人形成した。

次に、下記処理液■を用いスプレ一方式で塗布し、クリ
ーンオーブン中で、８０℃３０分焼成した。更に下記処
理液（８）を用い、等速用上げ法（引き上げ速度３０ｃ
ｍ／ｍ１ｎ）で引き上げ、ステアリン酸リチウムを塗布
した。

処理液（′７） 処理液（８） 〔比較例−１〕 実施例１に於いて処理液（１）を使用せず処理液（２）
でステアリン酸ナトリウムを塗布した。

〔比較例−２〕 実施例２に於いて処理液（３）を使用せず処理液（４）
でステアリン酸カリウムを塗布した。

〔比較例−３〕 実施例３に於いて処理液■を使用せず処理液（６）でス
テアリン酸リチウムを塗布した。

〔比較例−４〕 実施例４に於いて処理液■を使用せず処理液（８）でス
テアリン酸リチウムを塗布した。

以上実施例１〜４までのディスクは赤外分光装置により
ポリアミド膜が形成されていることが確認された。

以上の実施例、比較例のディスクをＣ８Ｓ試験した。Ｃ
８Ｓ試験は、浮上ＭＡ　Ｏ、２０／’　ｍ　、Ｈｖ１２
００のスライダー材質アルミナチタンカーバイドの薄膜
ヘッドを用いてＣ８Ｓ前とＣ３Ｓ２００００回後の静摩
擦係数の測定を行なった。その結果を表に示す。

尚、本発明は、フロッピーディスク、磁気テープ、磁気
カードにも適用が可能であり、基板材料はガラス、プラ
スチックでも、同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、炭素質膜上に均一に
密着性よくポリアミドが形成され、更にポリアミド上に
潤滑層の脂肪酸と金属との塩が強固に被覆されているた
め、高硬度スライダーを存する薄膜ヘッドでのＣ８Ｓに
おいても潤滑層の？り離、゛飛散がなく、低摩擦係数の
維持が可能な、機械的信頼性の高い磁気記録体の提供が
可能となった。

以　　上 出頃人　セイコーエプソン株式会社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板上に形成された強磁性金属薄膜媒体上
   に、炭化物及び炭素の物質より成る薄膜が被覆され、更
   に該薄膜にポリアミドが被覆され、該薄膜の表面に、少
   なくとも脂肪酸と、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａから選
   ばれる金属との塩で融点が８０℃以上の物質を被覆せし
   めた事を特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）強磁性金属薄膜媒体と炭化物及び炭素の物質より
   成る薄膜との間にＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂから選ばれる
   少なくとも１種の物質より成る被膜が形成せしめられた
   事を特徴とする特許請求の範囲第一項記載の磁気記録媒
   体。