JPS63292419A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS63292419A JPS63292419A JP12872187A JP12872187A JPS63292419A JP S63292419 A JPS63292419 A JP S63292419A JP 12872187 A JP12872187 A JP 12872187A JP 12872187 A JP12872187 A JP 12872187A JP S63292419 A JPS63292419 A JP S63292419A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体、特に高密度記録に優れた強磁性
薄膜型記録媒体に閃する。
薄膜型記録媒体に閃する。
(従来の技術〕
金属媒体を育する磁気記録媒体では、磁気ヘッドとの接
触に充分耐える機械的信頼性を有することが必要不可欠
である。W1気記録媒体は、ドライブ構成の簡略化より
、コンタクトスタートストップ(以下C8S方式と略す
、)が採用され、更に磁気記録面の保護のため、磁気記
録面以外のシツピングゾーンの同一トラックでC8Sが
行なわれる場合が多い、又、磁気記録媒体の高密度化に
伴ない、磁気ヘッドもフェライトモノリシックヘッドか
ら、コンポジットヘッド、薄膜ヘッドと変わり、スライ
ダー材の硬度が上昇し、磁気記録媒体の保N膜の耐久性
の向上が求められている。
触に充分耐える機械的信頼性を有することが必要不可欠
である。W1気記録媒体は、ドライブ構成の簡略化より
、コンタクトスタートストップ(以下C8S方式と略す
、)が採用され、更に磁気記録面の保護のため、磁気記
録面以外のシツピングゾーンの同一トラックでC8Sが
行なわれる場合が多い、又、磁気記録媒体の高密度化に
伴ない、磁気ヘッドもフェライトモノリシックヘッドか
ら、コンポジットヘッド、薄膜ヘッドと変わり、スライ
ダー材の硬度が上昇し、磁気記録媒体の保N膜の耐久性
の向上が求められている。
従来、金属磁性媒体の表面に飽和脂肪酸等の有機潤滑層
を設ける方法(特公昭56−30809号)脂肪酸アミ
ドとリン系化合物の混合潤滑層を設ける方法(特公昭5
9−185238)、高級脂肪酸と脂肪酸金属塩の混合
潤滑層を設ける方法(特公昭59−177728)等が
あるが、Hv800以上の硬度の高いスライダーでのC
8Sには悶゛題がある。
を設ける方法(特公昭56−30809号)脂肪酸アミ
ドとリン系化合物の混合潤滑層を設ける方法(特公昭5
9−185238)、高級脂肪酸と脂肪酸金属塩の混合
潤滑層を設ける方法(特公昭59−177728)等が
あるが、Hv800以上の硬度の高いスライダーでのC
8Sには悶゛題がある。
潤滑層と保II膜層との両方の特性を示す一炭素質WL
(特公昭54−33521)、(特開昭53−1432
06)(特開昭56−41524)は、C8S時にキズ
が入らず、磁気ヘッドの衝撃を緩衝するため磁気特性の
劣化もみられないが、Hv800以上の硬度の高いスラ
イダーでは、088回数の増加につれ、炭素質膜が削れ
、摩擦係数が増加するという問題点を有していた。
(特公昭54−33521)、(特開昭53−1432
06)(特開昭56−41524)は、C8S時にキズ
が入らず、磁気ヘッドの衝撃を緩衝するため磁気特性の
劣化もみられないが、Hv800以上の硬度の高いスラ
イダーでは、088回数の増加につれ、炭素質膜が削れ
、摩擦係数が増加するという問題点を有していた。
又、炭素質膜と上記固体潤滑層を組み合わせ、C8S時
の摩擦係数の増加を抑える方法も考案されたが、炭素質
mJS:rs#−潤滑層を均一に塗布する方法が難しく
、C35)ラックのある場所で部分的に摩擦係数が増加
するという問題点を育していた。
の摩擦係数の増加を抑える方法も考案されたが、炭素質
mJS:rs#−潤滑層を均一に塗布する方法が難しく
、C35)ラックのある場所で部分的に摩擦係数が増加
するという問題点を育していた。
上述の如く、従来技術では、硬度の高いスライダーを存
する磁気ヘッドとのC8Sでは充分な機械的信頼性が得
られず、摩擦係数の上昇を押えることができなかった。
する磁気ヘッドとのC8Sでは充分な機械的信頼性が得
られず、摩擦係数の上昇を押えることができなかった。
そこで、本発明はこの様な問題点を解決するもので、そ
の目的とするととろは、高硬度のスライダーを有する磁
気ヘッドでのC8Sでも強磁性金IfII薄膜媒体に機
械的ダメージを与えず、かつ摩擦係数も増加しない磁気
記録媒体を提供することである。
の目的とするととろは、高硬度のスライダーを有する磁
気ヘッドでのC8Sでも強磁性金IfII薄膜媒体に機
械的ダメージを与えず、かつ摩擦係数も増加しない磁気
記録媒体を提供することである。
(問題点を解決するための手段)
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に形成された強
磁性金属薄膜媒体上に炭素の物質より成る薄膜が被覆さ
れ、更に該薄膜に、テフロン布を用い荷Tntoo〜5
00grでバフをせしめ、更に少な(とも脂肪酸とLi
s Nas K1Mg5 Caから選ばれる金属との塩
で融点が80°C以上の物質を被覆せしめた事を特徴と
する。すなわち、非磁性基板上に形成された強磁性金属
薄膜媒体上に、Cr1Tit Ta、Nbから選ばレル
、少すくともtaの物質より成る被膜の形成のを無に於
いて、炭化物及び炭素の物質より成る薄膜を形成し、テ
フロン布を用い荷重100g〜500gでバフをせしめ
、更に少なくとも脂肪酸とL 11Na1に1Mg5
Caから選ばれる金属との塩で融点が80℃以上の物質
を被覆せしめる。
磁性金属薄膜媒体上に炭素の物質より成る薄膜が被覆さ
れ、更に該薄膜に、テフロン布を用い荷Tntoo〜5
00grでバフをせしめ、更に少な(とも脂肪酸とLi
s Nas K1Mg5 Caから選ばれる金属との塩
で融点が80°C以上の物質を被覆せしめた事を特徴と
する。すなわち、非磁性基板上に形成された強磁性金属
薄膜媒体上に、Cr1Tit Ta、Nbから選ばレル
、少すくともtaの物質より成る被膜の形成のを無に於
いて、炭化物及び炭素の物質より成る薄膜を形成し、テ
フロン布を用い荷重100g〜500gでバフをせしめ
、更に少なくとも脂肪酸とL 11Na1に1Mg5
Caから選ばれる金属との塩で融点が80℃以上の物質
を被覆せしめる。
Cr1Ti1Tax Nbは強磁性金属媒体と炭素間の
密着性をより確かにする目的で被覆し、その膜厚は50
〜200人で充分である。
密着性をより確かにする目的で被覆し、その膜厚は50
〜200人で充分である。
炭素は、 ダイヤそ/ド伏、グラフ1イト伏、アモルフ
ォス伏のいずれでも良く、膜厚は150人〜800λ形
成する0以上は真空ls着法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法やCVD法のいずれの方法でも形成
可能である。
ォス伏のいずれでも良く、膜厚は150人〜800λ形
成する0以上は真空ls着法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法やCVD法のいずれの方法でも形成
可能である。
バフは炭素の表面状歯を均一にして、かつ潤滑剤をなじ
ませることを目的として行なうため、化学的に安定なテ
フロンで低圧力(荷!100〜500g)で磁気記録媒
体を回転させながら行なうのがよい。他の材質を用いた
り、圧力を高くする(荷重500g以上)では、バフ材
が炭素上に付着してしまい、効果がない。
ませることを目的として行なうため、化学的に安定なテ
フロンで低圧力(荷!100〜500g)で磁気記録媒
体を回転させながら行なうのがよい。他の材質を用いた
り、圧力を高くする(荷重500g以上)では、バフ材
が炭素上に付着してしまい、効果がない。
脂肪酸とLis Na%に1Mg1Caから選ばれる金
属との塩では、脂肪酸は炭素数が12〜30のものが良
(、直鎖、分校、飽和、ネ飽和の制限はないが、特に直
鎖のものが良好であった。これらの中から、融点が80
℃以上のものを選び用いるが、単独で用いても混合で用
いても良い。これらは極性溶媒に溶解し、スピンコード
法、スプレー法、等透引上げ法の既知の塗布法で形成す
るか、真空IIr着法で形成しても良い、いずれの方法
でも膜厚は50〜200人が適切であった。
属との塩では、脂肪酸は炭素数が12〜30のものが良
(、直鎖、分校、飽和、ネ飽和の制限はないが、特に直
鎖のものが良好であった。これらの中から、融点が80
℃以上のものを選び用いるが、単独で用いても混合で用
いても良い。これらは極性溶媒に溶解し、スピンコード
法、スプレー法、等透引上げ法の既知の塗布法で形成す
るか、真空IIr着法で形成しても良い、いずれの方法
でも膜厚は50〜200人が適切であった。
強磁性金属模膜媒体上に形成された炭素は、磁気ヘッド
の衝撃を緩衝する機能があるが、高硬度のスライダーを
育する磁気ヘッドとのC8Sでは炭素質膜が削れてしま
う、これにテフロン材でのバフを行なうことにより、表
面層の突起が削られ平滑化される。更に、最表面層が削
られることにより、炭素質表面が活性化され、上につけ
る潤滑剤となじみ均一性が良(なる、脂肪酸の金属塩は
摩擦係数を下げる効果が著しく、更に融点が高いため、
高温下でもその作用が失なわれることがない。
の衝撃を緩衝する機能があるが、高硬度のスライダーを
育する磁気ヘッドとのC8Sでは炭素質膜が削れてしま
う、これにテフロン材でのバフを行なうことにより、表
面層の突起が削られ平滑化される。更に、最表面層が削
られることにより、炭素質表面が活性化され、上につけ
る潤滑剤となじみ均一性が良(なる、脂肪酸の金属塩は
摩擦係数を下げる効果が著しく、更に融点が高いため、
高温下でもその作用が失なわれることがない。
このように、緩衝保護膜上に均一に潤滑を塗布すること
が可能となったため、硬度の高いスライダーを訂する磁
気ヘッドとのC8Sでも機械特性は大幅に向上した。次
に実施例で具体的に説明する。
が可能となったため、硬度の高いスライダーを訂する磁
気ヘッドとのC8Sでも機械特性は大幅に向上した。次
に実施例で具体的に説明する。
〔実施例−1〕
鏡面仕上げされたディスク状アルミニウム合金基板上に
非磁性合金メッキとしてNiP合金メッキを約15μm
の厚さにメッキ後、研磨により10μmの厚さ、表面粗
さ0.03μm以下にし、更に金属磁性薄膜としてCo
−N1−P合金を約0.06μm厚にメッキした。
非磁性合金メッキとしてNiP合金メッキを約15μm
の厚さにメッキ後、研磨により10μmの厚さ、表面粗
さ0.03μm以下にし、更に金属磁性薄膜としてCo
−N1−P合金を約0.06μm厚にメッキした。
次にマグネトロンスパッタ装置でCrを100人、炭素
質膜アモルファス状を300人連続して形成した。
質膜アモルファス状を300人連続して形成した。
このディスクを1100Orpで回転させ、押しつけ荷
重100gで内周から外周に向かってテフロンワイプ布
でバフをした。更に下記処理液約2m、9をディスクに
滴下し1500rpmで20秒間回転させるスピンコー
ドを行ない、ステアリン酸ナトリウムを塗布した。
重100gで内周から外周に向かってテフロンワイプ布
でバフをした。更に下記処理液約2m、9をディスクに
滴下し1500rpmで20秒間回転させるスピンコー
ドを行ない、ステアリン酸ナトリウムを塗布した。
処理液
ステアリン酸ナトリウム 0.025gメタノール
50 m、12n−ブタノール
50 mρ〔実施例−2〕 実施例1と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
50 m、12n−ブタノール
50 mρ〔実施例−2〕 実施例1と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
次にマグネトロンスパッタ装置でTiを50人炭素質膜
(ダイヤモンド状+アモルファス状)を400人連続し
て形成した。
(ダイヤモンド状+アモルファス状)を400人連続し
て形成した。
このディスクを2000rPmで回転させ、全体の押し
付は荷11500gでテフロンワイプ布でバフをした。
付は荷11500gでテフロンワイプ布でバフをした。
更に、下記処理液約2m、12をディスクに滴下し、1
500rpm20秒間回転させるスピンコード法でステ
アリン酸カリウムを塗布した。
500rpm20秒間回転させるスピンコード法でステ
アリン酸カリウムを塗布した。
処理液
ステアリン酸カリウム 0.02!5gメタノール
50 mJ2n−ブタノール
50 mρ〔実施例−3〕 実施例1と同様にして金屑媒体を有するディスクを作成
した。
50 mJ2n−ブタノール
50 mρ〔実施例−3〕 実施例1と同様にして金屑媒体を有するディスクを作成
した。
次にマグネトロンスパッタ装置で炭素質膜(アモルファ
ス状)を400人形成した。
ス状)を400人形成した。
このディスクを200Orpmで回転させ全体の押付荷
重200gでテフロンワイプ布でバフをした。更にリグ
ノセリン酸カリウムを抵抗加熱方式で100人蒸着した
。
重200gでテフロンワイプ布でバフをした。更にリグ
ノセリン酸カリウムを抵抗加熱方式で100人蒸着した
。
〔実施例−4〕
実施例1と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
した。
次にマグネトロンスパッタ方式を用いて、Taを100
人、炭素質膜(グラファイト状)400人連続して形成
した。
人、炭素質膜(グラファイト状)400人連続して形成
した。
このディスクを1100Orpで回転させ全体の押付荷
mioogでテフロンワイプ布でバフをした。更に下記
処理液約2mβをディスクに滴下し、1500rl)m
で20秒間回転させるスピンコード法でベヘン酸カリウ
ムを塗布した。
mioogでテフロンワイプ布でバフをした。更に下記
処理液約2mβをディスクに滴下し、1500rl)m
で20秒間回転させるスピンコード法でベヘン酸カリウ
ムを塗布した。
処理液
ベヘン酸カリウム 0.025g
メタノール 50 mfln−ブタ/−J
L/ 50 mJ2(比較例−1〕 実施例1に於いてテフロンワイプのバフを行なわずにス
テアリン酸ナトリウムを塗布した。
L/ 50 mJ2(比較例−1〕 実施例1に於いてテフロンワイプのバフを行なわずにス
テアリン酸ナトリウムを塗布した。
(比較例−2〕
実施例2に於いてテフロンワイプのバフを行なわずにス
テアリン酸カリウムを法布した。
テアリン酸カリウムを法布した。
(比較例−3〕
実施例3に於いてテフロンワイプ布のバフを2Kgで行
ない更にリグノセリン酸カリウムを形成した。
ない更にリグノセリン酸カリウムを形成した。
〔比較例−4〕
実施例4に於いてテフロンワイプ布のバフを2Kgで行
ないぺへン酸カリウムを塗布した。
ないぺへン酸カリウムを塗布した。
〔比較例−5〕
実施例1と同様にして金属媒体を育するディスクを作成
した。
した。
次にマグネトロンスパッタ法でTiを50人炭素質膜(
ダイヤモンド状十アモルファス状)を400人連続して
形成した。
ダイヤモンド状十アモルファス状)を400人連続して
形成した。
以上の実施例、比較例のディスクをC8S試験で行なっ
た。CSS試験は、浮上ff1o、20μmHv120
0のスライダー材質AlTiCの薄膜ヘッドを用いてC
SS前とC3320000回後の静摩擦係数の測定を行
なった。その結果を表1に示す。
た。CSS試験は、浮上ff1o、20μmHv120
0のスライダー材質AlTiCの薄膜ヘッドを用いてC
SS前とC3320000回後の静摩擦係数の測定を行
なった。その結果を表1に示す。
尚、本発明は、フロッピーディスク、磁気テープ、磁気
カードにも適用が可能であり、基板材料は、ガラス、プ
ラスチックでも同様の効果を奏する。
カードにも適用が可能であり、基板材料は、ガラス、プ
ラスチックでも同様の効果を奏する。
表 1
〔発明の効果〕
以上述べた様に、本発明によれば高硬度スライダーを育
する薄膜ヘッドのC8Sにおいても摩擦係数が著しく増
加しない機械的信頼性の高い磁気記録媒体の提供が可能
となった。
する薄膜ヘッドのC8Sにおいても摩擦係数が著しく増
加しない機械的信頼性の高い磁気記録媒体の提供が可能
となった。
以 上
Claims (2)
- (1)非磁性基板上に形成された強磁性金属薄膜媒体上
に炭素の物質より成る薄膜が被覆され、更に該薄膜に、
テフロン布を用い、荷重100g〜500gでバフをせ
しめ、更に少なくとも脂肪酸とLi、Na、K、Mg、
Caから選ばれる金属との塩で融点が80℃以上の物質
を被覆せしめた事を特徴とする磁気記録媒体。 - (2)強磁性金属薄膜媒体と炭素の物質より成る薄膜と
の間にCr、Ti、Ta、Nbから選ばれる少なくとも
1種の物質より成る被膜が形成せしめられた事を特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12872187A JPS63292419A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12872187A JPS63292419A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63292419A true JPS63292419A (ja) | 1988-11-29 |
Family
ID=14991788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12872187A Pending JPS63292419A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63292419A (ja) |
-
1987
- 1987-05-26 JP JP12872187A patent/JPS63292419A/ja active Pending
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