JPH01112593A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH01112593A JPH01112593A JP62268154A JP26815487A JPH01112593A JP H01112593 A JPH01112593 A JP H01112593A JP 62268154 A JP62268154 A JP 62268154A JP 26815487 A JP26815487 A JP 26815487A JP H01112593 A JPH01112593 A JP H01112593A
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- memory cell
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体記憶装置におけるメモリセルデータの一
括書き換えもしくはリセット技術に関し、例えばアドレ
ス変換参照テーブルやキャッシュメモリに適用して有効
な技術に関するものである。
括書き換えもしくはリセット技術に関し、例えばアドレ
ス変換参照テーブルやキャッシュメモリに適用して有効
な技術に関するものである。
従来、メモリセルをマトリクス配置して成るメモリセル
アレイを備えた半導体記憶装置において。
アレイを備えた半導体記憶装置において。
メモリセルの選択は、メモリセルの選択端子が行毎に結
合されたワード線の選択と、メモリセルのデータ入出力
端子が列毎に結合されたビット線の選択動作によって行
われる。したがって、列方向の特定ビットを順次アクセ
スするにはワード線を順次1本づつ選択するようにして
アドレススキャンをしなければならない。尚、半導体記
憶装置について記載された文献の例としては昭和59年
11月30日オーム社発行のrLSIハンドブック」P
2O3及びP2O3がある。
合されたワード線の選択と、メモリセルのデータ入出力
端子が列毎に結合されたビット線の選択動作によって行
われる。したがって、列方向の特定ビットを順次アクセ
スするにはワード線を順次1本づつ選択するようにして
アドレススキャンをしなければならない。尚、半導体記
憶装置について記載された文献の例としては昭和59年
11月30日オーム社発行のrLSIハンドブック」P
2O3及びP2O3がある。
ところで、SRAM (スタティック・ランダム・アク
セス・メモリ)やDRAM (ダイナミック・ランダム
・アクセス・メモリ)などの電気的に書き換え可能なメ
モリはアドレス変換参照テーブルやキャッシュメモリに
利用される。斯る用途において、アドレス変換情報など
のデータは複数ビットで構成される場合が殆どであるか
ら、それらデータは、複数ビット単位で一括アクセス可
能にワード方向のメモリセルにワード線単位で格納され
、且つ、アドレス変換情報などのデータにはその有効性
を意味するようなフラグビットが付加されている。この
フラグビットはそれと対を成すデータの有効性を意味す
る性質上、フラグビットと対を成すデータの書き換えに
当たっては、先ずフラグビットの有効性が判断され、無
効とされているデータから書き換えが実行される。した
がって、アドレス変換参照テーブルやキャッシュメモリ
においてその格納データを全て書き換えるに際しては。
セス・メモリ)やDRAM (ダイナミック・ランダム
・アクセス・メモリ)などの電気的に書き換え可能なメ
モリはアドレス変換参照テーブルやキャッシュメモリに
利用される。斯る用途において、アドレス変換情報など
のデータは複数ビットで構成される場合が殆どであるか
ら、それらデータは、複数ビット単位で一括アクセス可
能にワード方向のメモリセルにワード線単位で格納され
、且つ、アドレス変換情報などのデータにはその有効性
を意味するようなフラグビットが付加されている。この
フラグビットはそれと対を成すデータの有効性を意味す
る性質上、フラグビットと対を成すデータの書き換えに
当たっては、先ずフラグビットの有効性が判断され、無
効とされているデータから書き換えが実行される。した
がって、アドレス変換参照テーブルやキャッシュメモリ
においてその格納データを全て書き換えるに際しては。
先ずフラグビットを、無効を意味するレベルに書き換え
てリセットしておかなければならない。
てリセットしておかなければならない。
しかしながら、アドレス変換情報などのデータやそれと
対を成すフラグビットがワード線単位でメモリセルに格
納されていると、アドレス変換情報などのデータを全体
的に書き換える動作に先立って全てのフラグビットを無
効レベルにリセットするには、ワード線を順次1本づつ
選択するようにしてアドレススキャンを行いながら各フ
ラグビットを逐次書きえなければならず、これにより、
フラグビットをリセットする動作に時間がかかるという
問題点があった。
対を成すフラグビットがワード線単位でメモリセルに格
納されていると、アドレス変換情報などのデータを全体
的に書き換える動作に先立って全てのフラグビットを無
効レベルにリセットするには、ワード線を順次1本づつ
選択するようにしてアドレススキャンを行いながら各フ
ラグビットを逐次書きえなければならず、これにより、
フラグビットをリセットする動作に時間がかかるという
問題点があった。
本発明の目的は、ワード線選択動作とは無関係に複数の
メモリセルデータを一括して高速に書き換えることがで
きる半導体記憶装置を提供することにある。
メモリセルデータを一括して高速に書き換えることがで
きる半導体記憶装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう
。
本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう
。
c問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば下記の通りである。
を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち1選択端子がワード線に結合され、データ入出
力端子がビット線に結合されたメモリセルを含み、その
メモリセルのデータ保持部の端子例えばスタティック型
メモリセルに含まれるフリップフロップ回路の一方のデ
ータ入出力端子をワード線選択動作とは独立して選択的
にレベル強制するレベル強制手段を備えて成るものであ
る〔作 用〕 上記した手段によれば、レベル強制手段により、ワード
線選択動作とは独立してメモリセルにおけるデータ保持
部の端子がその保持データレベルに関係なく所定レベル
に強制されることにより、ビット線方向に並ぶメモリセ
ル列のように複数の異なるワード線に結合されている多
数のメモリセルの保持データを所定レベルに書き換える
リセット動作の高速化を達成するものである。
力端子がビット線に結合されたメモリセルを含み、その
メモリセルのデータ保持部の端子例えばスタティック型
メモリセルに含まれるフリップフロップ回路の一方のデ
ータ入出力端子をワード線選択動作とは独立して選択的
にレベル強制するレベル強制手段を備えて成るものであ
る〔作 用〕 上記した手段によれば、レベル強制手段により、ワード
線選択動作とは独立してメモリセルにおけるデータ保持
部の端子がその保持データレベルに関係なく所定レベル
に強制されることにより、ビット線方向に並ぶメモリセ
ル列のように複数の異なるワード線に結合されている多
数のメモリセルの保持データを所定レベルに書き換える
リセット動作の高速化を達成するものである。
第3図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例である
SRAM (スタティック・ランダム・アクセス・メモ
リ)の全体を示す概略ブロック図である。同図に示され
るSRAMは、特に制限されないが、アドレス変換参照
テーブルに利用され、公知の半導体集積回路製造技術に
よって1つの半導体基板に形成される。
SRAM (スタティック・ランダム・アクセス・メモ
リ)の全体を示す概略ブロック図である。同図に示され
るSRAMは、特に制限されないが、アドレス変換参照
テーブルに利用され、公知の半導体集積回路製造技術に
よって1つの半導体基板に形成される。
本実施例のSRAMは、特に制限されないが、スタティ
ック型メモリセルをn行n列にマトリクス配置して成る
メモリセルアレイMCAを有する。
ック型メモリセルをn行n列にマトリクス配置して成る
メモリセルアレイMCAを有する。
メモリセルアレイMCAに含まれるメモリセルの選択端
子は行毎にワード線WL、〜WLnに結合され、メモリ
セルのデータ入出力端子は列毎にビット線対BL、、B
L、〜BLn、BLnに結合される。上記ビット線対B
LI、BL、〜BLn、BLnの一端部は図示しない負
荷トランジスタに結合され、他端部は特に制限されない
が図示しないセンスアンプを介してnビットのデータを
並列的に入出力可能な入出力回路I10に結合される。
子は行毎にワード線WL、〜WLnに結合され、メモリ
セルのデータ入出力端子は列毎にビット線対BL、、B
L、〜BLn、BLnに結合される。上記ビット線対B
LI、BL、〜BLn、BLnの一端部は図示しない負
荷トランジスタに結合され、他端部は特に制限されない
が図示しないセンスアンプを介してnビットのデータを
並列的に入出力可能な入出力回路I10に結合される。
上記ワード線WL工〜WLnはアドレスデコーダADE
Cの出力選択信号によりアドレス信号に応じた所定の1
本が選択レベルに駆動される。アドレス信号に応じて所
定1本のワード線が選択レベルに駆動されると、当該ワ
ード線に結合されるメモリセル列データ入出力端子が上
記入出力回路I10に導通にされ、メモリアクセス動作
の種類に従って外部から供給されるデータが当該メモリ
セルに書き込まれ、また、当該メモリセルのデータが外
部に読み出される。
Cの出力選択信号によりアドレス信号に応じた所定の1
本が選択レベルに駆動される。アドレス信号に応じて所
定1本のワード線が選択レベルに駆動されると、当該ワ
ード線に結合されるメモリセル列データ入出力端子が上
記入出力回路I10に導通にされ、メモリアクセス動作
の種類に従って外部から供給されるデータが当該メモリ
セルに書き込まれ、また、当該メモリセルのデータが外
部に読み出される。
本実施例のSRAMがアドレス変換参照テーブルに利用
される場合、特に制限されないが、1単位もしくは1群
を構成するmビットのアドレス変換情報はワード線単位
で行方向に格納され、各アドレス変換情報にはその有効
性を示すフラグビットが各行アドレス毎に1ビツトづつ
付加されている。第3図に示されるメモリセルアレイM
CAにおいてDEは、mビットを1単位とするアドレス
変換情報をビット線対BL□、BL工〜BLm、BLm
に対応するメモリセルにワード線毎に格納可能なアドレ
ス変換情報格納領域とされ、FEは特に制限されないが
ビット線対BLn、BLnに対応する1列のメモリセル
列にフラグビットを格納するフラグビット格納領域とさ
れる。
される場合、特に制限されないが、1単位もしくは1群
を構成するmビットのアドレス変換情報はワード線単位
で行方向に格納され、各アドレス変換情報にはその有効
性を示すフラグビットが各行アドレス毎に1ビツトづつ
付加されている。第3図に示されるメモリセルアレイM
CAにおいてDEは、mビットを1単位とするアドレス
変換情報をビット線対BL□、BL工〜BLm、BLm
に対応するメモリセルにワード線毎に格納可能なアドレ
ス変換情報格納領域とされ、FEは特に制限されないが
ビット線対BLn、BLnに対応する1列のメモリセル
列にフラグビットを格納するフラグビット格納領域とさ
れる。
上記フラグビット格納領域FEに含まれる1列分のメモ
リセルMCは、そのデータ保持部の端子をワード線選択
動作とは独立して選択的にレベル強制し得るレベル強制
手段を備えて成るものである。
リセルMCは、そのデータ保持部の端子をワード線選択
動作とは独立して選択的にレベル強制し得るレベル強制
手段を備えて成るものである。
第1図は上記メモリセルMCの一例を示す回路図である
。このメモリセルMCは相補型MO3(以下単にCMO
8とも記す)インバータ回路によって構成されるフリッ
プフロップ回路FFをデータ保持部とする。即ち、この
フリップフロップ回路FFは、Pチャンネル型MO8F
ETQ1及びNチャンネル型MO8FETQ2を電源端
子■dd、Vss間に直列接続したCMOSインバータ
回路INVIと、Pチャンネル型MO8FETQ3及び
Nチャンネル型MO8FETQ4を電源端子Vdd、V
ss間に直列接続したCMOSインバータ回路INV2
とを備え、CMOSインバータ回路INVIの入力端子
がCMOSインバータ回路INV2の出力端子に結合さ
れると共に、CMOSインバータ回路INVIの出力端
子がCMOSインバータ回路INV2の入力端子に結合
されて構成される。フリップフロップ回路FFのデータ
入出力端子は選択MO8FETQ5.Q6を介して夫々
ビット線対BLn、BLnに結合され、それら選択MO
3FETQ5.Q6のグー1〜電極はワード線WL□(
wL2〜W L n )に結合される。メモリセルMC
におけるここまでの構成は上記アドレス変換情報格納領
域DEに含まれる通常のスタティック型メモリセルの構
成と変わりないが、更に、レベル強制手段として、選択
MO8FETQ5とCMOSインバータ回路INV17
)出力端子との結合ノードを回路の接地端子のような一
方の電源端子Vssに選択的に導通とするNチャンネル
型すセットMO8FETQ7が設けられる。フラグビッ
ト格納領域FEを構成する全てのメモリセルMCに含ま
れるこのリセットMO8FETQ7のゲート電極にはリ
セット信号RESETが共通に印加される。リセット信
号RESETは直接外部制御端子から供給するようにし
てもよいし、また、外部制御信号のレベルの組合せによ
って図示しない内部制御回路でフラグビットのリセット
動作モードが設定されるとき、当該図示しない内部制御
回路によって所定時間ハイレベルのようなリセット指示
レベルに制御されるようにしてもよい。
。このメモリセルMCは相補型MO3(以下単にCMO
8とも記す)インバータ回路によって構成されるフリッ
プフロップ回路FFをデータ保持部とする。即ち、この
フリップフロップ回路FFは、Pチャンネル型MO8F
ETQ1及びNチャンネル型MO8FETQ2を電源端
子■dd、Vss間に直列接続したCMOSインバータ
回路INVIと、Pチャンネル型MO8FETQ3及び
Nチャンネル型MO8FETQ4を電源端子Vdd、V
ss間に直列接続したCMOSインバータ回路INV2
とを備え、CMOSインバータ回路INVIの入力端子
がCMOSインバータ回路INV2の出力端子に結合さ
れると共に、CMOSインバータ回路INVIの出力端
子がCMOSインバータ回路INV2の入力端子に結合
されて構成される。フリップフロップ回路FFのデータ
入出力端子は選択MO8FETQ5.Q6を介して夫々
ビット線対BLn、BLnに結合され、それら選択MO
3FETQ5.Q6のグー1〜電極はワード線WL□(
wL2〜W L n )に結合される。メモリセルMC
におけるここまでの構成は上記アドレス変換情報格納領
域DEに含まれる通常のスタティック型メモリセルの構
成と変わりないが、更に、レベル強制手段として、選択
MO8FETQ5とCMOSインバータ回路INV17
)出力端子との結合ノードを回路の接地端子のような一
方の電源端子Vssに選択的に導通とするNチャンネル
型すセットMO8FETQ7が設けられる。フラグビッ
ト格納領域FEを構成する全てのメモリセルMCに含ま
れるこのリセットMO8FETQ7のゲート電極にはリ
セット信号RESETが共通に印加される。リセット信
号RESETは直接外部制御端子から供給するようにし
てもよいし、また、外部制御信号のレベルの組合せによ
って図示しない内部制御回路でフラグビットのリセット
動作モードが設定されるとき、当該図示しない内部制御
回路によって所定時間ハイレベルのようなリセット指示
レベルに制御されるようにしてもよい。
したがって、フラグビット格納領域FEに含まれる全て
のメモリセルMCのデータを所定のレベルに書き換えて
フラグビットをリセットする場合。
のメモリセルMCのデータを所定のレベルに書き換えて
フラグビットをリセットする場合。
リセット信号RESETをハイレベルに制御すると、フ
リップフロップ回路FFにおけるCMOSインバータI
NVI側のデータ入出力端子がロウレベルに強制されて
各フリップフロップ回路FFのラッチデータが夫々同一
レベルに書き換えられ。
リップフロップ回路FFにおけるCMOSインバータI
NVI側のデータ入出力端子がロウレベルに強制されて
各フリップフロップ回路FFのラッチデータが夫々同一
レベルに書き換えられ。
これにより、フラグビットの一括リセットが実行される
。フラグビットの一括リセットに際してリセット信号R
ESETのハイレベル期間は通常のデータ書き込み動作
における1回の書き換え時間に呼応する時間で足りる。
。フラグビットの一括リセットに際してリセット信号R
ESETのハイレベル期間は通常のデータ書き込み動作
における1回の書き換え時間に呼応する時間で足りる。
第2図は上記メモリセルMCの他の例を示す回路図であ
る。このメモリセルMCも第1図のメモリセルMC同様
にCMOSインバータ回路INV1及びINV2によっ
て構成されるフリップフロップ回路FFをデータ保持部
とするが、レベル強制手段は、フリップフロップ回路F
FにおけるCMOSインバータ回路INV2の接地電極
を一方の電源端子Vssの接地電位に呼応する電圧信号
又は他方の電源端子Vddの電源電圧に呼応電圧信号を
選択的に供給可能とするリセット信号線Lresetと
される。このリセット信号線Lresetは、特に制限
されないが、上記第1図のリセット信号RESETの為
の信号線に代替し得るもので、外部制御信号のレベルの
組合せにより図示しない内部制御回路でフラグビットの
リセット動作モードが設定されるとき、当該図示しない
内部制御回路によって所定時間他方の電源端子Vddに
印加されるものと同じハイレベルの電圧信号が供給され
、それ以外の場合には一方の電源端子Vssに印加され
るものと同じロウレベルの電圧信号が供給されるように
制御される。
る。このメモリセルMCも第1図のメモリセルMC同様
にCMOSインバータ回路INV1及びINV2によっ
て構成されるフリップフロップ回路FFをデータ保持部
とするが、レベル強制手段は、フリップフロップ回路F
FにおけるCMOSインバータ回路INV2の接地電極
を一方の電源端子Vssの接地電位に呼応する電圧信号
又は他方の電源端子Vddの電源電圧に呼応電圧信号を
選択的に供給可能とするリセット信号線Lresetと
される。このリセット信号線Lresetは、特に制限
されないが、上記第1図のリセット信号RESETの為
の信号線に代替し得るもので、外部制御信号のレベルの
組合せにより図示しない内部制御回路でフラグビットの
リセット動作モードが設定されるとき、当該図示しない
内部制御回路によって所定時間他方の電源端子Vddに
印加されるものと同じハイレベルの電圧信号が供給され
、それ以外の場合には一方の電源端子Vssに印加され
るものと同じロウレベルの電圧信号が供給されるように
制御される。
したがって、第2図のメモリセルにおいて、フラグビッ
ト格納領域FEに含まれる全てのメモリセルMCのデー
タを所定のレベルに書き換えてフラグビットをリセット
する場合、リセット信号線Lresetにハイレベルの
電圧信号が供給されると、フリップフロップ回路FFに
おけるCMOSインバータINVZ側のデータ入出力端
子がハイレベルに強制されて各フリップフロップ回路F
Fのラッチデータが夫々同一レベルに書き換えられ、こ
れにより、フラグビットの一括リセットが実行される。
ト格納領域FEに含まれる全てのメモリセルMCのデー
タを所定のレベルに書き換えてフラグビットをリセット
する場合、リセット信号線Lresetにハイレベルの
電圧信号が供給されると、フリップフロップ回路FFに
おけるCMOSインバータINVZ側のデータ入出力端
子がハイレベルに強制されて各フリップフロップ回路F
Fのラッチデータが夫々同一レベルに書き換えられ、こ
れにより、フラグビットの一括リセットが実行される。
フラグビットの一括リセットに際してハイレベル電圧信
号の供給期間は通常のデータ書き込み動作における1回
の書き換え時間に呼応する時間で足りる。
号の供給期間は通常のデータ書き込み動作における1回
の書き換え時間に呼応する時間で足りる。
上記実施例によれば以下の作用効果を得るものである。
(1)フラグビット格納領域に含まれるスタティック型
メモリセルMCは、そのフリップフロップ回路FFの一
方のデータ入出力端子をワード線選択動作とは独立して
選択的にレベル強制し得るレベル強制手段としてリセッ
トMO8FETQ7或いはリセット信号線Lresat
を持つことにより、ワード線選択動作とは独立して1列
の各メモリセルMCにおけるフリップフロップ回路FF
のラッチデータを概ね1回の書き込み時間で夫々同一レ
ベルに書き換えることができ、これにより。
メモリセルMCは、そのフリップフロップ回路FFの一
方のデータ入出力端子をワード線選択動作とは独立して
選択的にレベル強制し得るレベル強制手段としてリセッ
トMO8FETQ7或いはリセット信号線Lresat
を持つことにより、ワード線選択動作とは独立して1列
の各メモリセルMCにおけるフリップフロップ回路FF
のラッチデータを概ね1回の書き込み時間で夫々同一レ
ベルに書き換えることができ、これにより。
ビット線方向に並ぶメモリセル列のように複数の異なる
ワード線に結合されている多数のメモリセルMCの保持
データを所定レベルに書き換えるリセット動作の高速化
を達成することができる。
ワード線に結合されている多数のメモリセルMCの保持
データを所定レベルに書き換えるリセット動作の高速化
を達成することができる。
(2)上記作用効果より、アドレス変換参照テーブルの
内容を更新する動作の高速化に寄与することができる。
内容を更新する動作の高速化に寄与することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて
具体的に説明したが本発明はそれに限定されず、その要
旨を逸脱しない範囲において種々変更することができる
ことは言うまでもない。
具体的に説明したが本発明はそれに限定されず、その要
旨を逸脱しない範囲において種々変更することができる
ことは言うまでもない。
例えばスタティック型メモリセルのフリップフロップ回
路は相補形MOSインバータ回路によって構成されるも
のに限定されず適宜変更することができる。また、メモ
リのアドレシングならびにデータ入出力のための構成は
上記実施例のような行単位でメモリセルをアクセスして
データの入出力を行うものに限定されず、ビット線を選
択するための回路構成が付加される形式にしてもよい。
路は相補形MOSインバータ回路によって構成されるも
のに限定されず適宜変更することができる。また、メモ
リのアドレシングならびにデータ入出力のための構成は
上記実施例のような行単位でメモリセルをアクセスして
データの入出力を行うものに限定されず、ビット線を選
択するための回路構成が付加される形式にしてもよい。
また本発明はSRAMに限定されず、DRAM(ダイナ
ミック・ランダム・アクセス・メモリ)や擬似SRAM
など各種半導体記憶装置に適用することができる。例え
ば、DRAMにリセットMO8FETQ7のようなレベ
ル強制手段を適用する場合には、蓄積容量の一方の電極
を選択的に他方の電極レベルと同一にすることができる
ようにリセットMO8FETを配置すればよい。
ミック・ランダム・アクセス・メモリ)や擬似SRAM
など各種半導体記憶装置に適用することができる。例え
ば、DRAMにリセットMO8FETQ7のようなレベ
ル強制手段を適用する場合には、蓄積容量の一方の電極
を選択的に他方の電極レベルと同一にすることができる
ようにリセットMO8FETを配置すればよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるアドレス変換参照テ
ーブルに適用した場合について説。
をその背景となった利用分野であるアドレス変換参照テ
ーブルに適用した場合について説。
明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、キ
ャッシュメモリや画像メモリもしくはビットマツプメモ
リなど各種用途に適用することができる。キャッシュメ
モリに適用する場合にはアドレス変換参照テーブル同様
にデータの有効性を示すフラグビットの一括リセットに
利用することができ、また、画像メモリに適用される場
合にはメモリセル全体のリセット動作に利用することが
できる0本発明は少なくとも複数のメモリセルデータを
一括して所定レベルに書き換えてリセットする条件のも
のに適用することができる。
ャッシュメモリや画像メモリもしくはビットマツプメモ
リなど各種用途に適用することができる。キャッシュメ
モリに適用する場合にはアドレス変換参照テーブル同様
にデータの有効性を示すフラグビットの一括リセットに
利用することができ、また、画像メモリに適用される場
合にはメモリセル全体のリセット動作に利用することが
できる0本発明は少なくとも複数のメモリセルデータを
一括して所定レベルに書き換えてリセットする条件のも
のに適用することができる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、メモリセルのデータ保持部の端子をワード線
選択動作とは独立して選択的にレベル強制するレベル強
制手段により、ワード線選択動作とは独立してメモリセ
ルにおけるデータ保持部の端子がその保持データレベル
に関係なく所定レベルに強制されることにより、ビット
線方向に並ぶメモリセル列のように複数の異なるワード
線に結合されている多数のメモリセルの保持データを所
定レベルに書き換えるリセット動作の高速化を達成する
ことができるという効果がある。
選択動作とは独立して選択的にレベル強制するレベル強
制手段により、ワード線選択動作とは独立してメモリセ
ルにおけるデータ保持部の端子がその保持データレベル
に関係なく所定レベルに強制されることにより、ビット
線方向に並ぶメモリセル列のように複数の異なるワード
線に結合されている多数のメモリセルの保持データを所
定レベルに書き換えるリセット動作の高速化を達成する
ことができるという効果がある。
第1図はレベル強制手段を備えたメモリセルの一例を示
す回路図。 第2図はレベル強制手段を備えたメモリセルの他の例を
示す回路図、 第3図は本発明に係る半導体記憶袋はの一実施例である
SRAMの全体を示す概略ブロック図である。 MCA・・・メモリセルアレイ、DE・・・アドレス変
換情報格納領域、FE・・・フラグビット格納領域、W
L L 〜W L n ・=ワード線、BL、、BL1
〜BLn、BLn・・・ビット線、ADEC・・・アド
レスデコーダ、Ilo・・・入出力回路、RESET・
・・リセット信号、Lreset・・・リセット信号線
、MC・・・レベル強制手段を備えるスタティック型メ
モリセル、FF・・・フリップフロップ回路、INVI
、IN V 2−CM OSインバータ回路、Q5.Q
6−・・選択MOSFET、Q7・・・リセットMO3
FET、V d d 、 V s s・・・電源端子。 第 1vA 第 2 図 FF−7リツブフクーノブ
す回路図。 第2図はレベル強制手段を備えたメモリセルの他の例を
示す回路図、 第3図は本発明に係る半導体記憶袋はの一実施例である
SRAMの全体を示す概略ブロック図である。 MCA・・・メモリセルアレイ、DE・・・アドレス変
換情報格納領域、FE・・・フラグビット格納領域、W
L L 〜W L n ・=ワード線、BL、、BL1
〜BLn、BLn・・・ビット線、ADEC・・・アド
レスデコーダ、Ilo・・・入出力回路、RESET・
・・リセット信号、Lreset・・・リセット信号線
、MC・・・レベル強制手段を備えるスタティック型メ
モリセル、FF・・・フリップフロップ回路、INVI
、IN V 2−CM OSインバータ回路、Q5.Q
6−・・選択MOSFET、Q7・・・リセットMO3
FET、V d d 、 V s s・・・電源端子。 第 1vA 第 2 図 FF−7リツブフクーノブ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、選択端子がワード線に結合され、データ入出力端子
がビット線に結合されたメモリセルを含み、そのメモリ
セルのデータ保持部の端子をワード線選択動作とは独立
して選択的にレベル強制するレベル強制手段を備えて成
るものであることを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記レベル強制手段、スタティック型メモリセルに
含まれるフリップフロップ回路の一方のデータ入出力端
子に一方の電源電圧を選択的に供給可能とするスイッチ
素子であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半導体記憶装置。 3、上記レベル強制手段は、スタティック型メモリセル
に含まれるフリップフロップ回路の一方の電源端子に一
方又は他方の電源電圧に呼応する電圧信号を選択的に供
給可能とする信号線であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62268154A JPH01112593A (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62268154A JPH01112593A (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112593A true JPH01112593A (ja) | 1989-05-01 |
Family
ID=17454647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62268154A Pending JPH01112593A (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01112593A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04247394A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-09-03 | Kawasaki Steel Corp | メモリセル |
| CN104884600A (zh) * | 2012-12-26 | 2015-09-02 | 花王株式会社 | 衣料用粉末洗涤剂组合物 |
| US11879110B2 (en) | 2019-11-27 | 2024-01-23 | The Procter & Gamble Company | Alkylbenzenesulfonate surfactants |
-
1987
- 1987-10-26 JP JP62268154A patent/JPH01112593A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04247394A (ja) * | 1991-01-31 | 1992-09-03 | Kawasaki Steel Corp | メモリセル |
| CN104884600A (zh) * | 2012-12-26 | 2015-09-02 | 花王株式会社 | 衣料用粉末洗涤剂组合物 |
| US11879110B2 (en) | 2019-11-27 | 2024-01-23 | The Procter & Gamble Company | Alkylbenzenesulfonate surfactants |
| US12247182B2 (en) | 2019-11-27 | 2025-03-11 | The Procter & Gamble Company | Alkylbenzenesulfonate surfactants |
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