JPH01111893A - パターン状電解酸化膜およびその作製方法 - Google Patents
パターン状電解酸化膜およびその作製方法Info
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- JPH01111893A JPH01111893A JP26988687A JP26988687A JPH01111893A JP H01111893 A JPH01111893 A JP H01111893A JP 26988687 A JP26988687 A JP 26988687A JP 26988687 A JP26988687 A JP 26988687A JP H01111893 A JPH01111893 A JP H01111893A
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 34
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 77
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- -1 Polycyclic aromatic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 6
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N azulene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC2=C1 CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M lithium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSQIUQGZWDQMEL-UHFFFAOYSA-N 1-methylazulene Chemical compound C1=CC=CC=C2C(C)=CC=C21 WSQIUQGZWDQMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229930184652 p-Terphenyl Natural products 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002468 redox effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 2
- GEZGAZKEOUKLBR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole Chemical compound C1=CC=CN1C1=CC=CC=C1 GEZGAZKEOUKLBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXSFECAJUBPPFE-UHFFFAOYSA-N 2,2':5',2''-terthiophene Chemical compound C1=CSC(C=2SC(=CC=2)C=2SC=CC=2)=C1 KXSFECAJUBPPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYTMVABTDYMBQK-UHFFFAOYSA-N 2-benzothiophene Chemical compound C1=CC=CC2=CSC=C21 LYTMVABTDYMBQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 125000000621 oxo-lambda(3)-chloranyloxy group Chemical group *OCl=O 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は改良されたパターン状電解酸化膜およびその作
製方法に関する。
製方法に関する。
近年、液晶表示をはじめとしたディジタル表示装置や、
タッチベン方式の手書き入力装置、ファクシミリ装置等
の急激な需要の増加が見られる。
タッチベン方式の手書き入力装置、ファクシミリ装置等
の急激な需要の増加が見られる。
これらの宅内装置の入出力部品の表示部、コネクター、
例えば液晶表示装置やエレクトロクロミック表示装置の
表示部、電極取出部の接続、タッチペンの入力、ファク
シミリにおけるイメージセンサ−の出力取出し等に対し
て、任意のパターン状に高8電性を有する安価なフィル
ムが要求されている。また、センサー素子においても年
々小型化とソリッドステート化が進められ、例えばイオ
ンセンサーについても微少な電極部分に対して任意のパ
ターン状に導電性や酸化還元性のある均質なフィルムを
作製することが要求されている。
例えば液晶表示装置やエレクトロクロミック表示装置の
表示部、電極取出部の接続、タッチペンの入力、ファク
シミリにおけるイメージセンサ−の出力取出し等に対し
て、任意のパターン状に高8電性を有する安価なフィル
ムが要求されている。また、センサー素子においても年
々小型化とソリッドステート化が進められ、例えばイオ
ンセンサーについても微少な電極部分に対して任意のパ
ターン状に導電性や酸化還元性のある均質なフィルムを
作製することが要求されている。
従来、導電性の高分子フィルムとしては、各種の熱可塑
性樹脂に導電性充填材を混入し、それを成形してフィル
ム化したもの、高分子フィルムの表面に導電性の材料を
蒸着、スプレー塗布、又はメツキしたもの等が使用され
てきた。これらいずれのフィルムでも、均一な導電性の
フィルムを得ることは容易であるが、所望のパターン状
にのみ導電性を付与したフィルムを得るには、フィルム
に何らかのパターン成形工程を施す必要がある。
性樹脂に導電性充填材を混入し、それを成形してフィル
ム化したもの、高分子フィルムの表面に導電性の材料を
蒸着、スプレー塗布、又はメツキしたもの等が使用され
てきた。これらいずれのフィルムでも、均一な導電性の
フィルムを得ることは容易であるが、所望のパターン状
にのみ導電性を付与したフィルムを得るには、フィルム
に何らかのパターン成形工程を施す必要がある。
他方、このような金属やカーボンと各種樹脂との複合系
とは異なり、高分子材自体が導電性を有する導電性高分
子材が、その高い導電性ゆえに注目を浴びている。すな
わち、ある種の芳香族化合物は、電′IN、質を添加し
た溶媒中に溶解して、これを電解酸化することにより、
導電性の高分子膜を電1i1板上に形成させることがで
きる。このような芳香族化合物としては、ビロール類、
チオフェン類等の複素環式化合物、アズレン、ピレン、
トリフェニレン等の多環芳香族化合物が知られている〔
例えば、J、バーボン(J、Bargon> 、 S、
モーマント(S、Hohmand ) 、 R、J 、
ウォルトマン(R,J、Waltn+an ) 、
I BM ジャーナル オブリサーチ アンド デベ
ロップメント(IBMJournal of Re5e
arch & DevelopIIlent )第27
巻第4号 第330頁(1983年)参照〕。これらの
高分子は、導電性を示す以外にも可逆な酸化還元性を持
ち、エレクトロクロミズム性を示し、電池や表示、セン
サー材料としても注目されている。
とは異なり、高分子材自体が導電性を有する導電性高分
子材が、その高い導電性ゆえに注目を浴びている。すな
わち、ある種の芳香族化合物は、電′IN、質を添加し
た溶媒中に溶解して、これを電解酸化することにより、
導電性の高分子膜を電1i1板上に形成させることがで
きる。このような芳香族化合物としては、ビロール類、
チオフェン類等の複素環式化合物、アズレン、ピレン、
トリフェニレン等の多環芳香族化合物が知られている〔
例えば、J、バーボン(J、Bargon> 、 S、
モーマント(S、Hohmand ) 、 R、J 、
ウォルトマン(R,J、Waltn+an ) 、
I BM ジャーナル オブリサーチ アンド デベ
ロップメント(IBMJournal of Re5e
arch & DevelopIIlent )第27
巻第4号 第330頁(1983年)参照〕。これらの
高分子は、導電性を示す以外にも可逆な酸化還元性を持
ち、エレクトロクロミズム性を示し、電池や表示、セン
サー材料としても注目されている。
しかしながら、電極基板上での電解酸化により高分子膜
を形成する方法では、形成される高分子の溶解度のため
使用可能なモノマーが制限される、形成された膜の均質
性が低い、形成される膜の量に比較して使用するモノマ
ーのfitが多い、′電解溶媒の汚染が著しい、等の種
々の問題がある。また、得られる導電性高分子材 成形加工が難しいため、これをパターン化する技術は確
立されていなかった。さらに、このようなモノマー溶液
からの電解重合では溶液中のモノマーが電極表面に拡散
して重合するが、電極面では中心と周辺での七ツマ−の
拡散状態が異なるために重合速度が異なり、電極上の各
位置で均質な重合膜を得ることが難しい。パターン状電
極を用いた場合には、パターンの大小やパターン密度に
よリモノマーの拡散状態が複雑になるため均一な膜とは
ならず、重合の制御も難しい。
を形成する方法では、形成される高分子の溶解度のため
使用可能なモノマーが制限される、形成された膜の均質
性が低い、形成される膜の量に比較して使用するモノマ
ーのfitが多い、′電解溶媒の汚染が著しい、等の種
々の問題がある。また、得られる導電性高分子材 成形加工が難しいため、これをパターン化する技術は確
立されていなかった。さらに、このようなモノマー溶液
からの電解重合では溶液中のモノマーが電極表面に拡散
して重合するが、電極面では中心と周辺での七ツマ−の
拡散状態が異なるために重合速度が異なり、電極上の各
位置で均質な重合膜を得ることが難しい。パターン状電
極を用いた場合には、パターンの大小やパターン密度に
よリモノマーの拡散状態が複雑になるため均一な膜とは
ならず、重合の制御も難しい。
最近、パターン化された導電部位を持つ基板上にポリ塩
化ビニルのごとき汎用高分子を塗布し、これを電極とし
て七ツマー溶液中で電解酸化する方法が見出されている
。しかし、この方法で得られたパターン状導電性高分子
膜は、S電性高分子が汎用高分子中に分散されたものと
なり、導電性が極度に小さくなるほか、酸化還元速度も
小さくなり、エレクトロクロミズム性やセンサーとして
の感受性も低下する。また、重合自体も汎用高分子中の
七ツマ−の拡散に依存しており、これに伴う重合の不均
一性の問題は何ら解決されていない。
化ビニルのごとき汎用高分子を塗布し、これを電極とし
て七ツマー溶液中で電解酸化する方法が見出されている
。しかし、この方法で得られたパターン状導電性高分子
膜は、S電性高分子が汎用高分子中に分散されたものと
なり、導電性が極度に小さくなるほか、酸化還元速度も
小さくなり、エレクトロクロミズム性やセンサーとして
の感受性も低下する。また、重合自体も汎用高分子中の
七ツマ−の拡散に依存しており、これに伴う重合の不均
一性の問題は何ら解決されていない。
本発明は前記従来の欠点を除去するためになされたもの
であり、その目的は高い均質性を有するパターン状高分
子(電解酸化)膜、および、それらの効率よい作製方法
を提供づることにある。
であり、その目的は高い均質性を有するパターン状高分
子(電解酸化)膜、および、それらの効率よい作製方法
を提供づることにある。
本発明を概説づれば、本発明の第1の発明はパターン状
電解酸化膜の発明であって、パターン状に形成されると
ともに電解酸化されてなる芳香族系化合物モノマー膜が
電極基板上に形成され、前記芳香族系化合物モノマー電
解酸化膜−ヒに電解質膜が形成されてなり、この電解質
膜上に必要に応じて導電体が形成されていることを特徴
とする。
電解酸化膜の発明であって、パターン状に形成されると
ともに電解酸化されてなる芳香族系化合物モノマー膜が
電極基板上に形成され、前記芳香族系化合物モノマー電
解酸化膜−ヒに電解質膜が形成されてなり、この電解質
膜上に必要に応じて導電体が形成されていることを特徴
とする。
また、本発明の第2の発明はパターン状電解酸化膜の作
製方法の発明であって、電極基板上に芳香族系化合物モ
ノマー膜をパターン状に作製ツる工程と、この芳香族系
イし合物モノマー膜上に電解質膜を作製する工程と、こ
の電解質膜上に導電体を作製もしくは接触させる工程と
、前記芳香族系化合物モノマーを電解酸化する工程、の
各工程を包含することを特徴とする。
製方法の発明であって、電極基板上に芳香族系化合物モ
ノマー膜をパターン状に作製ツる工程と、この芳香族系
イし合物モノマー膜上に電解質膜を作製する工程と、こ
の電解質膜上に導電体を作製もしくは接触させる工程と
、前記芳香族系化合物モノマーを電解酸化する工程、の
各工程を包含することを特徴とする。
前記したように、従来行われてぎたパターン状高分子膜
の作製は、高分子材と導電性材料の混合あるいは積層化
、芳香族系化合物モノマーの溶液からの電解重合の方法
によっており、作製したフィルムへの煩雑なパターン成
形工程、溶解度に起因する使用可能モノマーの制限、電
解溶媒の汚染、パターン状電極加工の必要性等の多くの
問題を伴っている。
の作製は、高分子材と導電性材料の混合あるいは積層化
、芳香族系化合物モノマーの溶液からの電解重合の方法
によっており、作製したフィルムへの煩雑なパターン成
形工程、溶解度に起因する使用可能モノマーの制限、電
解溶媒の汚染、パターン状電極加工の必要性等の多くの
問題を伴っている。
これに対し、本発明では、あらかじめ導電性基板上に、
真空蒸着、スパッタリング、スクリーン印刷等の通常の
膜形成技術の適用によりパターン状の芳香族系化合物モ
ノマー膜を作製する。次いで、パターン状のこの芳香族
系化合物モノマー膜上に、電解質の膜を、真空蒸着、ス
パッタリング、溶液塗布等の方法により作製する。さら
に、電解質膜上に導電体を真空蒸着、スパッタリング等
により作製するか、またはあらかじめ作製しておいた導
電体を接触させたのち、導電体の間に適当な直流電圧を
印加することにより、パターン状の電解酸化膜を得るも
のである。
真空蒸着、スパッタリング、スクリーン印刷等の通常の
膜形成技術の適用によりパターン状の芳香族系化合物モ
ノマー膜を作製する。次いで、パターン状のこの芳香族
系化合物モノマー膜上に、電解質の膜を、真空蒸着、ス
パッタリング、溶液塗布等の方法により作製する。さら
に、電解質膜上に導電体を真空蒸着、スパッタリング等
により作製するか、またはあらかじめ作製しておいた導
電体を接触させたのち、導電体の間に適当な直流電圧を
印加することにより、パターン状の電解酸化膜を得るも
のである。
本発明の発明者らは、この様な、パターン状の芳香族系
化合物モノマー膜と電解質膜と導電体とを有する電極基
板上でも電解酸化反応が進行し、従来の均一溶液系から
の高分子膜作製が困難な七ツマ−を用いた場合でも、電
極基板上に安定なパターン状電解酸化膜を作製できるこ
とを見出した。
化合物モノマー膜と電解質膜と導電体とを有する電極基
板上でも電解酸化反応が進行し、従来の均一溶液系から
の高分子膜作製が困難な七ツマ−を用いた場合でも、電
極基板上に安定なパターン状電解酸化膜を作製できるこ
とを見出した。
なお、本発明′C−言う「高分子」とは、前記七ツマ−
が二つ以上結合した状態を示す。
が二つ以上結合した状態を示す。
以下、本発明のパターン状電解酸化膜およびその作製方
法をより詳細に説明する。
法をより詳細に説明する。
本発明のパターン状電解酸化膜を作製するに必要な芳香
族系化合物モノマーは、電N酸化可能なものであれば特
に限定されないが、例えば、ビフェニル、p−ターフェ
ニル、0−ターフェニル、p−クォータフェニル、2−
ヒドロキシビノエニル、N−ビニルカルバゾール、N−
エチニルカルバゾール、ターチオフェン、N−フェニル
ビロールなど、通常の電解酸化による重合で用いられて
いるモノマー類や、これらの誘導体、数は体のオリゴマ
ー状態になったものを用いることができる。
族系化合物モノマーは、電N酸化可能なものであれば特
に限定されないが、例えば、ビフェニル、p−ターフェ
ニル、0−ターフェニル、p−クォータフェニル、2−
ヒドロキシビノエニル、N−ビニルカルバゾール、N−
エチニルカルバゾール、ターチオフェン、N−フェニル
ビロールなど、通常の電解酸化による重合で用いられて
いるモノマー類や、これらの誘導体、数は体のオリゴマ
ー状態になったものを用いることができる。
通常液状のモノマーでも、誘導体やオリゴマー状態で固
体膜にできるものであれば使用可能である。
体膜にできるものであれば使用可能である。
電極基板上の芳香族系化合物モノマーの膜は、電解酸化
時に剥離しない程度の密着力で基板上に付箸していれば
良く、例えば、電極基板上に所望のパターン形状の開口
を有するメタルマスクを密着させるか、あるいは適当な
距離を隔てて固定した後、芳香族系化合物モノマーを真
空蒸着あるいはスパッタリングすることにより作製する
ことができる。あるいは、スクリーン印刷法でパターン
状芳香族系化合物七ツマー膜を形成しても良い。
時に剥離しない程度の密着力で基板上に付箸していれば
良く、例えば、電極基板上に所望のパターン形状の開口
を有するメタルマスクを密着させるか、あるいは適当な
距離を隔てて固定した後、芳香族系化合物モノマーを真
空蒸着あるいはスパッタリングすることにより作製する
ことができる。あるいは、スクリーン印刷法でパターン
状芳香族系化合物七ツマー膜を形成しても良い。
電極基板としては、導電性の部分を有し、かつ、電解反
応溶液により侵食されないものであれば特に限定されな
い。例えば、ガラスやプラスチックフィルム、セラミッ
クス、紙、鉱物に金属あるいは金属酸化物をコートした
もの、あるいは金属そのもの、などを挙げることができ
る。
応溶液により侵食されないものであれば特に限定されな
い。例えば、ガラスやプラスチックフィルム、セラミッ
クス、紙、鉱物に金属あるいは金属酸化物をコートした
もの、あるいは金属そのもの、などを挙げることができ
る。
上述の方法により作製されたパターン状の芳香族系化合
物モノマー膜の上に作製する電解質膜の材質としては、
芳香族系化合物モノマー膜中に拡散可能なイオンを含む
ものであれば特に限定されないが、例えばアルカリ、ア
ルカリ土類金属の各種塩類(アニオンが1−+Br−、
Ct−+ 1(Al10z )−、N”−、P2 S
y −、CF3503−、ClO2−,5CN−、BF
4−.803−。
物モノマー膜の上に作製する電解質膜の材質としては、
芳香族系化合物モノマー膜中に拡散可能なイオンを含む
ものであれば特に限定されないが、例えばアルカリ、ア
ルカリ土類金属の各種塩類(アニオンが1−+Br−、
Ct−+ 1(Al10z )−、N”−、P2 S
y −、CF3503−、ClO2−,5CN−、BF
4−.803−。
CF3 COO−、など)やテトラアルキルアンモニウ
ムのフルオロボレート、バークロレート、サルフェート
、スルフォネート、あるいはそれらの誘導体、Pb 3
r 2 、Ag (SO3’CF3 )2 。
ムのフルオロボレート、バークロレート、サルフェート
、スルフォネート、あるいはそれらの誘導体、Pb 3
r 2 、Ag (SO3’CF3 )2 。
Zn (803CF3 )2 、 Zn Cl3 、
AOClO2などの各種塩類を用いることができる。ま
た、それらとともに電解質の拡散を助ける低分子あるい
は高分子のマトリクス材料を含有させることもできる。
AOClO2などの各種塩類を用いることができる。ま
た、それらとともに電解質の拡散を助ける低分子あるい
は高分子のマトリクス材料を含有させることもできる。
そのようなマトリクス材料としては、例えばクラウンエ
ーテル等の低分子イオンキャリア、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン
、ポリ〔(アルコキシ)フォスフアゼン〕、ポリ(N−
アセチルエチルイミン)、ポリビニルアセテート、ポリ
エチレンイミン等の高分子、イオンキャリアを担持した
高分子等を挙げることができる。これらの電解質の股を
芳香族系化合物モノマー膜上に作製するには、該電解質
を該七ツマー股上に真空蒸着またはスパッタリングする
、あるいは該芳香族系化合物モノマーを溶解しない溶媒
を用いて該電解質の溶液を作製し、この溶液をモノマー
膜上にスビンコートしたのち乾燥する、あるいは、該溶
液中に七ツマー膜を有する電極基板を浸漬したのち乾燥
する、などの方法によることができる。
ーテル等の低分子イオンキャリア、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン
、ポリ〔(アルコキシ)フォスフアゼン〕、ポリ(N−
アセチルエチルイミン)、ポリビニルアセテート、ポリ
エチレンイミン等の高分子、イオンキャリアを担持した
高分子等を挙げることができる。これらの電解質の股を
芳香族系化合物モノマー膜上に作製するには、該電解質
を該七ツマー股上に真空蒸着またはスパッタリングする
、あるいは該芳香族系化合物モノマーを溶解しない溶媒
を用いて該電解質の溶液を作製し、この溶液をモノマー
膜上にスビンコートしたのち乾燥する、あるいは、該溶
液中に七ツマー膜を有する電極基板を浸漬したのち乾燥
する、などの方法によることができる。
上述の方法により作製されたパターン状七ツマー膜と電
w1.質膜を有する基板上に作製する導電体の材質とし
ては、導電性であり、かつ、電解反応により侵食されな
いものであれば特に限定されない。金、白金、バッジ1
クム、ニッケル、クロム、アルミニウム、酸化スズ、そ
の伯の金属や金属酸化物などを用いることができる。ま
た、ガラスやプラスチックフィルムに金属あるいは金属
酸化物をコートしたもの、あるいは金属そのものなどの
導電性の面を、上記の膜の表面に接触させて使用するこ
とも可能である。導電体の形成、接触は固体電解質膜全
体でもその一部でも良い。
w1.質膜を有する基板上に作製する導電体の材質とし
ては、導電性であり、かつ、電解反応により侵食されな
いものであれば特に限定されない。金、白金、バッジ1
クム、ニッケル、クロム、アルミニウム、酸化スズ、そ
の伯の金属や金属酸化物などを用いることができる。ま
た、ガラスやプラスチックフィルムに金属あるいは金属
酸化物をコートしたもの、あるいは金属そのものなどの
導電性の面を、上記の膜の表面に接触させて使用するこ
とも可能である。導電体の形成、接触は固体電解質膜全
体でもその一部でも良い。
上述の方法により作製されたパターン状芳香族系化合物
モノマー膜と電解質膜および導電体を有する、あるいは
接触させた電極基板の、1m電極を正極、導電体を負極
として、適当な直流電圧を印加することによりパターン
状の電解酸化膜が得られる。
モノマー膜と電解質膜および導電体を有する、あるいは
接触させた電極基板の、1m電極を正極、導電体を負極
として、適当な直流電圧を印加することによりパターン
状の電解酸化膜が得られる。
本発明の方法の代表例を第1図に示す。すなわち、第1
図は本発明の代表例の作製工程の一部の模式図である。
図は本発明の代表例の作製工程の一部の模式図である。
第1図において、符号1は導電性基板、2は導電性基板
の導電性部分、3は適当な電圧の印加によりパターン状
電解酸化膜となるパターン状の芳香族系化合物モノマー
膜、4は電解質膜、5は電解質膜上に作製または接触さ
せた導電体を意味する。
の導電性部分、3は適当な電圧の印加によりパターン状
電解酸化膜となるパターン状の芳香族系化合物モノマー
膜、4は電解質膜、5は電解質膜上に作製または接触さ
せた導電体を意味する。
このようにして得られたパターン状電解酸化膜は、電極
基板上に作製されたピンホールや凹凸のない七ツマー膜
がそのまま電wI酸化されたものであり、もとのモノマ
ー膜と同様の良質の構造を保っている。これらの電解酸
化膜は電解質や導電体と複合化された状態で利用するこ
とが可能であるが、電解質を溶解する溶媒に浸漬して電
解質膜および導電体を除去することにより、パターン状
電解酸化膜のみを取り出して単独で利用することも可能
である。また、電解反応に必要な原料モノマーは電解基
板表面に存在するものしか必要とせず、さらに、従来の
均−溶液系のような電解反応中の芳香族系化合物モノマ
ーの消失が起こることもない。従って、電極基板状上に
形成する電解酸化膜の社、膜厚等あらかじめ設定してお
くことも可能となる。
基板上に作製されたピンホールや凹凸のない七ツマー膜
がそのまま電wI酸化されたものであり、もとのモノマ
ー膜と同様の良質の構造を保っている。これらの電解酸
化膜は電解質や導電体と複合化された状態で利用するこ
とが可能であるが、電解質を溶解する溶媒に浸漬して電
解質膜および導電体を除去することにより、パターン状
電解酸化膜のみを取り出して単独で利用することも可能
である。また、電解反応に必要な原料モノマーは電解基
板表面に存在するものしか必要とせず、さらに、従来の
均−溶液系のような電解反応中の芳香族系化合物モノマ
ーの消失が起こることもない。従って、電極基板状上に
形成する電解酸化膜の社、膜厚等あらかじめ設定してお
くことも可能となる。
このように平滑で良質の電解酸化膜が得られる理由は、
電解質膜中の電解質成分が電極基板上に作製されたパタ
ーン状の芳香族系化合物モノマー膜内に拡散して電極表
面に達し、それによって導通部分が形成され、電解反応
が起き、電極面上でti極酸酸化反応進行し、゛電極基
板側から電解酸化膜が形成されるためである。したがっ
て、電解質が拡散可能な芳香族系化合物モノマーと電解
質を選択することにより、均一なパターン状電解酸化膜
が得られる。
電解質膜中の電解質成分が電極基板上に作製されたパタ
ーン状の芳香族系化合物モノマー膜内に拡散して電極表
面に達し、それによって導通部分が形成され、電解反応
が起き、電極面上でti極酸酸化反応進行し、゛電極基
板側から電解酸化膜が形成されるためである。したがっ
て、電解質が拡散可能な芳香族系化合物モノマーと電解
質を選択することにより、均一なパターン状電解酸化膜
が得られる。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明tよそれらに限定されるものではない。
本発明tよそれらに限定されるものではない。
(実施例1)
ネサガラス基板上にメタルマスクを密着させてピレンを
蒸着することにより、11IIIIピツチの1次元格子
を持つ、膜厚:0.5μmのパターン状ピレン薄膜を作
製し、次にこのパターン状ピレン膜上に、トリフロロメ
タンスルホン酸リチウムとポリオキシエチレンの混合物
とからなる電解質の膜を真空蒸着により作製した。次い
で、導電体として白金をスパッタリングし、ネサガラス
基板を正極、導電体を負極として2.5■の定電圧でピ
レンの電解酸化を行った。約1分の電圧印加により、半
透明のネサガラス基板側から?i1京されるパターン状
ピレン薄膜は、徐々に重合した。電解酸化後、得られた
膜を水中に浸漬して電解質および導電体を除去し、−昼
夜乾燥した後に顕微鏡観察を行ったところ、従来の溶液
法によるものに比較して、非常に均質性に優れたパター
ン状の電解酸化ピレン族が形成されていることが確認さ
れた。
蒸着することにより、11IIIIピツチの1次元格子
を持つ、膜厚:0.5μmのパターン状ピレン薄膜を作
製し、次にこのパターン状ピレン膜上に、トリフロロメ
タンスルホン酸リチウムとポリオキシエチレンの混合物
とからなる電解質の膜を真空蒸着により作製した。次い
で、導電体として白金をスパッタリングし、ネサガラス
基板を正極、導電体を負極として2.5■の定電圧でピ
レンの電解酸化を行った。約1分の電圧印加により、半
透明のネサガラス基板側から?i1京されるパターン状
ピレン薄膜は、徐々に重合した。電解酸化後、得られた
膜を水中に浸漬して電解質および導電体を除去し、−昼
夜乾燥した後に顕微鏡観察を行ったところ、従来の溶液
法によるものに比較して、非常に均質性に優れたパター
ン状の電解酸化ピレン族が形成されていることが確認さ
れた。
(実施例2)
ネサガラス基板上にメタルマスクを密着させてカルバゾ
ール の1次元格子を持つ、膜厚:0.7μmのパターン状カ
ルバゾール薄膜を作製した。次にこのパターン状カルバ
ゾール膜上に、トリフロロメタンスルホン酸リチウムと
ポリオキシエチレンを含む水溶液をスピンコードしたの
ち乾燥して電解質の膜を作製した。次いで、この股上に
、導電体としてステンレス板を密着させ、ネサガラス基
板を正極、ステンレス製の導電体を負極として2.5■
の定電圧でカルバゾールの電解酸化を行った。約1分の
電圧印加により、半透明のネサガラス基板側から観察さ
れる無色のパターン状カルバゾールM膜は、徐々に暗緑
色に変化した。電解酸化後、ステンレス製の導電体を除
去して顕微鏡観察を行ったところ、従来の溶液法による
ものに比較して、非常に均質性に優れたパターン状の電
解酸化カルバゾール膜が形成されていることが確認され
た。
ール の1次元格子を持つ、膜厚:0.7μmのパターン状カ
ルバゾール薄膜を作製した。次にこのパターン状カルバ
ゾール膜上に、トリフロロメタンスルホン酸リチウムと
ポリオキシエチレンを含む水溶液をスピンコードしたの
ち乾燥して電解質の膜を作製した。次いで、この股上に
、導電体としてステンレス板を密着させ、ネサガラス基
板を正極、ステンレス製の導電体を負極として2.5■
の定電圧でカルバゾールの電解酸化を行った。約1分の
電圧印加により、半透明のネサガラス基板側から観察さ
れる無色のパターン状カルバゾールM膜は、徐々に暗緑
色に変化した。電解酸化後、ステンレス製の導電体を除
去して顕微鏡観察を行ったところ、従来の溶液法による
ものに比較して、非常に均質性に優れたパターン状の電
解酸化カルバゾール膜が形成されていることが確認され
た。
(実施例3〜10)
導電性基板上に、実施例1で使用したものと同様のメタ
ルマスクを密着しいイソチアナフテン(実施例3)、ア
ズレン(実施例4)、メチルアズレン(実施例5)、N
−7エニルビロール(実施例6)、ナノタレン(実施例
7)、トリフェニレン(実施例8)、ごフェニル(実施
例9)、N−ビニルカルバゾール(実施例10)を真空
蒸着してパターン状の芳香族系化合物モノマー膜を作製
した。次に、これらのパターン状モノマー膜の上に真空
蒸着法または溶液塗布法により電解質の膜を作製し、さ
らにスパッタリング法により導電体を作製するか、ある
いは、あらかじめ用意した導゛電体を密着させたのち、
導電性基板を正極、導電体を負極として2.5Vの定電
圧でモノマーの電解酸化を行った。電解酸化後、電解質
を溶解する溶媒に得られた膜を浸漬して電解質と導電体
を除去するか、あるいは、密着させた導電体を除去した
のち顕微鏡観察を行った。この結果、いずれの場合にも
、従来の溶液法によるものに比較して、非常に均質性に
優れたパターン状の電解酸化膜が形成されていることが
確認源れた。実施条件を表1に示す。
ルマスクを密着しいイソチアナフテン(実施例3)、ア
ズレン(実施例4)、メチルアズレン(実施例5)、N
−7エニルビロール(実施例6)、ナノタレン(実施例
7)、トリフェニレン(実施例8)、ごフェニル(実施
例9)、N−ビニルカルバゾール(実施例10)を真空
蒸着してパターン状の芳香族系化合物モノマー膜を作製
した。次に、これらのパターン状モノマー膜の上に真空
蒸着法または溶液塗布法により電解質の膜を作製し、さ
らにスパッタリング法により導電体を作製するか、ある
いは、あらかじめ用意した導゛電体を密着させたのち、
導電性基板を正極、導電体を負極として2.5Vの定電
圧でモノマーの電解酸化を行った。電解酸化後、電解質
を溶解する溶媒に得られた膜を浸漬して電解質と導電体
を除去するか、あるいは、密着させた導電体を除去した
のち顕微鏡観察を行った。この結果、いずれの場合にも
、従来の溶液法によるものに比較して、非常に均質性に
優れたパターン状の電解酸化膜が形成されていることが
確認源れた。実施条件を表1に示す。
(実施例11)
1辺が50mのネサガラス基板上にスクリーン印刷法で
5Mピッチでカルバゾール膜のラインパターン(膜厚:
0.1μm)を作製した。次にこのパターン状カルバゾ
ール股上に、トリフロロメタンスルホン酸リチウムとポ
リオキシエチレンを含む水溶液をスピンコードしたのち
乾燥して電yg質の膜を作製した。次いで、この股上に
、導電体として30mm四方のステンレス板を密着させ
、ネサガラス基板を正極、ステンレス製の導電体を負極
として2.5■の定電圧でカルバゾールの電解酸化を行
った。約8分の電圧印加により、半透明のネサガラス基
板側から観察される無色のパターン状カルバゾール薄膜
は、徐々に暗緑色に変化した。
5Mピッチでカルバゾール膜のラインパターン(膜厚:
0.1μm)を作製した。次にこのパターン状カルバゾ
ール股上に、トリフロロメタンスルホン酸リチウムとポ
リオキシエチレンを含む水溶液をスピンコードしたのち
乾燥して電yg質の膜を作製した。次いで、この股上に
、導電体として30mm四方のステンレス板を密着させ
、ネサガラス基板を正極、ステンレス製の導電体を負極
として2.5■の定電圧でカルバゾールの電解酸化を行
った。約8分の電圧印加により、半透明のネサガラス基
板側から観察される無色のパターン状カルバゾール薄膜
は、徐々に暗緑色に変化した。
電解酸化後、ステンレス製の導電体を除去して顕微鏡観
察を行ったところ、従来の溶液法によるものに比較して
、非常に均質性に優れたパターン状の電解酸化カルバゾ
ール膜が形成されていることが確認された。
察を行ったところ、従来の溶液法によるものに比較して
、非常に均質性に優れたパターン状の電解酸化カルバゾ
ール膜が形成されていることが確認された。
以上説明したように、本発明に従って電lfi基板上に
パターン状の芳香族系化合物モノマー膜を、さらに電解
質膜を作製し、その上に導電体を作製または接触したの
ち、モノマー膜を電解酸化することにより、均質性に優
れたパターン状電解酸化膜を簡便に作製することが可能
であるという格別顕著な効果が秦ぜられる。得られるパ
ターン状電解酸化膜は、通常の電解重合で得られる膜と
同様に、54電性の向上や、酸化還元性、エレクトロク
ロミズム性を有する。従って、2次電池、とりわけ薄膜
電池、ざらに、センサー、表示用材料として有用である
。
パターン状の芳香族系化合物モノマー膜を、さらに電解
質膜を作製し、その上に導電体を作製または接触したの
ち、モノマー膜を電解酸化することにより、均質性に優
れたパターン状電解酸化膜を簡便に作製することが可能
であるという格別顕著な効果が秦ぜられる。得られるパ
ターン状電解酸化膜は、通常の電解重合で得られる膜と
同様に、54電性の向上や、酸化還元性、エレクトロク
ロミズム性を有する。従って、2次電池、とりわけ薄膜
電池、ざらに、センサー、表示用材料として有用である
。
第1図は本発明の代表例の作製工程の一部を示す概略断
面図である。 1・・・・・・導電性基板、 2・・・・・・導電性基板の導電性部分、3・・・・・
・適当な電圧の印加によりパターン状電解酸化膜となる
パターン状の芳香族系化合物モノマー膜、 4・・・・・・電解質膜、 5・・・・・・電解質膜上に作製または接触させた導電
体。 1:導電性基板、2:導電I比基板の導電j生部外3;
バターシ状の芳香族系化合吻モノマー嗅4;電解貿膜、
5:導電イ本
面図である。 1・・・・・・導電性基板、 2・・・・・・導電性基板の導電性部分、3・・・・・
・適当な電圧の印加によりパターン状電解酸化膜となる
パターン状の芳香族系化合物モノマー膜、 4・・・・・・電解質膜、 5・・・・・・電解質膜上に作製または接触させた導電
体。 1:導電性基板、2:導電I比基板の導電j生部外3;
バターシ状の芳香族系化合吻モノマー嗅4;電解貿膜、
5:導電イ本
Claims (2)
- (1)パターン状に形成されるとともに電解酸化されて
なる芳香族系化合物モノマー膜が電極基板上に形成され
、 前記芳香族系化合物モノマー電解酸化膜上に電解質膜が
形成されてなり、 この電解質膜上に必要に応じて導電体が形成されている
ことを特徴とするパターン状電解酸化膜。 - (2)電極基板上に芳香族系化合物モノマー膜をパター
ン状に作製する工程と、この芳香族系化合物モノマー膜
上に電解質膜を作製する工程と、この電解質膜上に導電
体を作製もしくは接触させる工程と、前記芳香族系化合
物モノマーを電解酸化する工程、の各工程を包含するこ
とを特徴とするパターン状電解酸化膜の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26988687A JPH01111893A (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | パターン状電解酸化膜およびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26988687A JPH01111893A (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | パターン状電解酸化膜およびその作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01111893A true JPH01111893A (ja) | 1989-04-28 |
Family
ID=17478582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26988687A Pending JPH01111893A (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | パターン状電解酸化膜およびその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01111893A (ja) |
-
1987
- 1987-10-26 JP JP26988687A patent/JPH01111893A/ja active Pending
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