JPH01107532A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH01107532A JPH01107532A JP26377187A JP26377187A JPH01107532A JP H01107532 A JPH01107532 A JP H01107532A JP 26377187 A JP26377187 A JP 26377187A JP 26377187 A JP26377187 A JP 26377187A JP H01107532 A JPH01107532 A JP H01107532A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- optical system
- electron
- circuit
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- Pending
Links
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 title claims description 8
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 16
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子線描画装置に係り、特に電子光学系の条
件を切換えて描画する電子線描画装置に関する。
件を切換えて描画する電子線描画装置に関する。
従来の電子線描画装置における電子光学系の補正方式に
ついては、「ニス・ビー・アイ・イー。
ついては、「ニス・ビー・アイ・イー。
５３７ （１９８５年）、第３４頁から４１頁（ＳＰＩ
Ｆ、５３７ （１９８５）、ｐｐ３４−４１）」におい
て論じられている。上記文献においては、電子線の偏向
歪補正、動的焦点補正について論じられている。
Ｆ、５３７ （１９８５）、ｐｐ３４−４１）」におい
て論じられている。上記文献においては、電子線の偏向
歪補正、動的焦点補正について論じられている。
上記文献に述べられている従来の電子線描画装置では、
ｆ！１子光常光学系態を一定のままで描画を行なうこと
が前提、となっていた、ところが、電子線描画技術の進
歩とともに、電子光学系の状態。
ｆ！１子光常光学系態を一定のままで描画を行なうこと
が前提、となっていた、ところが、電子線描画技術の進
歩とともに、電子光学系の状態。
例えば、ビーム電流、ビーム径、加速電圧等を切換えて
描画する必要がでてきた０本発明は、かかる電子光学系
の状態の切換えを短時間に実現させる手段を提供すると
ころにある。
描画する必要がでてきた０本発明は、かかる電子光学系
の状態の切換えを短時間に実現させる手段を提供すると
ころにある。
電子線描画装置においては、高精度描画を実現するため
に電子光学系に対して各種補正を行なっている０例えば
、偏向歪補正、動的焦点等である。
に電子光学系に対して各種補正を行なっている０例えば
、偏向歪補正、動的焦点等である。
電子光学系の状態を切換えた際には、上記補正のための
補正条件（補正係数）を新たに求め、設定しなおす必要
がｉす、このため切換え時に多大の時間を要していた６
例えば、偏向歪補正係数を決定するには約１０分間を要
していた。
補正条件（補正係数）を新たに求め、設定しなおす必要
がｉす、このため切換え時に多大の時間を要していた６
例えば、偏向歪補正係数を決定するには約１０分間を要
していた。
電子光学系の切換え時間を短縮するには、各状態に対応
した電子光学系の最適条件、及び補正係数をあらかじめ
求めて記憶しており、これらを設定することにより、達
成される。
した電子光学系の最適条件、及び補正係数をあらかじめ
求めて記憶しており、これらを設定することにより、達
成される。
本発明によれば、あらかじめ、電子光学系の状態に対応
した最適条件が記憶回路に格納されている。従って、光
学系の状態を切換える際には、記憶回路に格納されてい
る条件を、電子光学系および制御回路に設定するだけで
最適動作状態が実現でき、短時間での状態切換えが可能
となる。
した最適条件が記憶回路に格納されている。従って、光
学系の状態を切換える際には、記憶回路に格納されてい
る条件を、電子光学系および制御回路に設定するだけで
最適動作状態が実現でき、短時間での状態切換えが可能
となる。
以下、本発明の一実施例を図を用いて説明する。
第１図は本発明に基づく電子線描画装置の構成図である
。電子光学系は、試料室内にある試料に描画するのに必
要な電子線を実現する。処理装置は、電子光学系制御回
路により電子光学の状態を必要に応じて切換えるととも
に、描画データ制御回路により所望のパターンの描画を
実行する。補正回路は、パターンデータに依存して電子
光学系の補正を行なう。
。電子光学系は、試料室内にある試料に描画するのに必
要な電子線を実現する。処理装置は、電子光学系制御回
路により電子光学の状態を必要に応じて切換えるととも
に、描画データ制御回路により所望のパターンの描画を
実行する。補正回路は、パターンデータに依存して電子
光学系の補正を行なう。
第１図１．２．３は、３種類の電子光学系の最適条件を
記憶する回路であり、その条件は処理装置によりあらか
じめ書き込まれている。同図４゜５．６は上記電子光学
系の状態に対応した補正条件を記憶する回路であり、偏
向歪補正係数、動的焦点補正係数の最適値が処理装置に
より書き込まれている。
記憶する回路であり、その条件は処理装置によりあらか
じめ書き込まれている。同図４゜５．６は上記電子光学
系の状態に対応した補正条件を記憶する回路であり、偏
向歪補正係数、動的焦点補正係数の最適値が処理装置に
より書き込まれている。
本実施例における電子光学系では、直径０．０３μｍ、
０．１／Ａｍ；および０．３μｍの３種類の電子線を用
いての描画が可能である。
０．１／Ａｍ；および０．３μｍの３種類の電子線を用
いての描画が可能である。
第２図は、本実施例で採用した輪郭分解機能を説明する
もので、輪郭部分（７）を直径０．０３μｍの細い電子
線で高精度に描画し、内部（８）は０．１ μ■又は０
．３μｍの直径の電子線により、塗りつぶし描画を行な
い、これにより高精度と高スループツトの両立を計った
。
もので、輪郭部分（７）を直径０．０３μｍの細い電子
線で高精度に描画し、内部（８）は０．１ μ■又は０
．３μｍの直径の電子線により、塗りつぶし描画を行な
い、これにより高精度と高スループツトの両立を計った
。
本実施例の描画では、最初に直径０．０３ μｍｍ ・
の電子線での描画を行なった。このため、記憶回路１，
４より電子光学系および補正係数の最適条件をそれぞれ
電子光学系制御回路、補正制御回路に設定し最適状態を
実現し、その状態で全パターンの輪郭部を描画した０次
に、記憶回路２、及び５を用いて、直径０．１μｍの電
子線での最適動作条件を実現し、一部パターンの内部の
描画を行なった。最後に、記憶回路３，６より直径０．
３μｍの電子線の動作状態とし、残りのパターンの内部
の描画を行なった。
の電子線での描画を行なった。このため、記憶回路１，
４より電子光学系および補正係数の最適条件をそれぞれ
電子光学系制御回路、補正制御回路に設定し最適状態を
実現し、その状態で全パターンの輪郭部を描画した０次
に、記憶回路２、及び５を用いて、直径０．１μｍの電
子線での最適動作条件を実現し、一部パターンの内部の
描画を行なった。最後に、記憶回路３，６より直径０．
３μｍの電子線の動作状態とし、残りのパターンの内部
の描画を行なった。
本発明によれば、電子光学系の切換え時に、あらかじめ
求めておいた最適条件を記憶回路から電子光学系、制御
回路に設定するだけで電子光学系の切換えができ−るの
で、従来１０分以上必要とした切換え時間を数秒に短縮
することができる。又、これにより、異なった電子線径
での描画が可能となり、０．１ μｍ以下の高精度での
描画時間を従来の１／１０にできる。
求めておいた最適条件を記憶回路から電子光学系、制御
回路に設定するだけで電子光学系の切換えができ−るの
で、従来１０分以上必要とした切換え時間を数秒に短縮
することができる。又、これにより、異なった電子線径
での描画が可能となり、０．１ μｍ以下の高精度での
描画時間を従来の１／１０にできる。
第１図は、本発明に基づく電子線描画装置のシステ今構
成図、第２図は、本発明の一実施例の描画における図形
パターンを示す平面図である。
成図、第２図は、本発明の一実施例の描画における図形
パターンを示す平面図である。
Claims (1)
- １、電子線を偏向することにより試料上に所望のパター
ンの描画を行なう電子線描画装置において、電子光学系
を構成する電子レンズ、及び軸調用コイルに電流を設定
するための電子光学系制御回路とともに電子線偏向歪補
正回路、動的焦点、非点補正回路を設け、さらに上記電
子レンズ及び軸調用コイルの電流値を複数組記憶する回
路、及び各電流値の組合わせに対応した電子線偏向歪補
正係数、動的焦点、非点補正係数を記憶する回路を備え
、描画時に電子レンズ及び軸調用コイルの電流値を記憶
回路より読み出して上記電子光学系制御回路に設定する
とともに、該電流値に対応した前記補正係数を該当補正
回路に設定して描画することを特徴とする電子線描画装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26377187A JPH01107532A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26377187A JPH01107532A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01107532A true JPH01107532A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17394056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26377187A Pending JPH01107532A (ja) | 1987-10-21 | 1987-10-21 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01107532A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5798524A (en) * | 1996-08-07 | 1998-08-25 | Gatan, Inc. | Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope |
| US6184524B1 (en) | 1996-08-07 | 2001-02-06 | Gatan, Inc. | Automated set up of an energy filtering transmission electron microscope |
| JP2009070945A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Jeol Ltd | 電子ビーム描画装置のビーム位置補正方法及び装置 |
-
1987
- 1987-10-21 JP JP26377187A patent/JPH01107532A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5798524A (en) * | 1996-08-07 | 1998-08-25 | Gatan, Inc. | Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope |
| US6184524B1 (en) | 1996-08-07 | 2001-02-06 | Gatan, Inc. | Automated set up of an energy filtering transmission electron microscope |
| JP2009070945A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Jeol Ltd | 電子ビーム描画装置のビーム位置補正方法及び装置 |
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