JPH01104619A - 高分子芳香族ポリアミドから成る成形材料およびその製法 - Google Patents
高分子芳香族ポリアミドから成る成形材料およびその製法Info
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- JPH01104619A JPH01104619A JP63228901A JP22890188A JPH01104619A JP H01104619 A JPH01104619 A JP H01104619A JP 63228901 A JP63228901 A JP 63228901A JP 22890188 A JP22890188 A JP 22890188A JP H01104619 A JPH01104619 A JP H01104619A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/32—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids from aromatic diamines and aromatic dicarboxylic acids with both amino and carboxylic groups aromatically bound
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明の対象は高分子芳香族ポリアミドならびにその製
法に関する。
法に関する。
従来の技術
反復単位
−Ｃｏ−Ａｒ−Ｃｏ−ＮＨ−Ａｒ’−Ｘ−Ａ（’Ｙ−Ａ
／ −Ｘ−Ａｒ’ −ＮＨ−七有する芳香族ポリアミド
は高い温度安定性お工び良好な機械的特性に工ってのみ
でなく卓れている：こｆ′Ｌは熱可塑性に加工できる（
Ｅｉｌａｓ／ＶｏＭｉｎｋｅ１．、” Ｎｅｕａ ｐｏ
ｌｙｍｅｒｅ ＷａｒｋｓｔＯｆｆ、ｅｆｕｅｒ ａｌ
ｅｉｎａｕａｔｒｉｓｌｌｅ Ａｎｗｅｎｄｕｎｇ ”
、 ２゜Ｆｏｒｇｏ 、 Ｃａｒｌ Ｈａｎｅａｒ
Ｖｅｌａｇ １９８５、第２４２ペーゾ以降〕。その際
Ｘはエーテル酸素であり、Ｙはカルボニル基であり、Ａ
ｒ１Ａｒ’お工びＡｒ／′は互いに別々にｐ−お工びｍ
−フユニし／基を表わす。
／ −Ｘ−Ａｒ’ −ＮＨ−七有する芳香族ポリアミド
は高い温度安定性お工び良好な機械的特性に工ってのみ
でなく卓れている：こｆ′Ｌは熱可塑性に加工できる（
Ｅｉｌａｓ／ＶｏＭｉｎｋｅ１．、” Ｎｅｕａ ｐｏ
ｌｙｍｅｒｅ ＷａｒｋｓｔＯｆｆ、ｅｆｕｅｒ ａｌ
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、 ２゜Ｆｏｒｇｏ 、 Ｃａｒｌ Ｈａｎｅａｒ
Ｖｅｌａｇ １９８５、第２４２ペーゾ以降〕。その際
Ｘはエーテル酸素であり、Ｙはカルボニル基であり、Ａ
ｒ１Ａｒ’お工びＡｒ／′は互いに別々にｐ−お工びｍ
−フユニし／基を表わす。
芳香族ポリアミドは芳香族ジカルボ／ｗ１と芳香族ジイ
ソシアネートとの反応にニジ（西ドイツ国特許出願公開
第１９２８４５５号明細書）おＬび芳香族ジカルボン酸
ジアリールエステルの芳香族ジアミ／との反応に工す製
造できる。
ソシアネートとの反応にニジ（西ドイツ国特許出願公開
第１９２８４５５号明細書）おＬび芳香族ジカルボン酸
ジアリールエステルの芳香族ジアミ／との反応に工す製
造できる。
芳香族ジカルボン酸お二び芳香族ジアミｙＩｇ芳香族亜
りン酸塩の存在で反応させることに工υ直接、芳香族ポ
リアミド？得る方法は公知である。溶剤としてこの方法
のためにＮ−メチル酸アミド、殊にＮ−メチルビロリド
／が好適でおることが示され罠。たとえばジメチルスル
ホ中７１のＬつな他の双極性非プロトン溶剤を用いては
、とｈれとは逆にポリマーのアミドは得られない（Ｆ、
ヒがシその他、Ｊ、 ＰＯｌｙｍ、 Ｓｃｉ、、Ｐｏｌ
ｙｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｅｄ、 １３、第１７１１ペーゾ
以降（１９８０年）参照）。
りン酸塩の存在で反応させることに工υ直接、芳香族ポ
リアミド？得る方法は公知である。溶剤としてこの方法
のためにＮ−メチル酸アミド、殊にＮ−メチルビロリド
／が好適でおることが示され罠。たとえばジメチルスル
ホ中７１のＬつな他の双極性非プロトン溶剤を用いては
、とｈれとは逆にポリマーのアミドは得られない（Ｆ、
ヒがシその他、Ｊ、 ＰＯｌｙｍ、 Ｓｃｉ、、Ｐｏｌ
ｙｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｅｄ、 １３、第１７１１ペーゾ
以降（１９８０年）参照）。
まとめ′Ｄ１ら（Ｓ、 Ｍ、 Ａｈａｒｏｎｉその他、
Ｊ。
Ｊ。
ＰＯｌｙｍ、 ８ｃｉ、 、Ｐｏ’ｌｙｍ、 ｃｈｅｗ
、 Ｅ（Ｌ、 ２２．２５７９（１９Ｂ４年）参照）次
のことが結論として出される、つまり 一 使用すべき亜リン酸塩はアリール基を含有しな９ｎ
ばならず１３１つ有利にトリフェニルホスファイトで６
るニ ー アリールホスファイトは少なくとも、反応すべきア
ミド１モルに対して基 Ａｒ −０−Ｐ／ ＼ を有する化合物１モルの量で使用しなければならず、そ
の理由は、この基が反応の進行中に消費さｎカ１つこの
反応が変換の原動力であるρ）らであるニ ー ピリジ／に反応にとって不要であるが、そｎにもρ
）ρ）わらず反応の進行に促進作用を有する。
、 Ｅ（Ｌ、 ２２．２５７９（１９Ｂ４年）参照）次
のことが結論として出される、つまり 一 使用すべき亜リン酸塩はアリール基を含有しな９ｎ
ばならず１３１つ有利にトリフェニルホスファイトで６
るニ ー アリールホスファイトは少なくとも、反応すべきア
ミド１モルに対して基 Ａｒ −０−Ｐ／ ＼ を有する化合物１モルの量で使用しなければならず、そ
の理由は、この基が反応の進行中に消費さｎカ１つこの
反応が変換の原動力であるρ）らであるニ ー ピリジ／に反応にとって不要であるが、そｎにもρ
）ρ）わらず反応の進行に促進作用を有する。
縮合Ｃ溶剤中で実施する、この方法と同時にポリアミド
を溶融液中で製造する試みも行なわｆ′Ｌだ。例えば、
米国特許第５１０９８５６号明細書にはアセトアミド安
息香酸ｔ５時間真空中で２００〜６００℃に加熱するこ
とρ１ら成る、皮製単位（Ｃｏ−Ａｒ−ＮＨ）のポリア
ミドの製法が記載されている。この方法は、反応生成物
の融点が分解温度の範囲またはそｎニジ上にあるので、
この文献での主張とは逆に、熱可塑性に加工できる生成
物を生じない。
を溶融液中で製造する試みも行なわｆ′Ｌだ。例えば、
米国特許第５１０９８５６号明細書にはアセトアミド安
息香酸ｔ５時間真空中で２００〜６００℃に加熱するこ
とρ１ら成る、皮製単位（Ｃｏ−Ａｒ−ＮＨ）のポリア
ミドの製法が記載されている。この方法は、反応生成物
の融点が分解温度の範囲またはそｎニジ上にあるので、
この文献での主張とは逆に、熱可塑性に加工できる生成
物を生じない。
芳香族ポリアミドをアクル化芳香族アミンの、溶融液中
でのアミド交換にニジ製造することも提案されている。
でのアミド交換にニジ製造することも提案されている。
この工うな実施方法を、アクル化アミンのこｔ″Ｌ、ま
での製造が心安としｋこと音度外視しても、この方法で
達成されｍ結果はなお正に不満足だとみなさｎる。加工
ａｋ改良するために、純枠な芳香族出発物質でなく、脂
肪族の代表的なものとの混合物ｔｉ２用した。ジアミ／
は完全にではなく、部分的にのみアシル化さｎる。最後
に、反応溶融液に酢酸、無水酢酸、ジメチルアセトアミ
ドまｍは他の剤を流動性の改良のために添加する（ Ｉ
（ｓａｋｅその他、ｐｏ１７ｍ６ｒ Ｐｒｅｐｒａ ２
５、Ｐａｒｔ ＸＸＶ ｓ第２５ペーゾ（１９８４年）
おＬび米国特許 第５６５４２２７号明細書参照〕。
での製造が心安としｋこと音度外視しても、この方法で
達成されｍ結果はなお正に不満足だとみなさｎる。加工
ａｋ改良するために、純枠な芳香族出発物質でなく、脂
肪族の代表的なものとの混合物ｔｉ２用した。ジアミ／
は完全にではなく、部分的にのみアシル化さｎる。最後
に、反応溶融液に酢酸、無水酢酸、ジメチルアセトアミ
ドまｍは他の剤を流動性の改良のために添加する（ Ｉ
（ｓａｋｅその他、ｐｏ１７ｍ６ｒ Ｐｒｅｐｒａ ２
５、Ｐａｒｔ ＸＸＶ ｓ第２５ペーゾ（１９８４年）
おＬび米国特許 第５６５４２２７号明細書参照〕。
５ｕｅｈｌｅｒ著の専攻論文−８ｐｅｚｉａｌｐｌａａ
ｔｅ ”Ａｋａｄｅｍｉｅｖｅｒｌａｇ 、ベルリフ在
（１９７８年）第４１２ページには、芳香族ジカルボン
酸お工び簡単な芳香族シア（／カらの芳香族ポリアミド
の製造で溶融重縮合の方法は使用できないであろうと示
さｎておシ、この溶融重縮合による芳香族ポリアミドの
製法を創出することが本発明の野心的な目的であった。
ｔｅ ”Ａｋａｄｅｍｉｅｖｅｒｌａｇ 、ベルリフ在
（１９７８年）第４１２ページには、芳香族ジカルボン
酸お工び簡単な芳香族シア（／カらの芳香族ポリアミド
の製造で溶融重縮合の方法は使用できないであろうと示
さｎておシ、この溶融重縮合による芳香族ポリアミドの
製法を創出することが本発明の野心的な目的であった。
今や、特定の芳香族ジアミンを芳香族ジカルボン酸と直
接溶融液中で反応させてポリアミドにする方法が見出さ
ｎｅｏ ＩＩ異的にも、新規生成物は熱可塑性に加工で
きるだけでなく、ま罵たとえばＮ−メチルぎ゛ロリドＺ
、ｍ−クレゾール、スルホラ／、ツメチルスルホ中シト
の二うな極在の高沸点溶剤お二び同様の溶剤に不溶であ
る。本発明の他の対象は新規の芳香族ポリアミドそｎ自
体である。
接溶融液中で反応させてポリアミドにする方法が見出さ
ｎｅｏ ＩＩ異的にも、新規生成物は熱可塑性に加工で
きるだけでなく、ま罵たとえばＮ−メチルぎ゛ロリドＺ
、ｍ−クレゾール、スルホラ／、ツメチルスルホ中シト
の二うな極在の高沸点溶剤お二び同様の溶剤に不溶であ
る。本発明の他の対象は新規の芳香族ポリアミドそｎ自
体である。
ポリアミドの製法は、芳香族ジカルボン酸お工び芳香族
シアル／のほぼ等量の混合物ｔ１少なくとも触媒作用量
のトリフェニルホスファイトｔｍは式Ｈ３ｐｏｎ （そ
の際２≦ｎく４）のリンから誘導さｎ加酸まｍは上記リ
ン化合物お工び４−シアル中ルアミノビリジ／ρ１ら成
る混合物の存在で、溶融液中で２００〜４００°Ｃの温
度で反応させることから成る。
シアル／のほぼ等量の混合物ｔ１少なくとも触媒作用量
のトリフェニルホスファイトｔｍは式Ｈ３ｐｏｎ （そ
の際２≦ｎく４）のリンから誘導さｎ加酸まｍは上記リ
ン化合物お工び４−シアル中ルアミノビリジ／ρ１ら成
る混合物の存在で、溶融液中で２００〜４００°Ｃの温
度で反応させることから成る。
助触媒の少濾の添加がポリアミドの形成に非常に著しい
効果を有する。
効果を有する。
一分子清が畜しく高まる。
一ポリマーの色品質が明らρ）に改良さｎる。ｒ−一１
縮曾時間が４％しく減少する。 ”１閂本発明に
１９次の芳香族ジカルボン酸まπはその混合物がｌ用で
きる： １ ６０モル憾までテレフタル酸にニジ代えらｎていて
工いインフタルα〔その際双方の酸は１個または数個の
次の基： ａ）Ｃｚ−ａ−アルキル ｂ）場合にニジアル中ルー−！！ｍはアリール置換され
九フェニル基、 ０） １〜６のＣ−原子をＷするアルコ千シ五ｄ〕
フェノ牟シ基（その際フェニル環は再びアルキル−また
はアリール置換ｔ換されていて工い〕 リ ハロゲノ、殊に塩素および臭素 にＪニジ置換されていてよい〕、 ■ および式 ％式％ のジカルボン酸、 ■ −数式 ＨＯ２Ｃ−Ａｒ−（Ａ−Ａｒ）、−ＣＯ２
Ｈ〔式中Ａ、ｒ：＝ｍ−７エニレ／まｋはｐ−フェニン
７ 、Ａ ： −０−、−８−、−５ｏ２−、−８ｏ−
お工びｐ＝０ま７１：ｔ’！Ｉ ＥＣ）シカルボ／ｒＩ
Ｒ６本発明にｚｐ次の芳香族ジアミ／： Ｈ２Ｎ−Ａビー〇−Ａｒ／′−（”０−Ａｒ” −〇−
Ａｒ’ −ＮＨ２（Ａｒ’おＬびＡｒはｍ−または殊に
ｐ−フェニレン基を表わす）またはその混合物が使用で
き、殊にｐ−アミノフェノールの４＃４−ジフルオａベ
ンゾフェノンとの反応にＬシ得られる、４゜４′−ヒス
（４−アミノフェノ中シ〕ベンゾフェノン全便用する。
縮曾時間が４％しく減少する。 ”１閂本発明に
１９次の芳香族ジカルボン酸まπはその混合物がｌ用で
きる： １ ６０モル憾までテレフタル酸にニジ代えらｎていて
工いインフタルα〔その際双方の酸は１個または数個の
次の基： ａ）Ｃｚ−ａ−アルキル ｂ）場合にニジアル中ルー−！！ｍはアリール置換され
九フェニル基、 ０） １〜６のＣ−原子をＷするアルコ千シ五ｄ〕
フェノ牟シ基（その際フェニル環は再びアルキル−また
はアリール置換ｔ換されていて工い〕 リ ハロゲノ、殊に塩素および臭素 にＪニジ置換されていてよい〕、 ■ および式 ％式％ のジカルボン酸、 ■ −数式 ＨＯ２Ｃ−Ａｒ−（Ａ−Ａｒ）、−ＣＯ２
Ｈ〔式中Ａ、ｒ：＝ｍ−７エニレ／まｋはｐ−フェニン
７ 、Ａ ： −０−、−８−、−５ｏ２−、−８ｏ−
お工びｐ＝０ま７１：ｔ’！Ｉ ＥＣ）シカルボ／ｒＩ
Ｒ６本発明にｚｐ次の芳香族ジアミ／： Ｈ２Ｎ−Ａビー〇−Ａｒ／′−（”０−Ａｒ” −〇−
Ａｒ’ −ＮＨ２（Ａｒ’おＬびＡｒはｍ−または殊に
ｐ−フェニレン基を表わす）またはその混合物が使用で
き、殊にｐ−アミノフェノールの４＃４−ジフルオａベ
ンゾフェノンとの反応にＬシ得られる、４゜４′−ヒス
（４−アミノフェノ中シ〕ベンゾフェノン全便用する。
上６己シアミ／の７０−ｅニル暢までが次の芳香族ジア
ミンに代えられていて工いニ 一般式 ＨＥＮ−Ａｒ（（Ｚ）ｑ−Ａｒ）ｒ−ＮＨ２〔
式中Ａｒ ： １１０−フェニン／、ｐ−フェニレン、
Ｚ ” −０−、−８−、−８０２−、−ＣＯ−、−Ｃ
（ＣＨ３）−Ｏ群からの同じかま７？、は異なる基、 ｑ＝０まｍは１ −ｒ＝０．１まだは２〕の芳香族ジアミン。
ミンに代えられていて工いニ 一般式 ＨＥＮ−Ａｒ（（Ｚ）ｑ−Ａｒ）ｒ−ＮＨ２〔
式中Ａｒ ： １１０−フェニン／、ｐ−フェニレン、
Ｚ ” −０−、−８−、−８０２−、−ＣＯ−、−Ｃ
（ＣＨ３）−Ｏ群からの同じかま７？、は異なる基、 ｑ＝０まｍは１ −ｒ＝０．１まだは２〕の芳香族ジアミン。
芳香族シアミン１−ｅニルに対し、芳香族ジカルボン酸
０．９５〜１．０５モル、特に１．０モルを使用する。
０．９５〜１．０５モル、特に１．０モルを使用する。
芳香族ジカルボン酸の、ジアミンとの反応はり／含有化
合物の触媒量の存在で′−またはこのリン含有化・δ物
と４−シアルをルアミノピリジンから成る混合物の触嘉
量の存在で実施する。
合物の触媒量の存在で′−またはこのリン含有化・δ物
と４−シアルをルアミノピリジンから成る混合物の触嘉
量の存在で実施する。
好適なり／含有化合物はトリフェニルホスファイト、次
亜リン酸、亜リン酸お工びリン酸を包含する。
亜リン酸、亜リン酸お工びリン酸を包含する。
助触媒として便用される４−ジアルキルアミノぎりジン
は構造 Ｒ２は互いに別々にＣユ〜２０−アル中ル基を表わす二 ρ）、アミノ窒素と一緒にピリジン−まｔはピペリジ／
環を形成する。
は構造 Ｒ２は互いに別々にＣユ〜２０−アル中ル基を表わす二 ρ）、アミノ窒素と一緒にピリジン−まｔはピペリジ／
環を形成する。
４−ジメチルアミノビリクン、４−ジブチルアミノピリ
ジン、４−シーｎ−へキシルアミノピリジン、４−ぎペ
リジニルぎリジ／が有利である。
ジン、４−シーｎ−へキシルアミノピリジン、４−ぎペ
リジニルぎリジ／が有利である。
ピリジン訪導体／４ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｇ （１９７８
年）、８４４にエフ製造できる。
年）、８４４にエフ製造できる。
助触媒としてさらにたとえばイソ呼ノリンまｍは午ノリ
／の工うな第四窒素原子を有する高沸点有機塩基ならび
に無機塩基性塩、殊にたとえばカルシウム炭酸塩の工う
なアルカリ−お工びアルカリ土類金属炭酸塩が使用でき
る。
／の工うな第四窒素原子を有する高沸点有機塩基ならび
に無機塩基性塩、殊にたとえばカルシウム炭酸塩の工う
なアルカリ−お工びアルカリ土類金属炭酸塩が使用でき
る。
使用さｎるジカルボン６１２１００モルに対してそれぞ
ｎｖン含有化合物おＬび触媒０．１〜１０モル、特に１
〜５−１ニルを使用する。
ｎｖン含有化合物おＬび触媒０．１〜１０モル、特に１
〜５−１ニルを使用する。
通常不活性ガス下に常圧で作業する。しρ）しこれがい
ρ）なる理由１Ｊ１ら小所望の場合には、軽い過圧まπ
に減圧でも作業できる。十分な高分子生成物１ｃ得る九
めに必要な反応時間は１〜４時間である。
ρ）なる理由１Ｊ１ら小所望の場合には、軽い過圧まπ
に減圧でも作業できる。十分な高分子生成物１ｃ得る九
めに必要な反応時間は１〜４時間である。
重縮合は、溶融液中２００〜４００’Ｏ％特に２５０〜
６５０°Ｃの温度で実施する。殊に、この方法を実施で
きる、三つの別法が存在する：■０反応成分お二び咄ｅ
＆ケー慮に溶融しかつ２００〜２５０°０（２）温度で
予備縮合する。その後温度を最高６５０〜４００℃まで
高めかつプレポリマーを後縮貧させる。行わｎる分子を
構成は溶融粘度の強い上昇で認めらｎる。
６５０°Ｃの温度で実施する。殊に、この方法を実施で
きる、三つの別法が存在する：■０反応成分お二び咄ｅ
＆ケー慮に溶融しかつ２００〜２５０°０（２）温度で
予備縮合する。その後温度を最高６５０〜４００℃まで
高めかつプレポリマーを後縮貧させる。行わｎる分子を
構成は溶融粘度の強い上昇で認めらｎる。
■０反反応分お工び触媒の粉末混合物を捏和機中２２０
から６８０℃へ徐々に温度を上げながら、縮合の除虫じ
る水が除去さｎるまで処理する。二者択一的に、重縮せ
七押出機中で実施することもできる。この場合にも装置
に成分の粉末混合物が装入されρ１づ反応水の完全な除
去のために好適な温度設定が配慮される。
から６８０℃へ徐々に温度を上げながら、縮合の除虫じ
る水が除去さｎるまで処理する。二者択一的に、重縮せ
七押出機中で実施することもできる。この場合にも装置
に成分の粉末混合物が装入されρ１づ反応水の完全な除
去のために好適な温度設定が配慮される。
旧、最終的に、別法Ｉに相当して出発生成物をまず２０
０〜２８０℃の温度で反応させて予・Ｏｆｒ縮合物にし
、引貌き予備、ｓ！１甘物せ捏和機ま７ｃは押出機中で
後縮合させる。押出機中でその後２８０〜４００℃、特
に２９０〜６８０°０の通常の温度が必要でめるｉこの
別法が特に有利である。
０〜２８０℃の温度で反応させて予・Ｏｆｒ縮合物にし
、引貌き予備、ｓ！１甘物せ捏和機ま７ｃは押出機中で
後縮合させる。押出機中でその後２８０〜４００℃、特
に２９０〜６８０°０の通常の温度が必要でめるｉこの
別法が特に有利である。
最終生成物はなお十分に高い分子量を有しないが、す子
量上昇を固相後縮合にニジ連成することができる。この
工うな実施方法は当業者にＬ〈知らｎている。
量上昇を固相後縮合にニジ連成することができる。この
工うな実施方法は当業者にＬ〈知らｎている。
十分に高分子の生成物の製造のために、重縮合の間に形
成さｎ九水會反応系ρ１ら除去することが必要である。
成さｎ九水會反応系ρ１ら除去することが必要である。
別法■に工Ｃばこの九めに不活性ガスの導入ないし導通
を行う。しかし真空も設定できる。
を行う。しかし真空も設定できる。
重縮合の終了時に、多かれ少な２１％れ粘性のポリマー
の溶融液が得られこｆＬは直接顆粒にさらに加工できる
。得らｎ九生放物は、高められ九温度（＞２００℃）で
の圧縮に工り成形体に加工できる。
の溶融液が得られこｆＬは直接顆粒にさらに加工できる
。得らｎ九生放物は、高められ九温度（＞２００℃）で
の圧縮に工り成形体に加工できる。
例 １
攪拌機、窒素−導入お↓び蒸留ブリッジを有する重縮曾
反応器中で窒素下に４，４′−ビス（４−アミノフェノ
牛７）ベンゾフェノン９．９１．９（０，０２５モル）
おＬび５０重量係の水性次亜りンク０．１祷おＬび４−
ジブチルアミノピリジン ４．１５ＩＣ０，０２５モル）を２５０℃で溶融させた
。粘性の溶融液全２０分量水全連続的に除去しながら攪
拌し九。その後温度を５００℃に高め、さらに５分間纜
袢し九〇生成物は不溶であり、２５５℃のガラス遷移温
度を示した。
反応器中で窒素下に４，４′−ビス（４−アミノフェノ
牛７）ベンゾフェノン９．９１．９（０，０２５モル）
おＬび５０重量係の水性次亜りンク０．１祷おＬび４−
ジブチルアミノピリジン ４．１５ＩＣ０，０２５モル）を２５０℃で溶融させた
。粘性の溶融液全２０分量水全連続的に除去しながら攪
拌し九。その後温度を５００℃に高め、さらに５分間纜
袢し九〇生成物は不溶であり、２５５℃のガラス遷移温
度を示した。
例 ２
例１と同様に４．４′−ビス（４−アミノフェノ千７）
−ベンゾフェノン９．９１９ （０，０２５モル）、イ
ソフタル酸２．４９！ｉ（０，０１５モル）お＝び５０
重ｉ＜の水性次亜゛リン酸０．１１お工び４−ジメチル
アミノぎりジン０．１２．９’に有するテレフタル２１
．６６ ｇ（０，０１モル）を反応させた。ガラス遷移
温度は２４０℃であった。
−ベンゾフェノン９．９１９ （０，０２５モル）、イ
ソフタル酸２．４９！ｉ（０，０１５モル）お＝び５０
重ｉ＜の水性次亜゛リン酸０．１１お工び４−ジメチル
アミノぎりジン０．１２．９’に有するテレフタル２１
．６６ ｇ（０，０１モル）を反応させた。ガラス遷移
温度は２４０℃であった。
ノ０ リリ １
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、Ａ、一般式 Ｈ＿２Ｎ−Ａｒ′−Ｏ−Ａｒ″−ＣＯ−Ａｒ″−Ｏ−Ａ
ｒ′−ＮＨ＿２〔式中Ａｒ′、Ａｒ″はｍ−またはｐ−
フェニレン基である〕の芳香族ジアミン（その際芳香族
ジアミンの７０モル％までが一般式 Ｈ＿２Ｎ−Ａｒ（（Ｚ）＿ｑ−Ａｒ）＿ｒ−ＮＨ＿２、
〔式中Ａｒはｍ−フェニレン、ｐ−フェニレンであり、
Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２、−ＣＯ−、−Ｃ（Ｃ
Ｈ＿３）−の群からの同じかまたは異なる基であり、ｑ
は０または１、ｒは０、１または２である〕の芳香族ジ
アミンに相当していてよい）を Ｂ、 I 、６０モル％までがテレフタル酸により代えら
れていてよいイソフタル酸（その 際双方の酸は１個または数個の次の基： ａ）Ｃ＿１＿〜＿６−アルキル、 ｂ）アルキル−またはアリールにより置 換されたまたは非置換のフェニル基、 ｃ）１〜６のＣ−原子を有するアルコキ シ基、 ｄ）フェノキシ基、その際フェニル環は 再びアルキル−またはアリール置換さ れていてよい、 ｅ）ハロゲン により核中で置換されていてよい）およ び／または II、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の酸および／または III、一般式ＨＯ＿２−Ａｒ−（Ａ−Ａｒ）＿ｐ−ＣＯ
＿２Ｈ〔式中Ａｒはｍ−またはｐ−フェニレン であり、Ａは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−
であり、ｐは０または１である〕のジカル ボン酸 のような芳香族ジカルボン酸と重縮合することにより得
られる、高分子芳香族ポリアミドから成る成形材料。 ２、ポリアミドが芳香族ジアミンとして４，４′−ビス
（４−アミノフェノキシ）−ベンゾフエノンを含有する
、請求項１記載の成形材料。 ３、ポリアミドが芳香族ジカルボン酸としてイソフタル
酸を含有する、請求項１又は２記載の成形材料。 ４、リン含有触媒の存在での芳香族ジアミンおよび芳香
族ジカルボン酸の縮分による高分子芳香族ポリアミドの
製法において、 Ａ、芳香族ジアミン化合物として、７０モル％までが一
般式 Ｈ＿２Ｎ−Ａｒ（（Ｚ）＿ｑ−Ａｒ）＿ｒ−ＮＨ＿２〔
式中Ａｒはｍ−フェニレン、ｐ−フェニ レンであり、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２−、−Ｃ
Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ＿３）−の群からの同じかまたは異な
る基であり、ｑは０または１であり、ｒは０、１または
２である〕のジアミンに代えられ ていてよい、一般式 Ｈ＿２Ｎ−Ａｒ′−Ｏ−Ａｒ″−ＣＯ−Ａｒ″−Ｏ−Ａ
ｒ′−ＮＨ＿２〔式中Ａｒ′、Ａｒ″はｍ−またはｐ−
フェニレン基である〕の化合物を用い、 Ｂ、芳香族ジカルボン酸として、 I 、６０モル％までがテレフタル酸により 代えられていてよく、その際双方の酸は １個または数個の次の基： ａ）Ｃ＿１＿〜＿６−アルキル、 ｂ）アルキル−またはアリールにより置 換されたまたは非置換のフェニル基、 ｃ）１〜６のＣ−原子を有するアルコキ シ基、 ｄ）フェノキシ基、その際フエニル環は 再びアルキル−またはアリール置換さ れていてよい ｅ）ハロゲン、 により核中で置換されていてよいイソフ タル酸および／または II、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の酸および／または III、一般式ＨＯ＿２−Ａｒ−（Ａ−Ａｒ）＿ｐ−ＣＯ
＿２Ｈ〔式中Ａｒはｍ−またはｐ−フェニレン であり、Ａは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−
でありおよびｐは０または１である〕のジ カルボン酸 を使用しかつ Ｃ、触媒として、触媒量のトリフエニルホスファイトま
たは式Ｈ＿３ＰＯ＿ｎ（式中ｎ＝２、３、４）のリンか
ら誘導された酸を使用しかつ Ｄ、縮合を溶酸液中２００〜４００℃の温度で実施する
ことを特徴とする、高分子芳香 族ポリアミドの製法。 ５、芳香族ジアミンとして４，４′−ビス（４−アミノ
フェノキシ）ベンゾフエノンを使用する、請求項４記載
の方法。 ６、芳香族ジカルボン酸として、イソフタル酸を使用す
る、請求項４又は５記載の方法。 ７、リン含有触媒と同時に助触媒として４−ジアルキル
アミノピリジン、第四窒素原子を有する高沸点有機塩基
または無機塩基性塩を使用する、請求項４から６までの
いずれか１項記載の方法。 ８、溶融縮合を２５０〜３５０℃の温度で実施する、請
求項４から７までのいずれか１項記載の方法。 ９、溶融縮合を二工程で実施し、その際温度を最初の工
程で２５０℃までの範囲および第二の工程で２８０℃よ
り上に保つ、請求項４から８までのいずれか１項記載の
方法。 １０、溶融縮合の第二の工程を捏和機または押出機中で
実施する、請求項４から９までのいずれか１項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873731185 DE3731185A1 (de) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | Formmassen aus hochmolekularen aromatischen polyamiden |
| DE3731185.9 | 1987-09-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01104619A true JPH01104619A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=6336186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63228901A Pending JPH01104619A (ja) | 1987-09-17 | 1988-09-14 | 高分子芳香族ポリアミドから成る成形材料およびその製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4843139A (ja) |
| EP (1) | EP0307575B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01104619A (ja) |
| AT (1) | ATE74146T1 (ja) |
| DE (2) | DE3731185A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3942941A1 (de) * | 1989-12-23 | 1991-06-27 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung eines thermoplastisch verarbeitbaren, anromatischen polyamids |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2554932A1 (de) * | 1975-12-06 | 1977-06-08 | Bayer Ag | Semipermeable membranen aus copolyamiden |
| JPS61127731A (ja) * | 1984-11-26 | 1986-06-16 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ポリアミドの新しい製造方法 |
| DE3539846A1 (de) * | 1985-11-09 | 1987-05-14 | Huels Chemische Werke Ag | Thermoplastisch verarbeitbare aromatische polyamide mit chemisch eingebauten ether- und sulfonylgruppen und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3609011A1 (de) * | 1986-03-18 | 1987-09-24 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung thermoplastisch verarbeitbarer aromatischer polyamide |
-
1987
- 1987-09-17 DE DE19873731185 patent/DE3731185A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-06-10 US US07/205,355 patent/US4843139A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-14 EP EP88111273A patent/EP0307575B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-14 AT AT88111273T patent/ATE74146T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-07-14 DE DE8888111273T patent/DE3869525D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-14 JP JP63228901A patent/JPH01104619A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3731185A1 (de) | 1989-03-30 |
| EP0307575A2 (de) | 1989-03-22 |
| US4843139A (en) | 1989-06-27 |
| DE3869525D1 (de) | 1992-04-30 |
| EP0307575A3 (en) | 1990-08-01 |
| ATE74146T1 (de) | 1992-04-15 |
| EP0307575B1 (de) | 1992-03-25 |
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