JPH01104027A - エーテル含有またはチオエーテル含有1,3−ジケトン、及び該化合物を含有する塩素含有ポリマー組成物 - Google Patents
エーテル含有またはチオエーテル含有1,3−ジケトン、及び該化合物を含有する塩素含有ポリマー組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なエーテル含有またはチオエーテル含有
1.3−ジケトン、塩素含有ポリマーを熱及び/もしく
は光の有害な効果から安定化するための1.3−ジケト
ン誘導体の使用法、並びに該化合物で安定化された塩素
含有ポリマーに関する。
1.3−ジケトン、塩素含有ポリマーを熱及び/もしく
は光の有害な効果から安定化するための1.3−ジケト
ン誘導体の使用法、並びに該化合物で安定化された塩素
含有ポリマーに関する。
塩素含有ポリマーが、特に加工して成形品とする場合に
、熱及び/または光の有害な効果から保護するべきであ
ることが知られている。金属のカルボン酸塩及び1.3
−ジケトンを含有する、塩化ビニルをベースとするポリ
マーに対する熱安定剤は、アメリカ合衆国特許第4,1
02,859号に記載されている。
、熱及び/または光の有害な効果から保護するべきであ
ることが知られている。金属のカルボン酸塩及び1.3
−ジケトンを含有する、塩化ビニルをベースとするポリ
マーに対する熱安定剤は、アメリカ合衆国特許第4,1
02,859号に記載されている。
K−Hiroi等は、1−7.ニルチオ−2,4−ペン
タジオンの製造方法を、Chem、 Pharm。
タジオンの製造方法を、Chem、 Pharm。
Bull、 27.2358−2544(1979)及
び5ynthesis 621−622(1979)に
記載している。4−ヒドロキシフェニルチオ基を含有ス
るモノ−、ジーもしくはトリーケトンの、感熱記録材料
のカラー現像液としての使用法が、ドイツ特許公開第5
.535.987号公報に記載されている。合衆国特許
第3.526.953号には、エーテル含有1.3−ジ
ケト/及び薬剤の製造のための中間体としての該化合物
の使用法が記載されている。J−M−Hoffman等
は、J−Med、 Chem、 26゜1650−16
53(1983)に、ピリジン誘導体の製造における中
間体としての1−ベンジルオキ’/−2,4−ペンタン
ジオンの使用法を記載している。ポリビニルクロライド
の安定剤としての硫黄原子もしくは酸素原子含有テトラ
ケト/の使用法は、合衆国特許、$4,371,651
号から公知である。0. Dann等は、Archiv
der Phar−mazje 292,508−5
18(1959)に、6−ニトキシカルボニルー7−チ
アオクタ7−2.4−ジオンの製造を記載しており、J
−5etsune等は、Chem、 Express
1. 216−219(1986)に、1−7エニル
チオー8.10−ウンデカンジオンの製造方法を記載し
ている。
び5ynthesis 621−622(1979)に
記載している。4−ヒドロキシフェニルチオ基を含有ス
るモノ−、ジーもしくはトリーケトンの、感熱記録材料
のカラー現像液としての使用法が、ドイツ特許公開第5
.535.987号公報に記載されている。合衆国特許
第3.526.953号には、エーテル含有1.3−ジ
ケト/及び薬剤の製造のための中間体としての該化合物
の使用法が記載されている。J−M−Hoffman等
は、J−Med、 Chem、 26゜1650−16
53(1983)に、ピリジン誘導体の製造における中
間体としての1−ベンジルオキ’/−2,4−ペンタン
ジオンの使用法を記載している。ポリビニルクロライド
の安定剤としての硫黄原子もしくは酸素原子含有テトラ
ケト/の使用法は、合衆国特許、$4,371,651
号から公知である。0. Dann等は、Archiv
der Phar−mazje 292,508−5
18(1959)に、6−ニトキシカルボニルー7−チ
アオクタ7−2.4−ジオンの製造を記載しており、J
−5etsune等は、Chem、 Express
1. 216−219(1986)に、1−7エニル
チオー8.10−ウンデカンジオンの製造方法を記載し
ている。
本発明は、次式I:
(式中、R1及びR3は各々独立に炭素原子数1ないし
12のアルキル基、フェニル基、1ないし6個の炭素原
子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基
、炭素原子数7ないし1゜のフェニルアルキル基、フェ
ニル環が1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換された炭素原子数7ないし10のフェニル
アルキル基を表わし、R1はさらに次式ニーR”−X−
R”で表わされる基を表わし、R2は炭素原子数2ない
し10のアルキレン基を表わし、R4は水素原子、炭素
原子数2ないし5のアルコキシカルボニル基または炭素
原子数2ないし5のアルカノイル基を表わし、そしてX
は酸素原子または硫黄原子を表わす)で表わされる化合
物のうち、次式: %式% で表わされる化合物を除く化合物に関する。
12のアルキル基、フェニル基、1ないし6個の炭素原
子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基
、炭素原子数7ないし1゜のフェニルアルキル基、フェ
ニル環が1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換された炭素原子数7ないし10のフェニル
アルキル基を表わし、R1はさらに次式ニーR”−X−
R”で表わされる基を表わし、R2は炭素原子数2ない
し10のアルキレン基を表わし、R4は水素原子、炭素
原子数2ないし5のアルコキシカルボニル基または炭素
原子数2ないし5のアルカノイル基を表わし、そしてX
は酸素原子または硫黄原子を表わす)で表わされる化合
物のうち、次式: %式% で表わされる化合物を除く化合物に関する。
式Iの化合物は、例えば、熱可塑的手段で加工する場合
に、塩素原子含有ポリマーの着色安定性に有利な効果を
有する。それらの長期安定化作用も注目すべきである。
に、塩素原子含有ポリマーの着色安定性に有利な効果を
有する。それらの長期安定化作用も注目すべきである。
炭素原子数1ないし12のアルキル基としてのR1及び
R1の例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
、オクチル基、1.1゜3.3−テトラメチルブチル基
、ノニル基及びデシル基である。R1は好ましくは炭素
原子数1ないし6のアルキル基、特にメチル基または第
三ブチル基である。tの好ましい意味の一つとして、炭
素原子数4ないし12のアルキル基が挙けられる。フな
いし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル基、好ま
しくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されて
いても良いR1及びRaの例は、2−メチルフェニル基
、2.5−ジメチルフェニル基、2v ’a 6−ドデ
シルフェニル基または2−13−もしくは4−n−ドデ
シルフェニル基である。
R1の例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
、オクチル基、1.1゜3.3−テトラメチルブチル基
、ノニル基及びデシル基である。R1は好ましくは炭素
原子数1ないし6のアルキル基、特にメチル基または第
三ブチル基である。tの好ましい意味の一つとして、炭
素原子数4ないし12のアルキル基が挙けられる。フな
いし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル基、好ま
しくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されて
いても良いR1及びRaの例は、2−メチルフェニル基
、2.5−ジメチルフェニル基、2v ’a 6−ドデ
シルフェニル基または2−13−もしくは4−n−ドデ
シルフェニル基である。
未置換もしくはフェニル環が1ないし3個の炭素原子数
1ないし12のアルキル基で置換された炭素原子数7な
いし1oのフェニルアルキル基としてのR1及びtの例
は、ベンジル基、α−メチルベンジル基、2−メチルベ
ンジル基、2.5−ジメチルベンジル基、2,4.6−
)ジメチルベンジル基及び2−13−もしくは4−n−
ドブキシルベンジル基である。ベンジル基及びフェニル
環がn−ドデシル基により置換されたベンジル基が好ま
しい。
1ないし12のアルキル基で置換された炭素原子数7な
いし1oのフェニルアルキル基としてのR1及びtの例
は、ベンジル基、α−メチルベンジル基、2−メチルベ
ンジル基、2.5−ジメチルベンジル基、2,4.6−
)ジメチルベンジル基及び2−13−もしくは4−n−
ドブキシルベンジル基である。ベンジル基及びフェニル
環がn−ドデシル基により置換されたベンジル基が好ま
しい。
線状または枝分かれ鎖でありうる炭素原子数2ないし1
0のアルキレン基としてのR2の例は、エチレン基、ト
リメチレン基、2−メチルエチレン基、テトラメチレノ
基、3−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基、オクタメチレフ基及びデカメチレン基
である。R2は好ましくは炭素原子数2ないし4のアル
キレン基、特に炭素原子数3ないし4のアルキレン基で
ある。R2はとりわけトリメチレン基である。
0のアルキレン基としてのR2の例は、エチレン基、ト
リメチレン基、2−メチルエチレン基、テトラメチレノ
基、3−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基、オクタメチレフ基及びデカメチレン基
である。R2は好ましくは炭素原子数2ないし4のアル
キレン基、特に炭素原子数3ないし4のアルキレン基で
ある。R2はとりわけトリメチレン基である。
炭素原子数2ないし5のアルコキシカルボニル基として
のWの例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、プロポキシカルボニル基またはブトキシカルボニ
ル基、好ましくは第三ブトキシカルボニル基である。
のWの例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、プロポキシカルボニル基またはブトキシカルボニ
ル基、好ましくは第三ブトキシカルボニル基である。
炭素原子数2ないし5のアルカノイル基としてのtの例
は、アセチル基、グロパノイル基、ブタノイル基または
べ/タノイル基である。アセチル基が好ましい。
は、アセチル基、グロパノイル基、ブタノイル基または
べ/タノイル基である。アセチル基が好ましい。
興味深い化合物は、式iの化合物のうち次式:(式中、
R2は前記の意味を表わす)で表わされる化合物を除く
化合物である。
R2は前記の意味を表わす)で表わされる化合物を除く
化合物である。
Xは好ましくは硫黄原子である。
特に興味深い化合物は、上記式1中% R’及びR1が
各々独立に炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェ
ニル基、1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換されたフェニル基、ヘンシルM、tたはフ
ェニル環が1ないし3個の炭素原子数1ないし12のア
ルキル基で置換されたベンジル基を表わす化合物である
。
各々独立に炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェ
ニル基、1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換されたフェニル基、ヘンシルM、tたはフ
ェニル環が1ないし3個の炭素原子数1ないし12のア
ルキル基で置換されたベンジル基を表わす化合物である
。
上記式I中、R4が水素原子を表わす化合物が好ましい
。
。
上記式I中、Rが炭素原子数2ないし5のアルコキシカ
ルボニル基または炭素原子a2ないし5のアルカノイル
基を表わす化合物も好ましい。
ルボニル基または炭素原子a2ないし5のアルカノイル
基を表わす化合物も好ましい。
上記式I中、R1が炭素原子数1ないし12のアルキル
基、フェニル基、1ないし3個の炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換されたフェニル基、ベンジル基また
はフェニル環が1ないし5個の炭素原子数1ないし4の
アルキル基で置換されたベンジル基を表わす化合物も同
様に好ましい。
基、フェニル基、1ないし3個の炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換されたフェニル基、ベンジル基また
はフェニル環が1ないし5個の炭素原子数1ないし4の
アルキル基で置換されたベンジル基を表わす化合物も同
様に好ましい。
さらに好ましいのは、上記式■中% R’が炭素原子数
1ないし6のアルキル基、フェニル基、または1ないし
3個のメチル基で置換されたフェニル基を表わし、そし
てR1が炭素原子数4ないl、12のアルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基またはフェニル環がn−ドデシル基
により置換されたベンジル基を表わす化合物である。
1ないし6のアルキル基、フェニル基、または1ないし
3個のメチル基で置換されたフェニル基を表わし、そし
てR1が炭素原子数4ないl、12のアルキル基、フェ
ニル基、ベンジル基またはフェニル環がn−ドデシル基
により置換されたベンジル基を表わす化合物である。
上記式■中、R1が炭素原子数1ないし4のアルキル基
またはフェニル基を表わし、R2が炭素原子数2ないし
4のアルキレン基を表わし、R8が炭素原子数4ないし
12のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表わ
す化合物も好ましい。
またはフェニル基を表わし、R2が炭素原子数2ないし
4のアルキレン基を表わし、R8が炭素原子数4ないし
12のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表わ
す化合物も好ましい。
特に好ましい式Iの化合物は、1−ベンジルチオ−5,
5−ヘキサンジオン、1−フェニルチオ−4,6−ヘプ
タ/ジオン、1−(n−ドデシルチオ)−4,”6−ヘ
プタンジオン及び1−フェノキシ−4,6−ヘプタンジ
オンである。
5−ヘキサンジオン、1−フェニルチオ−4,6−ヘプ
タ/ジオン、1−(n−ドデシルチオ)−4,”6−ヘ
プタンジオン及び1−フェノキシ−4,6−ヘプタンジ
オンである。
本発明はさらに、塩素含有ポリマー及び少なくとも1種
類の次式IA; (式中、W及びR”は各々独立に炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、フェニル基、1ないし3個の炭素原子
数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基、
炭素原子数7ないし10のフェニルアルキル基、フェニ
ルW;6f1ないし3個の炭素原子数1ないし12のア
ルキル基で置換された炭素原子数7ないし10のフェニ
ルアルキル基を表わし、R”Fiさらに次式ニーR”−
X−R”で表わされる基を表わし、R”は炭素原子数1
ないし10のアルキレン基を表わし、R4は水素原子、
炭素原子数2ないし5のアルコキシカルボニル基または
炭素原子数2ないし5のアルカノイル基を表わし、そし
てXfi酸素原子または硫黄原子を表わす)で表わされ
る化合物を含有する組成物にも関する。
類の次式IA; (式中、W及びR”は各々独立に炭素原子数1ないし1
2のアルキル基、フェニル基、1ないし3個の炭素原子
数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基、
炭素原子数7ないし10のフェニルアルキル基、フェニ
ルW;6f1ないし3個の炭素原子数1ないし12のア
ルキル基で置換された炭素原子数7ないし10のフェニ
ルアルキル基を表わし、R”Fiさらに次式ニーR”−
X−R”で表わされる基を表わし、R”は炭素原子数1
ないし10のアルキレン基を表わし、R4は水素原子、
炭素原子数2ないし5のアルコキシカルボニル基または
炭素原子数2ないし5のアルカノイル基を表わし、そし
てXfi酸素原子または硫黄原子を表わす)で表わされ
る化合物を含有する組成物にも関する。
R”は好ましくは炭素原子数2ないし10のアルキレン
基を表わす。
基を表わす。
興味深い組成物は塩素含有ポリマー及び少なくとも1種
類の式IA中、R’、 R”、 R’、 R’及びXが
上記の式Iにおいて好ましいとした意味を表わし、変化
形であ6 R”がR2に相当する化合物を含有する組成
物である。
類の式IA中、R’、 R”、 R’、 R’及びXが
上記の式Iにおいて好ましいとした意味を表わし、変化
形であ6 R”がR2に相当する化合物を含有する組成
物である。
下記に式IAの化合物の例を示す。
a) HsC−CO−CHz−Co−CH*CH2−8
−CHzeb) H2O−Co−CH,−Co−
CH2CH,−8−C,I−Ts−nC) HIIC
−CO−CH2−Co−CH2−5−Ctl(l−1a
) H,C−Co−CH,−Co−CH,づ−csHt
y −tl)e) H,C−Co−CH,−Co−C
H,CH,−8−Q、H,−nf) 鴇C−C0−CH
,−CO−CH,CH,−8−C,2H,、−tg)
H,C−Co−C為−co−CH2−s−cH,Qh)
H,C−C0−CH2−Co−CH,CI、CH2
−8−C1!)(2,−ni) をH,C,−Co−O
H,−CO−OHtCI−I、−8−CHlOj)
を)%C4−Co−CH,−Co−CH,0H2−8−
C,2I(2,−nk) をH,C4−CO−CHl
−Co−CH2CH,−3−C,H,、−nl) をH
,C,−Co−C鵬−Co−CH,−8−CH2<I>
m) をH,C,−CO−CH,−CO−CH2−8
−C,I(1,−tn) をH,c4−co−cu、−
co−c5cn、ca、−5−cu、Qq) をH,C
4−Co−CH,−Co−G(、−8−C,Hl、−n
CすC’4H・−t C00C4H,−t α刀C4H,−t 0CHs 0)H,C−C0−CH−Co−CH,CH2CH,−
8−C,、H2S−nC00C,He −t S)をQH*−Co−CH*−Co−CHzCH*CH
g−0−αHs−n1) t −H17Cs−’+
1+ 13−テトラメチルブチル基を表わす。
−CHzeb) H2O−Co−CH,−Co−
CH2CH,−8−C,I−Ts−nC) HIIC
−CO−CH2−Co−CH2−5−Ctl(l−1a
) H,C−Co−CH,−Co−CH,づ−csHt
y −tl)e) H,C−Co−CH,−Co−C
H,CH,−8−Q、H,−nf) 鴇C−C0−CH
,−CO−CH,CH,−8−C,2H,、−tg)
H,C−Co−C為−co−CH2−s−cH,Qh)
H,C−C0−CH2−Co−CH,CI、CH2
−8−C1!)(2,−ni) をH,C,−Co−O
H,−CO−OHtCI−I、−8−CHlOj)
を)%C4−Co−CH,−Co−CH,0H2−8−
C,2I(2,−nk) をH,C4−CO−CHl
−Co−CH2CH,−3−C,H,、−nl) をH
,C,−Co−C鵬−Co−CH,−8−CH2<I>
m) をH,C,−CO−CH,−CO−CH2−8
−C,I(1,−tn) をH,c4−co−cu、−
co−c5cn、ca、−5−cu、Qq) をH,C
4−Co−CH,−Co−G(、−8−C,Hl、−n
CすC’4H・−t C00C4H,−t α刀C4H,−t 0CHs 0)H,C−C0−CH−Co−CH,CH2CH,−
8−C,、H2S−nC00C,He −t S)をQH*−Co−CH*−Co−CHzCH*CH
g−0−αHs−n1) t −H17Cs−’+
1+ 13−テトラメチルブチル基を表わす。
2) をHxCtをは、例えばUl 1manns
Enzy−klopWdie der teehnis
chen Chemie (”ウルマンの工業化学辞典
)、第4版、第23巻、第181及び182頁、 Ve
rlag Chemie、Weinheim ’に第三
ドデシルメルカプタンのために記載された基を表わす。
Enzy−klopWdie der teehnis
chen Chemie (”ウルマンの工業化学辞典
)、第4版、第23巻、第181及び182頁、 Ve
rlag Chemie、Weinheim ’に第三
ドデシルメルカプタンのために記載された基を表わす。
化合物a)、b)、h)、r)、v)、G) 、K)
、L) 、M) 。
、L) 、M) 。
N)、0)、P)、Q)、R)、S)及びT)が興味深
い。
い。
化合物a)、h)、v)、O)、P)、Q) 、R)
、S)及びT)が好ましく、a) 、h) 、Q )及
びR)が特に好ましい。
、S)及びT)が好ましく、a) 、h) 、Q )及
びR)が特に好ましい。
塩素含有ポリマーは、好ましくはビニルクロライドホモ
ポリマーまたはコポリマーである。
ポリマーまたはコポリマーである。
下記に、コポリマーのためのコモノマーの例を示す:ビ
ニルアセテート、ビニリデンクロライド、トランスジク
ロロエチレン、エチレン、フロピレン、ブチレン、マレ
イン酸、アクリル酸、フマル酸及びイタコン酸。他の適
する塩素含有ポリマーは、後塩素化PvC及び塩素化ポ
リオレフィン、及びさらにPvCとEVA、ABS及び
MBSとのグラフトポリマーである。基材としても好ま
しいのは、上記ホモポリマーとコポリマー、特にビニル
クロライドホモポリマーと、他の熱可塑性及び/または
エラストマーポリマー、%KABS、MBS、NBR,
SAN及びEVAとノコポリマーである。
ニルアセテート、ビニリデンクロライド、トランスジク
ロロエチレン、エチレン、フロピレン、ブチレン、マレ
イン酸、アクリル酸、フマル酸及びイタコン酸。他の適
する塩素含有ポリマーは、後塩素化PvC及び塩素化ポ
リオレフィン、及びさらにPvCとEVA、ABS及び
MBSとのグラフトポリマーである。基材としても好ま
しいのは、上記ホモポリマーとコポリマー、特にビニル
クロライドホモポリマーと、他の熱可塑性及び/または
エラストマーポリマー、%KABS、MBS、NBR,
SAN及びEVAとノコポリマーである。
サスベンジ讐ンホリマー及ヒパルクボリマー並びにエマ
ルジョンポリマーも好ましい。
ルジョンポリマーも好ましい。
ポリビニルクロライド及びビニルクロライドのコポリマ
ーが、塩素含有ポリマーとして特に好ましい。
ーが、塩素含有ポリマーとして特に好ましい。
式IAの化合物を公知の熱安定剤、例えばMe (I[
)のフェノラート、特に炭素原子数7ないし20のアル
キルフェノール、例、tばノニルフェノールの塩、また
はMe (II)のカルボン酸塩と共に使用するのが有
利である。Me(IQは、例えばBa、Ca、Mg、C
dまたはZnである。カルボン酸塩は、好ましくは炭素
原子数7ないし20のカルボン酸の塩、例えばベンゾエ
ート、アルケノエートまたはアルカノエート、好ましく
はステアレート、オレエート、ラウレート、パルミテー
ト、ヒドロキシステアレー)tたは2−エチルヘキサノ
エートである。ステアレート、オレエート及びp−第三
ブチルベンゾエートが特に好ましい。
)のフェノラート、特に炭素原子数7ないし20のアル
キルフェノール、例、tばノニルフェノールの塩、また
はMe (II)のカルボン酸塩と共に使用するのが有
利である。Me(IQは、例えばBa、Ca、Mg、C
dまたはZnである。カルボン酸塩は、好ましくは炭素
原子数7ないし20のカルボン酸の塩、例えばベンゾエ
ート、アルケノエートまたはアルカノエート、好ましく
はステアレート、オレエート、ラウレート、パルミテー
ト、ヒドロキシステアレー)tたは2−エチルヘキサノ
エートである。ステアレート、オレエート及びp−第三
ブチルベンゾエートが特に好ましい。
さらに、塩素含有ポリマーは、慣用量の慣用PVC安定
剤、例えばエポキシ化油、好ましくはエポキシ化脂肪酸
エステル、特にエポキシ化大豆油のようなエポキシ化合
物、及びさらに亜リン酸塩、好ましくは次式: (式中、Xl、r及びでは各々独立に炭素原子数4ない
し18のアルキル基、フェニル基または1ないし3個の
炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェ
ニル基を表わす)で表わされる化合物を含有することも
できる。
剤、例えばエポキシ化油、好ましくはエポキシ化脂肪酸
エステル、特にエポキシ化大豆油のようなエポキシ化合
物、及びさらに亜リン酸塩、好ましくは次式: (式中、Xl、r及びでは各々独立に炭素原子数4ない
し18のアルキル基、フェニル基または1ないし3個の
炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェ
ニル基を表わす)で表わされる化合物を含有することも
できる。
特に好ましい有機亜リン酸塩は、ジステアリルペンタエ
リトリチルジホスファイト、トリスノニルフェニルホス
ファイト及びフェニルシチジルホスファイトである。
リトリチルジホスファイト、トリスノニルフェニルホス
ファイト及びフェニルシチジルホスファイトである。
公知の熱安定剤(例えばカルボン酸塩)は、安定化すべ
き材料中に、尚該技術分野の技術者に知られている濃度
、例えばαo5ないし5重filt%の世で存在するこ
とができる。
き材料中に、尚該技術分野の技術者に知られている濃度
、例えばαo5ないし5重filt%の世で存在するこ
とができる。
亜リン酸塩は、例えばα3ないし5、好ましくはα5な
いし1重量係の濃度で使用され、エポキシ化合物、例え
ばエポキシ化大豆油は2ないし8、好ましくは1ないし
3重量%の量で使用される。
いし1重量係の濃度で使用され、エポキシ化合物、例え
ばエポキシ化大豆油は2ないし8、好ましくは1ないし
3重量%の量で使用される。
式IAの化合物は、例えば(LO5ないし1.好ましく
はα1ないし0.5重量−の量で塩素含有ポリマーに混
入される。
はα1ないし0.5重量−の量で塩素含有ポリマーに混
入される。
各場合に、重量%の語は安定化すべき材料に対する割合
で示す。
で示す。
少なくとも1種類の式IAの化合物、及びさらに少なく
とも1種類のMe(II)のカルボン酸塩及び/″!た
けMe(In の7エノラート、並びに所望によりホス
ファイトを含有する塩素含有ポリマーが好ましい。上記
においてMe(II)はCa、Ba、Mg、Cd また
はZnである。
とも1種類のMe(II)のカルボン酸塩及び/″!た
けMe(In の7エノラート、並びに所望によりホス
ファイトを含有する塩素含有ポリマーが好ましい。上記
においてMe(II)はCa、Ba、Mg、Cd また
はZnである。
さらに好ましくは、本発明による塩素含有ポリマーは、
少なくとも1種類の式IAの化合物、エポキシ化大豆油
及び少なくとも1種類のMe(10カルボン酸塩(Me
(■)はCa、 Ba、 MgまたはZn、特にZn
を表わす)を含有する。Ba/Znの力扉ン酸塩混合物
またはCa /Z nカルボン酸塩混合物は、この場合
の補助安定剤として特に好ましい。
少なくとも1種類の式IAの化合物、エポキシ化大豆油
及び少なくとも1種類のMe(10カルボン酸塩(Me
(■)はCa、 Ba、 MgまたはZn、特にZn
を表わす)を含有する。Ba/Znの力扉ン酸塩混合物
またはCa /Z nカルボン酸塩混合物は、この場合
の補助安定剤として特に好ましい。
ポリマーの最終使用目的に依存して、他の添加剤、例え
ばフェノール系酸化防止剤、潤滑剤C好!I、、<はモ
ンタンロウまたはグリセロールエステル入脂肪酸エステ
ル、パラフィン、可塑剤、充填剤、カーボンブラック、
アスベスト、カオリン、メルク、ガラス繊維、改質剤(
例えば耐衝撃剤)、螢光増白剤、顔料、光安定剤、紫外
線吸収剤、難燃剤、または防錆剤を、安定剤混入前また
は混入時に入れる。
ばフェノール系酸化防止剤、潤滑剤C好!I、、<はモ
ンタンロウまたはグリセロールエステル入脂肪酸エステ
ル、パラフィン、可塑剤、充填剤、カーボンブラック、
アスベスト、カオリン、メルク、ガラス繊維、改質剤(
例えば耐衝撃剤)、螢光増白剤、顔料、光安定剤、紫外
線吸収剤、難燃剤、または防錆剤を、安定剤混入前また
は混入時に入れる。
安定剤成分の塩素含有ポリマーへの混入は、慣用方法に
よシ、2本ロール機で、150かいし200℃の温度で
行なう。通常、適当な均質化は、5ないし15分間で達
成される。成分の添加は、個々に、または−緒に、プレ
ミックスの形態で実施されうる。液体のプレミックスが
有利であることか証明された。即ち、該方法は不活性溶
媒及び/または可塑剤の存在下で実施される。
よシ、2本ロール機で、150かいし200℃の温度で
行なう。通常、適当な均質化は、5ないし15分間で達
成される。成分の添加は、個々に、または−緒に、プレ
ミックスの形態で実施されうる。液体のプレミックスが
有利であることか証明された。即ち、該方法は不活性溶
媒及び/または可塑剤の存在下で実施される。
式IA中、R4が水素原子を表わす化合物は、公知方法
と同様の方法、例えば次式■:R1−C−CH3(11
) (式中、R1は上記の意味を表わす)で表わされる化合
物を次式■: R’−0−C−R” ’−X−R3Qr9(式中、X、
R”及びR3は上記の意味を表わし、そしてR′は好
ましくは炭素原子数1ないし3のアルキル基を表わす)
で表わされる化合物と、強塩基化合物、例えばアルカリ
金属のアルコラード、水素化物もしくはアミド、または
マグネシウムのアルコラード、水素化物もしくはアミド
、特にナトリウムメチラートまたはナトリウムエチラー
トの存在下で反応することによシ製造される。反応は、
好ましくは不活性溶媒、例えばトルエン、キシレンまた
はテトラヒドロフラン中で実施される。反応温度は、2
0℃ないし選択された溶媒の沸点温度が便利である。第
一の反応生成物はジケト誘導体に対応するアルカリ金属
キレートまたはマグネシウムキレートであシ、酸、例え
ば塩酸、硫酸もしくはギ酸に−よシ脱離することができ
る。得られた反応生成物は、式IA中、R4がHを表わ
す化合物であシ、所望によっては安定剤として直接使用
すること本できる。粗生成物は慣用方法(例えば、再結
晶または蒸留)によυ処理することもできる。
と同様の方法、例えば次式■:R1−C−CH3(11
) (式中、R1は上記の意味を表わす)で表わされる化合
物を次式■: R’−0−C−R” ’−X−R3Qr9(式中、X、
R”及びR3は上記の意味を表わし、そしてR′は好
ましくは炭素原子数1ないし3のアルキル基を表わす)
で表わされる化合物と、強塩基化合物、例えばアルカリ
金属のアルコラード、水素化物もしくはアミド、または
マグネシウムのアルコラード、水素化物もしくはアミド
、特にナトリウムメチラートまたはナトリウムエチラー
トの存在下で反応することによシ製造される。反応は、
好ましくは不活性溶媒、例えばトルエン、キシレンまた
はテトラヒドロフラン中で実施される。反応温度は、2
0℃ないし選択された溶媒の沸点温度が便利である。第
一の反応生成物はジケト誘導体に対応するアルカリ金属
キレートまたはマグネシウムキレートであシ、酸、例え
ば塩酸、硫酸もしくはギ酸に−よシ脱離することができ
る。得られた反応生成物は、式IA中、R4がHを表わ
す化合物であシ、所望によっては安定剤として直接使用
すること本できる。粗生成物は慣用方法(例えば、再結
晶または蒸留)によυ処理することもできる。
弐■の化合物も、公知方法と同様の方法、例えば次式I
V : R’−0−C−R”−XH潤で表わされる化
合物を次式■: y −R” (V)(式中、
X、 R’、n gI及びR3は上記の意味を表わし、
そしてYはハロゲン原子、好ましくはC1を表わす)で
表わされる化合物と反応させることによシ製造すること
ができる。反応温度は好ましくは20〜60℃である。
V : R’−0−C−R”−XH潤で表わされる化
合物を次式■: y −R” (V)(式中、
X、 R’、n gI及びR3は上記の意味を表わし、
そしてYはハロゲン原子、好ましくはC1を表わす)で
表わされる化合物と反応させることによシ製造すること
ができる。反応温度は好ましくは20〜60℃である。
式■の化合物中、R21がジメチレン基または1.2−
プロピレン基である場合、これらの化合物は次式■: n’−o−c−cH=caRNcvn で表わされる化合物を次式■: T−I−X−R3■ (式中、X、R’及びR3は上記の意味を表わし、そし
てR“は水素原子またはメチル基を表わす)で表わされ
る化合物と反応式せることによシ製造することもできる
。
プロピレン基である場合、これらの化合物は次式■: n’−o−c−cH=caRNcvn で表わされる化合物を次式■: T−I−X−R3■ (式中、X、R’及びR3は上記の意味を表わし、そし
てR“は水素原子またはメチル基を表わす)で表わされ
る化合物と反応式せることによシ製造することもできる
。
式IA中、R4が炭素原子数2ないし5のアルコキシカ
ルボニル基または炭素原子数2ないし5のアルカノイル
基を表わす化合物は、下記の(至) R1,R’、R3,R4,X及びR′は上記の意味を表
わす。
ルボニル基または炭素原子数2ないし5のアルカノイル
基を表わす化合物は、下記の(至) R1,R’、R3,R4,X及びR′は上記の意味を表
わす。
反応A及びBは、一つの反応容器内で連続して、式■の
化合物を単離せずに行なうことができる。反応媒体は不
活性溶媒、例えばトルエンまたはエーテル、特にジエチ
ルエーテルまたはテトラヒドロフランを使用するのが有
利である。
化合物を単離せずに行なうことができる。反応媒体は不
活性溶媒、例えばトルエンまたはエーテル、特にジエチ
ルエーテルまたはテトラヒドロフランを使用するのが有
利である。
反応Aは好ましくは5ないし15℃で実施し、そして反
応Bは好ましくは0ないし25℃で実施する。
応Bは好ましくは0ないし25℃で実施する。
Rzがトリメチレンである場合、式Xの化合物は、例え
ば式■の化合物をr−ブチロラクトンと反応させ、続い
て得られたカルボン酸を対応するカルボン酸クロライド
に転化することにより製造されうる。
ば式■の化合物をr−ブチロラクトンと反応させ、続い
て得られたカルボン酸を対応するカルボン酸クロライド
に転化することにより製造されうる。
式IA中、R4が水素原子を表わす化合物は、下記式X
laの化合物を脱カルボキシル化することによって製造
することもできる。
laの化合物を脱カルボキシル化することによって製造
することもできる。
(Ma)
O
脱カルボキシル化は有利にはカチオン性条件下で、約6
0ないし80℃で実施される。
0ないし80℃で実施される。
上記の合成方法に関する研究は、
A、 Treibs and K、 Hinterme
ier ;Chem、Ber、、1163−1166(
1954)を基礎とするものである。
ier ;Chem、Ber、、1163−1166(
1954)を基礎とするものである。
式IA中、R4が水素原子を表わす化合物を、次式Mb
: R’−C−CM−C−R”−X−R”
(Xlb)]11 0 C=0 Hs で表わされるトリアセチルメタン誘導体から製造するこ
ともできる。
: R’−C−CM−C−R”−X−R”
(Xlb)]11 0 C=0 Hs で表わされるトリアセチルメタン誘導体から製造するこ
ともできる。
式X[bの化合物を、アセチル基を脱離することにより
、対応する式IAの化合物に転化する。
、対応する式IAの化合物に転化する。
式X[bの化合物は、次式■a:
で表わされる化合物を式Xの酸クロライドと反応させる
ことによシ製造することもできる。
ことによシ製造することもできる。
本発明による化合物の合成に要求される式Xのエーテル
−カルボン酸クロライドまたはチオエーテル−カルボン
酸クロライドは、慣用方法、例えばエーテル−カルボン
酸またはチオエーテル−カルボン酸をチオニルクロライ
ドと反応させることにより製造されうる。
−カルボン酸クロライドまたはチオエーテル−カルボン
酸クロライドは、慣用方法、例えばエーテル−カルボン
酸またはチオエーテル−カルボン酸をチオニルクロライ
ドと反応させることにより製造されうる。
式IA中、H2’が1.2−プロピレン基を表わし、R
4が水素原子を表わす化合物は、例えばそれ自体公知の
方法である下記の反応式による方法によシ製造すること
もできる。
4が水素原子を表わす化合物は、例えばそれ自体公知の
方法である下記の反応式による方法によシ製造すること
もできる。
(W)
上記の製造方法で使用される出発材料が購入できないか
、以前には記載されていなかった場合は、公知方法によ
り製造することができる。
、以前には記載されていなかった場合は、公知方法によ
り製造することができる。
下記の実施例により本発明の詳細な説明する。
他に記載がない限り、全ての量に関する値は重量部で示
す。
す。
実施例1:1−ベンジルチオ−4−第三ブトキシカルボ
ニル−へ5−へキサンジオンの製造先ず、マグネシウム
1α7y(rl、44モル)、クロロホルム2d及び無
水エタノール465E(1モル)を、攪拌器、温度計、
滴下漏斗及び還流冷却器を備えた11の7ラスコに、水
分を排除して入れ、攪拌しながら還流下で1時間加熱す
る。その後、ジエチルエーテル300dを滴下し、混合
物を1.5時間攪拌する。その後、混合物を約12℃に
冷却する。この温度で、第三ブチルアセトアセテ−)
612y(0,4モル)を滴下する。
ニル−へ5−へキサンジオンの製造先ず、マグネシウム
1α7y(rl、44モル)、クロロホルム2d及び無
水エタノール465E(1モル)を、攪拌器、温度計、
滴下漏斗及び還流冷却器を備えた11の7ラスコに、水
分を排除して入れ、攪拌しながら還流下で1時間加熱す
る。その後、ジエチルエーテル300dを滴下し、混合
物を1.5時間攪拌する。その後、混合物を約12℃に
冷却する。この温度で、第三ブチルアセトアセテ−)
612y(0,4モル)を滴下する。
反応混合物をさらに約−3℃に冷却し、その温度で無水
ジエチルエーテルj00ml中のベンジルチオメチルア
セチルクロライド8189(IIL4モル)を、45分
間かけて滴下する。その後、混合物を約−3℃で1時間
攪拌し、冷却せずにさらに2時間攪拌すると、その間に
室温に達する。該反応混合物を氷水aooy及び濃硫酸
48PK攪拌しながら入れる。有機層を分離し、水j5
0d。
ジエチルエーテルj00ml中のベンジルチオメチルア
セチルクロライド8189(IIL4モル)を、45分
間かけて滴下する。その後、混合物を約−3℃で1時間
攪拌し、冷却せずにさらに2時間攪拌すると、その間に
室温に達する。該反応混合物を氷水aooy及び濃硫酸
48PK攪拌しながら入れる。有機層を分離し、水j5
0d。
重炭酸塩溶液100t/及び再び水j5Dmlで洗浄す
る。その後、乾燥して濃縮する。
る。その後、乾燥して濃縮する。
収量:12atSy(理論量の955チ)屈折率:nπ
= 15284 実施例2−9:実施例1と同様の方法によシ下記の化合
物の製造を行なう。
= 15284 実施例2−9:実施例1と同様の方法によシ下記の化合
物の製造を行なう。
R’−C−CH−C−R;−X−R3
f
O
第1表
実施例10: 1−ベンジルチオ−へ5−ヘキサンジオ
ンの製造 1−ベンジルチオ−4−第三プトキシカルボニル−45
−ヘキサンジオン(実施例1参照)101.9!(CL
3モル)及びp−)ルエンスルホン酸1. Opを、攪
拌器、温度計、還流冷却器及び気泡測定器を備えた25
04のフラスコ中で、気体(C(h)の発生が完了する
まで70〜75℃で225分間加熱する。ジエチルエー
テル100mJヲ添加し、混合物を、最初に重炭酸塩溶
液50m1で、次に水100a+/で洗浄し、続いて濃
縮し、分別する。
ンの製造 1−ベンジルチオ−4−第三プトキシカルボニル−45
−ヘキサンジオン(実施例1参照)101.9!(CL
3モル)及びp−)ルエンスルホン酸1. Opを、攪
拌器、温度計、還流冷却器及び気泡測定器を備えた25
04のフラスコ中で、気体(C(h)の発生が完了する
まで70〜75℃で225分間加熱する。ジエチルエー
テル100mJヲ添加し、混合物を、最初に重炭酸塩溶
液50m1で、次に水100a+/で洗浄し、続いて濃
縮し、分別する。
収量: 4aoy(理論量の67.7チ)沸点:Q、0
01バールで122℃ 実施例1j−16:実施例10と同様の、方法により、
第1表による出発材料を用いて、下記の化合物の製造を
行なった。
01バールで122℃ 実施例1j−16:実施例10と同様の、方法により、
第1表による出発材料を用いて、下記の化合物の製造を
行なった。
RL −C−CH2−C−R2−X−R3第2表
実施例17:1−ベンジルチオ−4−ベンゾイル−3,
5−ヘキサンジオンの製造 実施例1と同様の方法により、第三ブチルアセトアセテ
ート04rILlの代わりにベンシイルア七トン04モ
ルを使用して製造を行った。
5−ヘキサンジオンの製造 実施例1と同様の方法により、第三ブチルアセトアセテ
ート04rILlの代わりにベンシイルア七トン04モ
ルを使用して製造を行った。
収量:129.85’(理論量の95,3%)屈折率:
n廿=1.6000 実施例18:1−ベンジルチオ−5−フェニル−6,5
−ペンタンジオンの製造 先ず、1−ベンジルチオ−4−ペンソイル−6,5−ヘ
キサンジオン(実施例17参照)54.0f(0,1モ
ル)を、温度計、攪拌機、滴下漏斗及び還流冷却器を備
えた100R/のフラスコに入れる。
n廿=1.6000 実施例18:1−ベンジルチオ−5−フェニル−6,5
−ペンタンジオンの製造 先ず、1−ベンジルチオ−4−ペンソイル−6,5−ヘ
キサンジオン(実施例17参照)54.0f(0,1モ
ル)を、温度計、攪拌機、滴下漏斗及び還流冷却器を備
えた100R/のフラスコに入れる。
ナトリウムメチレート溶液(メタノール中30チ)1q
、 a S’ (α11モル)を、攪拌しながら40分
間かけて滴下する。この間に反応温度が室温から約32
℃に上がる。混合物を室温でさらに1時間攪拌し、約4
5℃でさらに6時間攪拌した後、室温に冷却し、水20
011Ll及び濃硫酸12?中に攪拌しながら入れる。
、 a S’ (α11モル)を、攪拌しながら40分
間かけて滴下する。この間に反応温度が室温から約32
℃に上がる。混合物を室温でさらに1時間攪拌し、約4
5℃でさらに6時間攪拌した後、室温に冷却し、水20
011Ll及び濃硫酸12?中に攪拌しながら入れる。
ジエチルエーテル180dを添加し、有機層を分離する
。水層をさらに50ゴのジエチルエーテルで洗浄する。
。水層をさらに50ゴのジエチルエーテルで洗浄する。
併せた有機層を水洗し、重炭酸ナトリウム溶液、及び再
び水で洗浄し、乾燥し、濃縮した後、分別する。
び水で洗浄し、乾燥し、濃縮した後、分別する。
得られた生成物は、α001バールで180〜183℃
の沸点を有し、インプロパノール20ydカG)再結晶
される。
の沸点を有し、インプロパノール20ydカG)再結晶
される。
融点:55〜56℃
実施例19:1−n−へキシルチオ−5,5−ジメチル
−2,4−ヘキサンジオンの製造H3 先ス、トルエン250mA!及びナトリウムメチ2−ト
溶液(メタノール中50係)99i0.55モル)を、
温度計、攪拌器、滴下漏斗及び受は器を付けた蒸留ブリ
ッジを備えたフラスコに入れ、メタノール/トルエン混
合物108.4fを反応温度が109℃ に達するまで
留去する。その後、同温でピナコaン609(0,6モ
ル)を滴下し、メチルn−へキシルチオアセテ−)95
r(0,5モル)を20分間かけて滴下する。この間に
、さらに32.5rのメタノール/トルエン混合物が留
去される。その後、混合物全106℃でさらに35分間
攪拌し、実施例18と同様の方法により処理する。残渣
を減圧下で濃縮し、その後、分別する。
−2,4−ヘキサンジオンの製造H3 先ス、トルエン250mA!及びナトリウムメチ2−ト
溶液(メタノール中50係)99i0.55モル)を、
温度計、攪拌器、滴下漏斗及び受は器を付けた蒸留ブリ
ッジを備えたフラスコに入れ、メタノール/トルエン混
合物108.4fを反応温度が109℃ に達するまで
留去する。その後、同温でピナコaン609(0,6モ
ル)を滴下し、メチルn−へキシルチオアセテ−)95
r(0,5モル)を20分間かけて滴下する。この間に
、さらに32.5rのメタノール/トルエン混合物が留
去される。その後、混合物全106℃でさらに35分間
攪拌し、実施例18と同様の方法により処理する。残渣
を減圧下で濃縮し、その後、分別する。
沸点:02バールで130〜140℃
屈折率二〇2′D=1.4890
実施?1120 : i −1−へキシルチオ−4−フ
ェニル−2,4−ブタンジオンの製造 実施例19と同様の方法により上記化合物を製造する。
ェニル−2,4−ブタンジオンの製造 実施例19と同様の方法により上記化合物を製造する。
沸点=0.1バールで144〜148C屈折率二〇甘=
15786 実施例21:1−n−ブトキシ−7,7−シメチルー4
.6−オクタンジオンの製造 H3 延 実施例19と同様の方法により上記化合物を製造する。
15786 実施例21:1−n−ブトキシ−7,7−シメチルー4
.6−オクタンジオンの製造 H3 延 実施例19と同様の方法により上記化合物を製造する。
沸点=1バールで112〜116℃
屈折率:n駕= 1.4532
実施例22 : PVC(K[64)Ioo部、エポキ
シ化大豆油3部、ステアリン酸亜鉛0,15部。
シ化大豆油3部、ステアリン酸亜鉛0,15部。
ステアリン酸カルシウム015部及び第3表に示した安
定剤06部を混合ロール上、180℃で5分間混練する
。得られた粗製のシート(厚さ06fi)から得られた
シートの試験片を、試験炉(■〜1athis The
rmotester 、 type LIF−8T)中
−?? 190℃に7+rlL、AS’L’M D
l925 テ特定きれる試験片黄色度指数(Yl)
を示した時間の間隔、で測定する。結果を第3表に示
す。
定剤06部を混合ロール上、180℃で5分間混練する
。得られた粗製のシート(厚さ06fi)から得られた
シートの試験片を、試験炉(■〜1athis The
rmotester 、 type LIF−8T)中
−?? 190℃に7+rlL、AS’L’M D
l925 テ特定きれる試験片黄色度指数(Yl)
を示した時間の間隔、で測定する。結果を第3表に示
す。
第6表
実施例23 : 5−PVC(K値70)+00部、ジ
オクチルフタレート17部、エポキシ化大豆油6部、亜
鉛オレエート033部、Bap−i三ブチルベンゾエー
ト0.53部、フエニルジイソデシルホスファイト0.
70蔀、■5HELL SQL A (芳香族炭化水
素の混合物)044部及び第4表に示した安定剤0.2
部からなる乾燥混合物を、混合ロール上、180℃で5
分間混練する。得られた粗製シート(厚さQ、5℃m)
から得られた7−トの試験片を、試験炉(■Mathi
s thermotester。
オクチルフタレート17部、エポキシ化大豆油6部、亜
鉛オレエート033部、Bap−i三ブチルベンゾエー
ト0.53部、フエニルジイソデシルホスファイト0.
70蔀、■5HELL SQL A (芳香族炭化水
素の混合物)044部及び第4表に示した安定剤0.2
部からなる乾燥混合物を、混合ロール上、180℃で5
分間混練する。得られた粗製シート(厚さQ、5℃m)
から得られた7−トの試験片を、試験炉(■Mathi
s thermotester。
type LIF−8T)中で180℃に加熱し、A
STMD 1925で特定される試験片黄色度指数(Y
l)を示した時間の間隔で測定する。結果を第4表に示
す。
STMD 1925で特定される試験片黄色度指数(Y
l)を示した時間の間隔で測定する。結果を第4表に示
す。
Claims (17)
- (1)次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1及びR^3は各々独立に炭素原子数1な
いし12のアルキル基、フェニル基、1ないし3個の炭
素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニ
ル基、炭素原子数7ないし10のフェニルアルキル基、
フェニル環が1ないし3個の炭素原子数1ないし12の
アルキル基で置換された炭素原子数7ないし10のフェ
ニルアルキル基を表わし、R^1はさらに次式:−R^
2−X−R^3で表わされる基を表わし、R^2は炭素
原子数2ないし10のアルキレン基を表わし、R^4は
水素原子、炭素原子数2ないし5のアルコキシカルボニ
ル基または炭素原子数2ないし5のアルカノイル基を表
わし、そしてXは酸素原子または硫黄原子を表わす)で
表わされる化合物のうち、次式:▲数式、化学式、表等
があります▼及び ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物を除く化合物。 - (2)上記式 I 中、Xが硫黄原子を表わす請求項1記
載の化合物。 - (3)上記式 I 中、R^1及びR^3が各々独立に炭
素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基、1な
いし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換
されたフェニル基、ベンジル基、またはフェニル環が1
ないし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル基で置
換されたベンジル基を表わす請求項1記載の化合物。 - (4)上記式 I 中、R^4が水素原子を表わす請求項
1記載の化合物。 - (5)上記式 I 中、R^4が炭素原子数2ないし5の
アルコキシカルボニル基または炭素原子数2ないし5の
アルカノイル基を表わす請求項1記載の化合物。 - (6)上記式 I 中、R^1が炭素原子数1ないし12
のアルキル基、フェニル基、1ないし3個の炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、ベン
ジル基またはフェニル環が1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基で置換されたベンジル基を表わす
請求項1記載の化合物。 - (7)上記式 I 中、R^1が炭素原子数1ないし6の
アルキル基、フェニル基、または1ないし3個のメチル
基で置換されたフェニル基を表わし、そしてR^3が炭
素原子数4ないし12のアルキル基、フェニル基、ベン
ジル基またはフェニル環がn−ドデシル基により置換さ
れたベンジル基を表わす請求項1記載の化合物。 - (8)上記式 I 中、R^2が炭素原子数2ないし4の
アルキレン基を表わす請求項1記載の化合物。 - (9)上記式 I 中、R^1が炭素原子数1ないし4の
アルキル基またはフェニル基を表わし、R^2が炭素原
子数2ないし4のアルキレン基を表わし、R^3が炭素
原子数4ないし12のアルキル基、フェニル基またはベ
ンジル基を表わす請求項1記載の化合物。 - (10)1−ベンジルチオ−3,5−ヘキサンジオン、
1−フェニルチオ−4,6−ヘプタンジオン、1−(n
−ドデシルチオ)−4,6−ヘプタンジオン及び1−フ
ェノキシ−4,6−ヘプタンジオンである請求項1記載
の化合物。 - (11)塩素含有ポリマー及び少なくとも1種類の次式
I A: ▲数式、化学式、表等があります▼( I A) (式中、R^1及びR^3は各々独立に炭素原子数1な
いし12のアルキル基、フェニル基、1ないし3個の炭
素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニ
ル基、炭素原子数7ないし10のフェニルアルキル基、
フェニル環が1ないし3個の炭素原子数1ないし12の
アルキル基で置換された炭素原子数7ないし10のフェ
ニルアルキル基を表わし、R^1はさらに次式:−R^
2−X−R^3で表わされる基を表わし、R^2′は炭
素原子数1ないし10のアルキレン基を表わし、R^4
は水素原子、炭素原子数2ないし5のアルコキシカルボ
ニル基または炭素原子数2ないし5のアルカノイル基を
表わし、そしてXは酸素原子または硫黄原子を表わす)
で表わされる化合物を含有する組成物。 - (12)上記式 I A中、Xが硫黄原子を表わす請求項
11記載の組成物。 - (13)上記式 I A中、R^2′が炭素原子数2ない
し10アルキレン基を表わす請求項11記載の組成物。 - (14)さらに、エポキシ化合物及び少なくとも1種類
のMe(II)のカルボン酸塩及び/またはMe(II)の
フェノラート(Me(II)はBa、Ca、Mgもしくは
Znである)を含有する請求項11記載の組成物。 - (15)さらにエポキシ化大豆油及び少なくとも1種類
のMe(II)のカルボン酸塩(Me(II)はBa、Ca
、MgまたはZnを表わす)を含有する請求項11記載
の組成物。 - (16)さらに、亜リン酸塩を含有する請求項14記載
の組成物。 - (17)塩素含有ポリマーがポリ塩化ビニルである請求
項11記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH352187 | 1987-09-11 | ||
CH3521/87-9 | 1987-09-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01104027A true JPH01104027A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=4257798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63228301A Pending JPH01104027A (ja) | 1987-09-11 | 1988-09-12 | エーテル含有またはチオエーテル含有1,3−ジケトン、及び該化合物を含有する塩素含有ポリマー組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4992504A (ja) |
EP (1) | EP0307358B1 (ja) |
JP (1) | JPH01104027A (ja) |
DE (1) | DE3868371D1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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EP0498765A1 (de) * | 1991-02-04 | 1992-08-12 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Arylthiocarbonsäuren und deren Estern |
AU676689B2 (en) * | 1992-11-06 | 1997-03-20 | Rhone-Poulenc Chimie | Beta-diketones, processes for making beta-diketones and use of beta-diketones as stabilizers for PVC |
EP0962491B1 (de) | 1998-06-02 | 2003-06-04 | Crompton Vinyl Additives GmbH | Cyanacetylharnstoffe zum Stabilisieren von halogenhaltigen Polymeren |
EP1510545A3 (de) | 1998-06-26 | 2005-06-15 | Wolfgang Dr. Wehner | Oxaalkyl-6-Aminouracile zum Stabilisieren von halogenhaltigen Polymeren |
DK0967209T3 (da) | 1998-06-26 | 2003-03-24 | Crompton Vinyl Additives Gmbh | Hidtil ukendte NH2-modificerede 6-aminouraciler som stabilisatorer af halogenholdige polymerer |
DE10131764A1 (de) * | 2001-06-30 | 2003-01-09 | Cognis Deutschland Gmbh | Verwendung von Fluoralkansulfonsäuren zur Stabilisierung von halogenhaltigen organischen Kunststoffen |
EP1496083A1 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-12 | Arkema | Stabilizing composition for chlorine-containing polymers |
US20050192181A1 (en) * | 2004-02-27 | 2005-09-01 | Konica Minolta Photo Imaging, Inc. | Thermal transfer recording material, thermal transfer image receptive sheet, ink sheet, thermal transfer recording method, and metal containing compound |
DE102004019947A1 (de) * | 2004-04-23 | 2005-11-17 | Baerlocher Gmbh | Stabilisatorzusammensetzung für halogenhaltige thermoplastische Harzzusammensetzungen mit verbesserter Lagerfähigkeit |
DE102004028821A1 (de) * | 2004-06-15 | 2006-01-12 | Baerlocher Gmbh | Stabilisatorzusammensetzung für gefärbte halogenhaltige thermoplastische Harzzusammensetzungen |
KR100799083B1 (ko) | 2006-08-04 | 2008-01-29 | 테크노세미켐 주식회사 | 신규한 베타-디케톤 화합물 및 이의 제조방법 |
DE102007037795A1 (de) | 2007-08-10 | 2009-02-12 | Nabaltec Ag | Stabilisatorsysteme für halogenhaltige Polymere |
DE102008018872A1 (de) | 2008-04-14 | 2009-10-15 | Ika Innovative Kunststoffaufbereitung Gmbh & Co. Kg | Stabilisatorsystem für halogenhaltige Polymere |
DE102008020203A1 (de) | 2008-04-22 | 2009-10-29 | Catena Additives Gmbh & Co. Kg | Lösemittelfreie High Solids (One-Pack)-Stabilisatoren für halogenhaltige Polymere |
EP2123659A1 (en) | 2008-05-15 | 2009-11-25 | Arkema France | High purity monoalkyltin compounds and uses thereof |
US10517969B2 (en) * | 2009-02-17 | 2019-12-31 | Cornell University | Methods and kits for diagnosis of cancer and prediction of therapeutic value |
DE102009045701A1 (de) | 2009-10-14 | 2011-04-21 | Ika Innovative Kunststoffaufbereitung Gmbh & Co. Kg | Stabilisator-Kombinationen für halogenhaltige Polymere |
DE102010008854A1 (de) | 2010-02-22 | 2011-08-25 | IKA Innovative Kunststoffaufbereitung GmbH & Co. KG, 06766 | Stabilisatorsystem für verschäumbare halogenhaltige Polymere |
DE102010011191A1 (de) | 2010-03-11 | 2011-09-15 | Ika Innovative Kunststoffaufbereitung Gmbh & Co. Kg | Stabilisatormischungen für halogenhaltige Kunststoffe durch Unterwassergranulierung |
DE102010020486A1 (de) | 2010-05-14 | 2011-11-17 | Catena Additives Gmbh & Co. Kg | Flammgeschützte halogenhaltige Polymere mit verbesserter Thermostabilität |
FR2986003B1 (fr) | 2012-01-24 | 2015-01-16 | Arkema France | Procede de preparation de polymeres halogenes |
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