JPH01100069A - セラミック焼成炉 - Google Patents

セラミック焼成炉

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Publication number
JPH01100069A
JPH01100069A JP62258035A JP25803587A JPH01100069A JP H01100069 A JPH01100069 A JP H01100069A JP 62258035 A JP62258035 A JP 62258035A JP 25803587 A JP25803587 A JP 25803587A JP H01100069 A JPH01100069 A JP H01100069A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
space
furnace
heat
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62258035A
Other languages
English (en)
Inventor
Shiyuuji Genkou
修二 玄行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP62258035A priority Critical patent/JPH01100069A/ja
Publication of JPH01100069A publication Critical patent/JPH01100069A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は主としてセラミックコンデンサ等のセラミック
電子部品の製造に使用されるセラミック成形体焼成用の
セラミック焼成炉に関する。
(従来技術) 一般に、セラミック電子部品の製造に使用されるセラミ
ック成形体の焼成には、トンネル式の連続焼成炉やバッ
チ式の焼成炉が使用される。
従来のこの種のバッチ式の焼成炉の一例を第3図に示す
第3図の焼成炉は炉床昇降式のもので、炉本体lの下部
開口2に嵌合する炉床3が、この炉本体1の下部開口2
に対して昇降する。この炉床3に載置された台板4の上
には、焼成するセラミック成形体(図示せず。)が収容
された匣鉢5が積み重ねられる。そして、上記セラミッ
ク成形体は、炉本体lの内部に配置された炭化ケイ素(
SiC)等のヒータ6により加熱され、たとえば第4図
に示すような焼成プログラムに従って焼成される。
ところで、上記のような構成を有するバッチ式の焼成炉
では、従来より、炉本体l内から炉本体lの外部に逃げ
る熱をできるだけ少なくして消費電力を少なくするため
、上記炉本体lを構成している断熱材層を厚くしていた
。このため、炉本体1内の温度を、第4図に示すように
、1400℃の高温に保持した後、ヒータ6の電源を切
って゛も、炉本体l内の温度はなかなか降下せず、降温
時間が長くなり、炉の稼動率が低いという問題かあった
。また、上記従来のセラミック焼成炉では、上記のよう
に、降温時に炉本体l内の温度がなかなか降下しないの
で、降温時に炉本体l内の温度を制御するのは困難であ
るといった問題もあった。
(発明の目的) 本発明の目的は、稼動率が高く降温時の温度制御が可能
で、しかも熱効率の高いセラミック焼成炉を提供するこ
とである。
(発明の構成) このため、本発明は、被焼成物を内部に収容して焼成す
る炉本体が内側断熱層とその外側に空間をおいて配置さ
れた外側断熱層とからなり、内側断熱層と外側断熱層と
の間の上記空間には、エアー供給手段とエアー排出手段
とが夫々連通されており、炉本体内部の降温時に上記エ
アー供給手段より上記空間内にエアーを供給して炉本体
を冷却するようにしたことを特徴としている。
炉本体内部の降温時に、上記エアー供給手段よりエアー
が内側断熱層と外側断熱層との間の上記空間内に導入さ
れる。この空間内に導入されたエアーは、炉本体を冷却
しつつ上記エアー排出手段より排出される。これにより
、炉本体の降温時間が短縮される。
(発明の効果) 本発明によれば、炉本体内部の降温時に炉本体を構成し
ている内側断熱層と外側断熱層との間の空間に導入され
たエアーにより炉本体が冷却されるので、炉本体内部の
降温時間が短縮され、炉の稼動率を上げることができる
また、本発明によれば、降温時以外には炉本体の内側断
熱層と外側断熱層との間の空間に導入されているエアー
は熱の遮断層として機能するので、炉の熱効率も向上す
る。
さらに、本発明によれば、炉本体内部の降温時にもヒー
タに通電し、降温時の炉本体内部の温度を制御すること
ができる。
(実施例) 以下、添付の図面を参照して本発明の詳細な説明する。
本発明に係るバッチ式のセラミック焼成炉の一実施例の
縦断面を第1図に、また、この第1図の■−■線に沿う
断面を第2図に夫々示す。
上記セラミック焼成炉は、炉本体11が内側断熱層12
と、その外側に空間14をおいて配置された外側断熱層
13とからなるもので、下側に昇降式の炉床15が嵌合
する開口16を有している。
上記炉床15は、その昇降用のりフタ(図示せず。
)のつめ17の上に載置されている。
上記炉本体11には、その内側断熱層12と外側断熱層
13との間の上記空間14に連通ずる複数本のエアー供
給パイプ18およびエアー排出パイプ19が取着されて
いる。上記各エアー供給パイプ18は炉本体11の下面
に、上記空間14の位置に沿って、はぼ等間隔に取着さ
れる(第2図参照)。また、上記各エアー排出パイプ1
9は、炉本体11の上面に、上記空間14の位置に沿っ
て取着される。そして、上記各エアー供給パイプ18は
、第1図に示すように、エアー送出用のブロア21に接
続される。上記各エアー排出パイプ19は本セラミック
焼成炉が設置されている建屋(図示せず。)の外に通じ
る排気パイプ(図示せず。
)に接続される。
上記炉本体11には、炭化ケイ素等の棒状のヒータ22
が、上記炉本体11の対向する内側壁に沿って、上から
下に所定の間隔をおいて配置される。また、対向する上
記内側壁のほぼ中央部にも、上から下に、上記と同様の
棒状のヒータ22が配置される。
なお、炉床15上には、第3図のセラミック焼成炉と同
様に、台板23が載置され、この台板23の上に、焼成
するセラミック成形体(図示せず。
)が収容された匣鉢24が積み重ねられる。
このような構成であれば、リフタによって昇降する炉床
15に乗った匣鉢24内のセラミック成形体はヒータ2
2によって加熱焼成される。加熱昇温時および高温キー
プ時は内側断熱層12.空間14内のエアー層および外
側断熱層13の3層の断熱層が働き放熱ロスの少ない省
エネルギー型の炉となる。
高温キープが終了し降温時はブロア21により、エアー
供給パイプ18を通してエアーが上記空間14に送られ
、エアー供給パイプ!8のエアー吹出口から上記空間1
4に吹出す。この場合、あたかも、内側断熱層12の外
側が炉壁となった形になり高い放熱効果が得られる。
放熱により温められたエアーは上部のエアー排出パイプ
19に集められそのまま排気ダクトにより屋外へ放出さ
れる。これにより本セラミック焼成炉の設置された部屋
の温度を上げる事はなく降温時間の短縮により焼成炉の
稼動率を上げる事ができる。
なお、上記実施例において、セラミック成形体を保護雰
囲気ガス中で焼成する必要がある場合は、同一の雰囲気
ガスを、炉本体11の内部に投入する前に、上記空間1
4内に投入して予め予熱した後、上記炉本体11内に投
入するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るセラミック焼成炉の一実施例の縦
断面図、 第2図は第1図の■−■線に沿う断面図、第3図は従来
のセラミック焼成炉の縦断面図、第4図は第3図のセラ
ミック焼成炉の焼成温度プログラムの説明図である。 11・・・炉本体、12・・・内側断熱層、13・・・
外側断熱層、14・・・空間、15・・・炉床、18・
・・エアー供給パイプ、19・・・エアー排出パイプ、
21・・・ブロア、22・・・ヒータ。 特許出願人 株式会社村田製作所

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被焼成物を内部に収容して焼成する炉本体が内側
    断熱層とその外側に空間をおいて配置された外側断熱層
    とからなり、内側断熱層と外側断熱層との間の上記空間
    には、エアー供給手段とエアー排出手段とが夫々連通さ
    れており、炉本体内部の降温時に上記エアー供給手段よ
    り上記空間内にエアーを供給して炉本体を冷却するよう
    にしたことを特徴とするセラミック焼成炉。
JP62258035A 1987-10-12 1987-10-12 セラミック焼成炉 Pending JPH01100069A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62258035A JPH01100069A (ja) 1987-10-12 1987-10-12 セラミック焼成炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62258035A JPH01100069A (ja) 1987-10-12 1987-10-12 セラミック焼成炉

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Publication Number Publication Date
JPH01100069A true JPH01100069A (ja) 1989-04-18

Family

ID=17314630

Family Applications (1)

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JP62258035A Pending JPH01100069A (ja) 1987-10-12 1987-10-12 セラミック焼成炉

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