JPH04268186A - 焼成炉 - Google Patents

焼成炉

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Publication number
JPH04268186A
JPH04268186A JP2615691A JP2615691A JPH04268186A JP H04268186 A JPH04268186 A JP H04268186A JP 2615691 A JP2615691 A JP 2615691A JP 2615691 A JP2615691 A JP 2615691A JP H04268186 A JPH04268186 A JP H04268186A
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JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
heat insulating
layer
temperature
furnace
Prior art date
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Pending
Application number
JP2615691A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Akimoto
茂 秋本
Akiyoshi Onishi
明義 大西
Hideo Ito
英雄 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2615691A priority Critical patent/JPH04268186A/ja
Publication of JPH04268186A publication Critical patent/JPH04268186A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックコンデンサ
等のセラミック電子部品等の製造に使用される焼成炉に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、セラミック電子部品の製造に使
用される焼成炉としては、トンネル式の連続焼成炉やバ
ッチ式の焼成炉が周知である。
【0003】従来のこの種のバッチ式の焼成炉の一例を
図4に示す。図4の焼成炉は炉床昇降式のもので、炉本
体1の下部開口2に嵌合する炉床3が、この炉本体1の
下部開口2に対して昇降する。この炉床3に載置された
台板4の上には、焼成するセラミック成形体(図示せず
。)が収容された匣鉢5が積み重ねられた匣組み7が載
置される。そして、上記セラミック成形体は、炉本体1
の内部に配置された炭化ケイ素(SiC)等のヒータ6
により加熱され、所定の焼成プログラムに従って焼成さ
れる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な構成を有する従来のバッチ式の焼成炉では、炉本体1
内から炉本体1の外部に逃げる熱をできるだけ少なくし
て消費電力を少なくするため、上記炉本体1を構成して
いる断熱材からなる断熱層を厚くすると、炉本体1内の
温度を所定の高温に保持した後、ヒータ6の電源を切っ
ても、炉本体1内の温度はなかなか降下せず、降温時間
が長くなり、炉の稼動率が低くなるという問題があった
【0005】一方、炉本体1の降温時間を短くするため
に、上記炉本体1を構成している断熱層を薄くすると、
炉壁からの放熱量が大きくなり、消費電力が大きくなる
ばかりでなく、炉本体1の急昇温、急降温を行なうと、
炉本体1の断熱層内の温度勾配が大きくなり、炉本体1
内の温度均一性がわるくなり、炉本体1内のすべての被
焼成物について均一な温度状態を保って、昇温および降
温することが困難であるといった問題もあった。
【0006】本発明の目的は、昇温速度および降温速度
が速く、しかも高温保持状態でのエネルギ消費量が少な
く、高温時における精度の高い温度制御が可能であり、
均一な炉内温度を得ることができる焼成炉を提供するこ
とである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、本発明は、被焼成物を内部に収容して焼成を行なう炉
本体が内側断熱層とその外側に空間をおいて配置された
外側断熱層とからなる焼成炉であって、上記内側断熱層
と外側断熱層とが分離可能であり、上記外側断熱層に支
持されて上記空間内に配置される層間ヒータと、上記内
側断熱層の内側の焼成空間内に配置される内部ヒータと
、上記内側断熱層の内面を覆うマッフルとを備え、被焼
成物の冷却時に上記外側断熱層と内側断熱層とを分離す
るようにしたことを特徴としている。
【0008】
【作用】上記層間ヒータは、昇温時、外側断熱層と内側
断熱層との間からこれら外側断熱層および内側断熱層を
加熱する。これにより、内側断熱層の外側面と内側面と
の間の温度勾配が緩やかになり、炉本体内部の温度が均
一になる。また、上記層間ヒータから発生した熱が焼成
空間に伝達される。これにより、内部ヒータの発熱量は
小さくなる。
【0009】一方、降温時は、外側断熱層が内側断熱層
から分離され、実質的な断熱層の厚みが小さくなる。こ
れにより、内側断熱層内部の温度の降下時間が短くなる
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、昇温時、層間ヒータが
外側断熱層と内側断熱層との間からこれら外側断熱層お
よび内側断熱層を加熱するので、炉本体の内側断熱層の
温度勾配が小さく炉本体内部がほぼ均一に温度が上昇し
、層間ヒータと内部ヒータの発熱により、炉本体内部の
温度の均一性を保った状態で、炉本体内部の急昇温を行
なうことができる。一方、降温時は、外側断熱層が内側
断熱層から分離され、冷却時には、実質的な断熱層の厚
みが小さくなるので、炉本体内部の降温時間を短くする
ことができる。
【0011】また、本発明によれば、内側断熱層の内面
はマッフルで被覆されているので、内側断熱層の内部空
間の密閉性が高く、雰囲気制御も容易であり、しかも、
内側断熱層の内部空間にも内部ヒータが配置されている
ので、精度の高い温度制御を行なうことができる。
【0012】さらに、本発明によれば、焼成温度が低い
ときには、外側断熱層を内側断熱層から分離して使用す
ることもでき、焼成時間が大幅に削減される。
【0013】
【実施例】以下、添付の図面を参照して本発明の実施例
を説明する。
【0014】本発明に係るバッチ式のセラミック焼成炉
の一実施例の縦断面を図1に示す。上記焼成炉は、炉本
体11が内側断熱層12と、その外側に空間14をおい
て配置された外側断熱層13とからなる。上記内側断熱
層12と外側断熱層13とは分離可能であり、内側断熱
層12は、矢印A1で示すように、支持部材15により
支持された外側断熱層13の下部に形成された開口16
から、外側断熱層13の内部に収容され、また、外側断
熱層13の外部に引き出される。
【0015】一方、上記内側断熱層12は、その下部に
、昇降式の炉床17が嵌合する開口20を有する。上記
炉床17は、その下方から支持柱18により支持され、
この支持柱18は、図示しない電動モータもしく油圧等
により駆動され、矢印A2で示すように、上昇および下
降する。
【0016】上記内側断熱層12と外側断熱層13との
間の空間14内には、たとえば炭化けい素(SiC)製
の棒状の層間ヒータ19,19,…が配置される。これ
ら層間ヒータ19,19,…は、上記外側断熱層13に
支持される。上記内側断熱層12の内面は、たとえば炭
化けい素(SiC)もしくは金属製のマッフル21によ
り被覆される。上記内側断熱層12の炉床17には、上
記マッフル21に沿うように内部ヒータ22,22,…
が支持される。これら内部ヒータ22,22,…も上記
層間ヒータ19,19,…と同様のヒータである。
【0017】上記炉床17上には、図4の焼成炉と同様
の匣組み7が載置される。この匣組み7の内側断熱層1
2内部への装てんは次のように行なわれる。すなわち、
支持柱18を矢印A2で示すように降下させると、この
支持柱18に支持された炉床17とともに、内側断熱層
12も降下する。この内側断熱層12は、上記支持柱1
8の降下の途中で、内側断熱層支持部材23に支持され
、図2に示す状態となる。この状態で、さらに上記支持
柱18を下降させると、炉床17は内側断熱層の開口2
0から内側断熱層12の下方に移動し、炉床17の上に
匣組み7を載置することができるようになる。したがっ
て、炉床17の上に匣組み7を載置し、内側断熱層12
が外側断熱層13の内部に収容されるまで上記支持柱1
8を上昇させると、匣組み7の内側断熱層12の内部へ
の装てんを行なうことができる。
【0018】このような構成であれば、昇温時、内側断
熱層12と外側断熱層13との間に存在する層間ヒータ
19は、内側断熱層12と外側断熱層13との間からこ
れら内側断熱層12および外側断熱層13を加熱する。 これにより、従来の焼成炉では、断熱層の外面と内面と
の間で、図5に示すように、大きな温度勾配を生じてい
たものが、上記実施例では、図3に示すように、内側断
熱層12の内面と外側断熱層13側の面との間の温度勾
配が緩やかになり、それだけ炉本体11の焼成空間24
内の温度が均一になる。
【0019】また、上記層間ヒータ19の発熱により、
内部ヒータ22の発熱量を小さくすることができること
になる。すなわち、内側断熱層12全体が熱的なマッフ
ルとして機能することになる。これにより、匣組み7内
の被焼成物は、内部ヒータ22の位置にほとんど影響を
受けることなく、均一に加熱される。
【0020】さらに、内側断熱層12の内面がマッフル
21により被覆されているので、雰囲気ガスの置換が容
易に行なわれる。したがって、応答の速い雰囲気制御が
可能になる。
【0021】一方、降温時は、層間ヒータ19が設置さ
れている空間14の温度が、たとえば500℃ないし8
00℃になったとき、図2に示すように、支持柱18が
下降して、外側断熱層13が内側断熱層12から分離さ
れる。これにより、降温時には、実質的な断熱層の厚み
が、たとえば1/2ないし1/3となって、従来、10
時間以上かかっていた内側断熱層12内部の温度の降下
時間が、1/2以下に短縮される。
【0022】上記マッフル21は内側断熱層12により
覆われているので、急降温によっても、熱的な損傷を受
けることがない。
【0023】なお、上記実施例において、400℃ない
し500℃の比較的焼成温度の低い焼成条件のときには
、あらかじめ外側断熱層13を内側断熱層12から分離
して使用することもできる。このようにすれば、焼成時
間が大幅に削減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る焼成炉の一実施例の縦断面図であ
る。
【図2】図1の焼成炉の降温時に外側断熱層と内側断熱
層とが分離された状態を示す説明図である。
【図3】図1の焼成炉の外側断熱層の外面と内側断熱層
の内面との間の温度勾配の説明図である。
【図4】従来の焼成炉の縦断面図である。
【図5】図4の焼成炉の断熱層の外面と内面との間の温
度勾配の説明図である。
【符号の説明】
11  炉本体 12  内側断熱層 13  外側断熱層 14  空間 15  支持部材 19  層間ヒータ 21  マッフル 22  内部ヒータ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  被焼成物を内部に収容して焼成を行な
    う炉本体が内側断熱層とその外側に空間をおいて配置さ
    れた外側断熱層とからなる焼成炉であって、上記内側断
    熱層と外側断熱層とが分離可能であり、上記外側断熱層
    に支持されて上記空間内に配置される層間ヒータと、上
    記内側断熱層の内側の焼成空間内に配置される内部ヒー
    タと、上記内側断熱層の内面を覆うマッフルとを備え、
    被焼成物の冷却時に上記外側断熱層と内側断熱層とを分
    離するようにしたことを特徴とする焼成炉。
JP2615691A 1991-02-20 1991-02-20 焼成炉 Pending JPH04268186A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2615691A JPH04268186A (ja) 1991-02-20 1991-02-20 焼成炉

Applications Claiming Priority (1)

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JP2615691A JPH04268186A (ja) 1991-02-20 1991-02-20 焼成炉

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JPH04268186A true JPH04268186A (ja) 1992-09-24

Family

ID=12185684

Family Applications (1)

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JP2615691A Pending JPH04268186A (ja) 1991-02-20 1991-02-20 焼成炉

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JP (1) JPH04268186A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100454046B1 (ko) * 2000-11-13 2004-10-26 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 열처리로
JP2014126312A (ja) * 2012-12-27 2014-07-07 Kyocera Corp 加熱装置
JP2016053466A (ja) * 2014-09-04 2016-04-14 光洋サーモシステム株式会社 熱処理装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014126312A (ja) * 2012-12-27 2014-07-07 Kyocera Corp 加熱装置
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