JP7828192B2 - 基板処理装置および基板検知方法 - Google Patents

Description

本願は、基板処理装置および基板検知方法に関する。

例えば特許文献１には、ローラを用いて基板を搬送しつつ、該搬送される基板に洗浄液を供給して、該基板を洗浄する基板処理装置が開示されている。

特開２０１８－１６０５８６号公報

多くの基板処理装置では、適宜の位置にセンサが設けられていて、センサからの検知情報に基づいて、各種の制御がなされるようになっている。例えば、特許文献１に記載の基板処理装置でも、ローラの近傍に設けられたセンサで基板の有無が検知され、その検知情報に基づく制御がなされている。

センサには様々な種類が存在し、使用環境などに応じて適切なセンサが選択される。例えば、薄型の基板を扱う基板処理装置では、基板に接触してこれを検知する接触型のセンサでは、基板に損傷を与える虞もあるため、基板に接触せずにこれを検知する非接触型のセンサが用いられることが好ましい。

非接触型のセンサの一種に、検知対象物に向けて投光部から検知光を出射し、その反射光などを受光部で受光することによって、検知対象物の検知を行うセンサ（いわゆる、光電センサ）が知られている。光電センサを用いれば、例えば、薄型の基板であっても、これを損傷させることなく安全に検知することができる。

ところが、液体を扱う基板処理装置においては、光電センサが誤検知を起こしてしまう確率が高まることが判明した。発明者達がその理由を検討したところ、誤検知が引き起こされる原因は、基板に付着している液滴にあることがわかってきた。すなわち、基板の面内における、投光部からの光が照射された位置に液滴が存在していると、その液滴によって、投光部からの光が乱反射、散乱、などされてしまい、受光部にて所期の光量が受光されない。その結果、実際は存在している基板の存在を検知することができず、誤検知が生じると考えられる。

本願は、このような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、液体を扱う環境においても、十分に高い確度で検知を行うことができる技術を、提供することである。

第１の態様は、基板処理装置であって、基板を搬送する搬送部と、前記搬送部によって搬送される基板に液体を供給する液処理部と、前記液処理部に設けられ、前記液体が供給されている基板を検知するセンサユニットと、を備え、前記センサユニットが、基板の下面に向けて検知光を投光する投光部と、前記投光部から投光された前記検知光を受光する受光部と、を備えるセンサ部と、前記センサ部と対応付けて設けられて、該対応する前記センサ部の前記投光部から投光された前記検知光が照射される照射領域の液滴を局所的に除去する液滴除去部と、を備え、前記液滴除去部が、前記基板に向けて流体を吐出する吐出部を備え、前記吐出部から吐出された流体で液滴を押し流すことによって、前記照射領域から液滴を除去し、前記液滴除去部によって液滴が除去される範囲が、前記基板の搬送方向と交差する方向について、前記基板の全体ではなく一部である。

第２の態様は、第１の態様に係る基板処理装置であって、前記液処理部が、前記搬送部によって搬送される基板の前記下面に液体を供給する。

第３の態様は、第１または第２の態様に係る基板処理装置であって、前記照射領域が、前記基板における前記吐出部から吐出された流体が到達する吐出領域からずれた位置である。

第４の態様は、第１から第３のいずれかの態様に係る基板処理装置であって、前記吐出部が、前記基板の搬送方向について前記センサ部よりも上流側に配置されて、前記搬送方向の上流側から下流側に向けて流体を吐出する。

第５の態様は、第１から第４のいずれかの態様に係る基板処理装置であって、前記搬送部が、基板を傾斜姿勢で搬送し、前記吐出部が、前記センサ部に対して、前記基板の傾斜方向の高端側に配置されて、前記傾斜方向の高端側から低端側に向かう方向に流体を吐出する。

第６の態様は、第１から第５のいずれかの態様に係る基板処理装置であって、前記吐出部から吐出される流体が、液体である。

第７の態様は、第１から第５のいずれかの態様に係る基板処理装置であって、前記吐出部から吐出される流体が、気体である。

第８の態様は、液処理部において搬送されつつ液体を供給される基板を検知する基板検知方法であって、前記液処理部で、前記基板の下面における検知光が照射される照射領域の液滴を局所的に除去する液滴除去工程と、前記液処理部で、前記照射領域に向けて投光された検知光を受光することによって前記基板を検知する検知工程と、を備え、前記液滴除去工程において、前記基板に向けて流体を吐出する吐出部から吐出された流体で液滴を押し流すことによって、前記照射領域から液滴を除去し、前記液滴除去工程において液滴が除去される範囲が、前記基板の搬送方向と交差する方向について、前記基板の全体ではなく一部である。

第１の態様によると、検知光が照射される照射領域の液滴が、液滴除去部によって除去されるので、誤検知が生じる可能性が十分に低減される。したがって、液体を扱う環境においても、十分に高い確度で検知を行うことができる。また、吐出部から吐出された流体で液滴を押し流すので、照射領域の液滴を十分に除去することができる。

第２の態様においては、搬送される基板の下面に液体が供給されるとともに、該下面に検知光が投光される。基板の下面に供給された液体は、重力を受けて液滴を形成しやすいため、このような状況では誤検知が特に引き起こされやすいところ、検知光が照射される照射領域の液滴が、液滴除去部によって除去されるので、誤検知の発生が十分に回避される。

第３の態様によると、吐出領域からずれた位置に検知光が照射される。吐出領域では、吐出部から吐出された流体が基板に到達した際の衝撃で、波面に乱れが生じている可能性があるところ、検知光が照射される照射領域が、吐出領域からずれた位置とされることで、例えば、この波面の乱れによって乱反射などが生じてセンサ部における検知の精度が低下する、といった事態が生じにくい。

第４の態様によると、吐出部から吐出された流体で押し流された液滴が逆流して照射領域に再び進入するといった事態が未然に回避される。

第５の態様によると、吐出部から吐出された流体が十分な勢いで流れるので、照射領域の液滴を十分に除去することができる。

第６の態様によると、吐出部から吐出される流体が液体であるので、液滴を液流で押し流して、照射領域から十分に除去することができる。

第７の態様によると、吐出部から吐出される流体が気体であるので、液滴を気流で押し流して、照射領域から十分に除去することができる。

第８の態様によると、検知光が照射される照射領域の液滴が、液滴除去工程において除去されるので、誤検知が生じる可能性が十分に低減される。したがって、液体を扱う環境においても、十分に高い確度で検知を行うことができる。また、吐出部から吐出された流体で液滴を押し流すので、照射領域の液滴を十分に除去することができる。

基板処理システムの構成を模式的に示す平面図である。 制御部の構成を示すブロック図である。 洗浄装置の構成を模式的に示す側面図である。 現像装置の構成を模式的に示す側面図である。 ローラ搬送機構を説明するための図である。 センサ部を搬送方向の一方側から見た側面図である。 センサユニットを、幅方向の一方側から見た側面図、および、搬送される基板の主面の法線方向に沿って見た平面図である。 ノズルの配置位置のバリエーションを説明するための平面図である。 ノズルの配置位置のバリエーションを説明するための側面図である。 第１の変形例に係るセンサユニットを、搬送方向の下流側から見た側面図、および、斜め上から見た斜視図である。 補助阻害部の配置位置のバリエーションを説明するための側面図である。 第２の変形例に係るセンサユニットを、搬送方向の一方側から見た側面図である。 変形例に係るセンサユニットが設けられた洗浄装置の構成を模式的に示す側面図である。 変形例に係るセンサユニットを搬送方向の一方側から見た側面図である。 変形例に係るセンサユニットを搬送方向の一方側から見た側面図である。

以下、添付の図面を参照しながら、実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本開示の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法または数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。

相対的または絶対的な位置関係を示す表現（例えば、「一方向に」、「一方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」、「同軸」、など）は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表すものとする。また、等しい状態であることを示す表現（例えば、「同一」、「等しい」、「均質」、など）は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表すものとする。また、形状を示す表現（例えば、「円形状」、「四角形状」、「円筒形状」、など）は、特に断らない限り、幾何学的に厳密にその形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲の形状を表すものとし、例えば凹凸または面取りなどを有していてもよい。また、構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、「有する」、といった各表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的表現ではない。また、「Ａ、ＢおよびＣのうちの少なくとも一つ」という表現には、「Ａのみ」、「Ｂのみ」、「Ｃのみ」、「Ａ、ＢおよびＣのうち任意の２つ」、「Ａ、ＢおよびＣの全て」が含まれる。

＜１．基板処理システムの全体構成＞
基板処理システム１の全体構成について、図１を参照しながら説明する。図１は、基板処理システム１の全体構成の一例を模式的に示す平面図である。

基板処理システム１は、基板に対して、塗布処理および現像処理を行うシステム（コータデベロッパシステム）である。処理対象とされる基板は、例えば、液晶表示装置に用いられる矩形状のガラス基板であるが、これに限られるものではない。

基板処理システム１は、複数の基板処理装置（具体的には、洗浄装置１１、脱水ベーク装置１２、塗布関連装置１３、プリベーク装置１４、現像装置１５、ポストベーク装置１６、など）を備える。また、基板処理システム１は、複数の基板処理装置１１～１６の一方側に接続されたインデクサ部１０１と、複数の基板処理装置１１～１６の他方側に、インターフェース部（図示省略）を介して接続された露光装置１０２と、を備える。

インデクサ部１０１には、例えば複数の載置部が設けられており、各載置部に、複数の基板を収容する基板収容容器（カセット）が載置される。また、インデクサ部１０１には、基板搬送手段としてのインデクサロボットが配置されている。インデクサロボットは、載置部に載置されたカセットから未処理の基板を取り出して、これを所定の基板処理装置（ここでは、洗浄装置１１）に搬入する。また、インデクサロボットは、所定の基板処理装置（ここでは、ポストベーク装置１６）から処理済みの基板を取り出して、これをカセットに収容する。

インデクサ部１０１から露光装置１０２までの行きラインには、基板に洗浄処理を行う洗浄装置１１、基板を加熱して脱水する処理（脱水ベーク処理）を行う脱水ベーク装置１２、レジストの塗布処理を含む各種の処理（塗布関連処理）を行う塗布関連装置１３、基板に加熱処理を行うプリベーク装置１４、などが、この順で配置される。この行きラインでは、まず、インデクサ部１０１において、インデクサロボットによってカセットに収容されている基板が取り出されて、洗浄装置１１に搬送される。洗浄装置１１に搬入された基板９は、ここで洗浄処理を受ける。洗浄処理を受けた基板は、続いて脱水ベーク装置１２に搬送されて、ここで脱水ベーク処理を受ける。脱水ベーク処理を受けた基板は、続いて塗布関連装置１３に搬送されて、ここで塗布関連処理を受ける。塗布関連処理を受けた基板は、続いてプリベーク装置１４に搬送されて、ここで加熱処理を受ける。加熱処理を受けた基板は、続いて露光装置１０２に搬入されて、ここで露光処理を受ける。

一方、露光装置１０２からインデクサ部１０１までの帰りラインには、基板に現像処理を行う現像装置１５、基板に加熱処理を行うポストベーク装置１６、などがこの順で配置される。この帰りラインでは、露光装置１０２で露光処理を受けた基板が、現像装置１５に搬送されて、ここで現像処理を受ける。現像処理を受けた基板は、続いてポストベーク装置１６に搬送されて、ここで加熱処理を受ける。加熱処理を受けた基板は、インデクサ部１０１のインデクサロボットによって取り出されて、カセットに収容される。

基板処理システム１が備える複数の基板処理装置１１～１６は、２つのタイプに分けられる。第１のタイプは、基板を一方向に次々に搬送しつつ、１枚ずつの基板に対して次々に処理を行うタイプの基板処理装置（平流し処理装置）であり、例えば、洗浄装置１１および現像装置１５が、このタイプの基板処理装置に該当する。第２のタイプは、複数の基板に対して一括して同時に処理を行うタイプの基板処理装置（同時処理装置）であり、例えば、脱水ベーク装置１２、塗布関連装置１３、プリベーク装置１４、および、ポストベーク装置１６が、このタイプの基板処理装置に該当する。ただし、ここでいう「同時に処理を行う」とは、複数の基板の各々に対して行われる処理の処理期間が完全に一致する場合だけでなく、各基板に対する処理期間が少なくとも一部において重なるような場合も含まれる。

基板処理システム１は、ここで行われる各種の動作（各基板処理装置１１～１６において行われる処理動作、各基板処理装置１１～１６の間での基板の搬送動作、など）を制御する制御部１７を備える。制御部１７は、例えば、電気回路を有する一般的なコンピュータによって構成される。制御部１７は、具体的には例えば、図２に示されるように、データ処理を担う中央演算装置としてのＣＰＵ（Central Processor Unit）１７１、基本プログラムなどが格納されるＲＯＭ（Read Only Memory）１７２、ＣＰＵ１７１が所定の処理（データ処理）を行う際の作業領域として用いられるＲＡＭ（Random Access Memory）１７３、フラッシュメモリ、ハードディスク装置、などの不揮発性記憶装置によって構成される記憶装置１７４、これらを相互に接続するバスライン１７５、などを含んで構成される。

記憶装置１７４には、制御部１７が実行する処理を規定するプログラムＰが格納されており、ＣＰＵ１７１がこのプログラムＰを実行することにより、制御部１７において各種の機能部が実現され、制御部１７がプログラムＰによって規定された処理を実行することができる。プログラムＰは、記録媒体に記憶されていてもよく、該記録媒体を用いて制御部１７（具体的には、制御部１７を構成するコンピュータ）にインストールされてもよい。もっとも、制御部１７において実現される機能部の一部または全部が、専用の論理回路などのハードウェアによって実現されてもよい。

制御部１７のバスライン１７５には、入力部１７６、表示部１７７、通信部１７８、などがさらに接続されていてもよい。入力部１７６は、各種スイッチ、タッチパネル、などにより構成されており、オペレータから各種の入力指示を受け付ける。表示部１７７は、液晶表示装置、ランプ、などにより構成されており、ＣＰＵ１７１による制御のもとで、各種の情報を表示する。通信部１７８は、例えば、ＬＡＮ(Local Area Network)などを介したデータ通信を実現する。

制御部１７は、基板処理システム１の全体の動作を統括して制御する主制御部と、複数のローカル制御部とが、通信可能に接続された構成とされてもよい。この場合に、各基板処理装置１１～１６に、少なくとも１個のローカル制御部が対応付けられて、該ローカル制御部が、主制御部からの指示に基づいて、対応する基板処理装置の動作を制御するものとしてもよい。また、このような構成が採用される場合、主制御部および各ローカル制御部の各々が、上記の各部１７１～１７８の一部あるいは全部を個別に備えるものとしてもよい。

＜２．平流し処理装置の構成、および、センサユニットの配設位置＞
基板処理システム１が備える複数の基板処理装置１１～１６の少なくとも１個には、センサユニット４が設けられる。センサユニット４は、具体的には例えば、平流し処理装置において、搬送される基板９を検知するために用いられる。センサユニット４の具体的な構成を説明する前に、センサユニット４の好適な配設位置を説明するべく、平流し処理装置の一態様である、洗浄装置１１および現像装置１５の各構成例について、説明する。

＜２－１．洗浄装置１１＞
（ａ）装置構成
まず、洗浄装置１１の構成例について、図３、図５を参照しながら説明する。図３は、洗浄装置１１の構成の一例を概略的に示す図である。図５は、ローラ搬送機構２１を説明するための図である。

洗浄装置１１は、基板９を洗浄する基板処理装置であり、基板導入部２ａ、第１液処理部２ｂ、第２液処理部２ｃ、液切り部２ｄ、および、基板導出部２ｅが、搬送方向Ｄ１に沿ってこの順に配列された構成を備える。これら各部２ａ～２ｅにはそれぞれ筐体が設けられており、隣り合う筐体は、基板９を通過させるための搬出入口（図示省略）を介して、接続される。

（基板導入部２ａ）
基板導入部２ａは、インデクサ部１０１に設けられているインデクサロボットから基板９を受け取って、該基板９を第１液処理部２ｂへ搬送する。

基板導入部２ａには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構２１が設けられる。

ローラ搬送機構２１は、具体的には例えば、搬送方向Ｄ１に配列された複数のローラ軸２１１と、各ローラ軸２１１に固定された複数のローラ２１２と、を備える。各ローラ２１２は、例えば円盤状であり、その中心がローラ軸２１１に固定されている。また、複数のローラ軸２１１は、各々が搬送方向Ｄ１と直交する方向（幅方向）Ｄ２に延在するような姿勢とされて、搬送方向Ｄ１に沿って、間隔を設けつつ一列に配列される。複数のローラ軸２１１をこのような位置および姿勢で配設する態様は、どのようなものであってもよく、一例として、一対の支持板２１３の間に、複数のローラ軸２１１を、その軸線の周りで回転自在に、架設してもよい。なお、複数のローラ軸２１１が一列に配列された状態において、各ローラ軸２１１に設けられる各ローラ２１２が千鳥配置となるように、各ローラ２１２の取り付け位置が調整されることも好ましい。また、ローラ搬送機構２１は、各ローラ軸２１１に接続された駆動部（図示省略）をさらに備える。駆動部は、例えばモータなどを含んで構成される。駆動部が、例えば、複数のローラ軸２１１を、各々の軸線の周りで、同じ方向に、同じ回転速度で、回転させると（同期回転）、各ローラ軸２１１に固定されているローラ２１２が回転し、ローラ２１２上に支持されている基板９が、ローラ軸２１１の配列方向（すなわち、搬送方向Ｄ１）に搬送される。

（第１液処理部２ｂ）
第１液処理部２ｂは、基板９を搬送しつつ、該搬送される基板９に薬液を供給して、基板９を洗浄（薬液洗浄）する。

第１液処理部２ｂには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構２１が設けられる。ローラ搬送機構２１の構成は、基板導入部２ａが備えるローラ搬送機構２１と同様である。

第１液処理部２ｂには、ローラ搬送機構２１によって搬送される基板９の上面に向けて洗浄用の薬液を吐出するノズル２２が設けられる。ノズル２２は、例えば、ポンプ２２１などが介挿された供給管２２２を介して、薬液を貯留する薬液槽Ｔ１に接続される。このような構成において、ポンプ２２１が駆動されると、薬液槽Ｔ１に貯留されている薬液が、供給管２２２を通じてノズル２２に供給され、ここから基板９の上面に向けて薬液が吐出される。

（第２液処理部２ｃ）
第２液処理部２ｃは、基板９を搬送しつつ、該搬送される基板９に洗浄液（例えば、洗浄液としての純水）を供給して、基板９を洗浄する。

第２液処理部２ｃには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構２１が設けられる。ローラ搬送機構２１の構成は、基板導入部２ａが備えるローラ搬送機構２１と同様である。

第２液処理部２ｃにおいて搬送方向Ｄ１の最も上流側に配置される第１区画Ｐ１には、洗浄液としての純水を、ローラ搬送機構２１によって搬送される基板９の上側の主面（上面）に向けて吐出するノズル２３ａと、該洗浄液を該基板９の下側の主面（下面）に向けて吐出するノズル２３ｂとが設けられる。各ノズル２３ａ，２３ｂは、例えば、低圧ポンプ２３１などが介挿された供給管２３２を介して、洗浄液を貯留する洗浄液槽Ｔ２に接続される。このような構成において、低圧ポンプ２３１が駆動されると、洗浄液槽Ｔ２に貯留されている洗浄液が、供給管２３２を通じて各ノズル２３ａ，２３ｂに供給され、各ノズル２３ａ，２３ｂから、基板９の上面あるいは下面に向けて、洗浄液が低圧で吐出される。

第１区画Ｐ１の下流側に配置される第２区画Ｐ２には、洗浄液としての純水を、ローラ搬送機構２１によって搬送される基板９の上面に向けて吐出するノズル２４が設けられる。ノズル２４は、例えば、高圧ポンプ２４１などが介挿された供給管２４２を介して、洗浄液槽Ｔ２に接続される。このような構成において、高圧ポンプ２４１が駆動されると、洗浄液槽Ｔ２に貯留されている洗浄液が、供給管２４２を通じてノズル２４に供給され、該ノズル２４から、基板９の上面に向けて、洗浄液が高圧で吐出される。

第２区画Ｐ２の下流側に配置される第３区画Ｐ３には、洗浄液としての純水に超音波振動を付与して、これをローラ搬送機構２１によって搬送される基板９の上面に向けて吐出するノズル２５が設けられる。ノズル２５には、超音波振動を付与する超音波振動子が設けられている。また、ノズル２５は、例えば、ポンプ２５１などが介挿された供給管２５２を介して、純水供給ラインＬ１に接続される。このような構成において、ポンプ２５１が駆動されると、供給管２５２を通じてノズル２５に純水が供給され、ここで超音波振動を付与された洗浄液（超音波洗浄液）が、基板９の上面に向けて吐出される。

第３区画Ｐ３の下流側に配置される第４区画Ｐ４には、洗浄液としての純水を、ローラ搬送機構２１によって搬送される基板９の上面に向けて吐出するノズル２６ａと、該洗浄液を該基板９の下面に向けて吐出するノズル２６ｂとが設けられる。各ノズル２６ａ，２６ｂは、例えば、ポンプ２６１などが介挿された供給管２６２を介して、純水供給ラインＬ１に接続される。このような構成において、ポンプ２６１が駆動されると、供給管２６２を通じて各ノズル２６ａ，２６ｂに純水が供給され、各ノズル２６ａ，２６ｂから、基板９の上面あるいは下面に向けて、洗浄液が吐出される。

（液切り部２ｄ）
液切り部２ｄは、第２液処理部２ｃによって液処理された基板９に付着している液体を除去（液切り）する。

液切り部２ｄには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構２１が設けられる。ローラ搬送機構２１の構成は、基板導入部２ａが備えるローラ搬送機構２１と同様である。

液切り部２ｄには、所定の気体（例えば、乾燥空気、清浄な空気、窒素ガス、など）を、ローラ搬送機構２１によって搬送される基板９の上面と下面に向けてそれぞれ高圧で吹き付けるガスナイフ２７が設けられる。各ガスナイフ２７は、例えば、バルブ２７１などが介挿された供給管２７２を介して、所定のガスの供給ラインＬ２に接続される。このような構成において、バルブ２７１が開放されると、供給管２７２を通じて各ガスナイフ２７に所定のガスが供給され、各ガスナイフ２７から、基板９の上面あるいは下面に、所定のガスが高圧で吹き付けられる。これにより、基板９の表面に付着している洗浄液が吹き飛ばされ、基板９の表面が乾燥する。

（基板導出部２ｅ）
基板導出部２ｅは、液切り部２ｄから基板９を受け取って、該基板９を後段の基板処理装置（ここでは、脱水ベーク装置１２）へ搬送する。

基板導出部２ｅには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構２１が設けられる。ローラ搬送機構２１の構成は、基板導入部２ａが備えるローラ搬送機構２１と同様である。

なお、洗浄装置１１の少なくとも一部において、基板９が傾斜姿勢で搬送されてもよい。すなわち、洗浄装置１１が備える複数の部分２ａ～２ｅの少なくとも１個に設けられる搬送部が、基板９を傾斜姿勢で搬送する傾斜ローラ搬送機構２１ｄであってもよい。傾斜ローラ搬送機構２１ｄの構成は、ローラ搬送機構２１とほぼ同様である。すなわち、傾斜ローラ搬送機構２１ｄは、搬送方向Ｄ１に配列された複数のローラ軸２１１と、各ローラ軸２１１に固定された複数のローラ２１２と、各ローラ軸２１１に接続された駆動部（図示省略）と、を備える。ただし、傾斜ローラ搬送機構２１ｄでは、例えば、複数のローラ軸２１１が架設される一対の支持板２１３，２１３が互いに異なる高さに配置されることによって、複数のローラ軸２１１が、幅方向Ｄ２に傾斜した傾斜姿勢とされており、複数のローラ軸２１１（ひいては、各ローラ軸２１１に固定されているローラ２１２）が回転されると、ローラ２１２上に支持されている基板９が、傾斜姿勢で搬送方向Ｄ１に搬送される。例えば、第１液処理部２ｂおよび第２液処理部２ｃに設けられる各搬送部が、傾斜ローラ搬送機構２１ｄとされる場合、基板９が傾斜姿勢で搬送されつつ、ここに洗浄液が供給されることになる。この構成によると、基板９に供給された洗浄液が、基板９の主面に滞留することなく、該主面に沿って効率よく流れ落ちるので、洗浄が効率的に進行する。

（ｂ）センサユニット４の配設位置
センサユニット４は、例えば、第２液処理部２ｃに設けられる。具体的には例えば、センサユニット４は、第２液処理部２ｃにおいて、基板９の払い出しポイントに設けられて、払い出される基板９を検知する。後に明らかになるように、センサユニット４は、第２液処理部２ｃのように液体を扱う環境においても、十分に高い確度で検知を行うことができる。

特に、第２液処理部２ｃでは、搬送される基板９の下面に対して液体が供給される。後に明らかになるように、センサユニット４は、搬送される基板９の下面に向けて検知光を投光するところ、第２液処理部２ｃでは、基板９の下面に供給された液体が、重力を受けて液滴を形成しやすいため、誤検知が特に引き起こされやすい。後に明らかになるように、センサユニット４は、このような環境下で用いられても、誤検知を起こしにくい。

＜２－２．現像装置１５＞
（ａ）装置構成
次に、現像装置１５の構成例について、図４、図５を参照しながら説明する。図４は、現像装置１５の構成の一例を概略的に示す図である。図５は、ローラ搬送機構３１および傾斜機構３３を説明するための図である。

現像装置１５は、基板９に現像処理を行う基板処理装置であり、第１液処理部３ａ、姿勢変更部３ｂ、第２液処理部３ｃ、第３液処理部３ｄ、液切り部３ｅ、および、姿勢復帰部３ｆが、搬送方向Ｄ１に沿ってこの順に配列された構成を備える。これら各部３ａ～３ｆにはそれぞれ筐体が設けられており、隣り合う筐体は、基板９を通過させるための搬出入口（図示省略）を介して、接続される。なお、現像装置１５においても、洗浄装置１１と同様、搬送方向Ｄ１について第１液処理部３ａの上流側に基板導入部が設けられ、搬送方向Ｄ１について姿勢復帰部３ｆの下流側に基板導出部が設けられてもよい。

（第１液処理部３ａ）
第１液処理部３ａは、基板９を搬送しつつ、該搬送される基板９に現像液を供給することによって、現像処理を進行させる。

第１液処理部３ａには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構３１が設けられる。ローラ搬送機構３１の構成は、洗浄装置１１において説明したローラ搬送機構２１と同様である。すなわち、ローラ搬送機構３１は、搬送方向Ｄ１に配列された複数のローラ軸３１１と、各ローラ軸３１１に固定された複数のローラ３１２と、各ローラ軸３１１に接続された駆動部（図示省略）と、を備える。

第１液処理部３ａには、ローラ搬送機構３１によって搬送される基板９の上面に現像液を供給して、該上面に現像液の液層を形成するノズル３２が設けられる。ノズル３２は、具体的には例えば、搬送方向Ｄ１と直交する方向（幅方向）Ｄ２に延在する長尺なスリットノズルにより構成され、搬送される基板９の幅方向Ｄ２の全域にわたって、カーテン状に現像液を供給する。ノズル３２は、例えば、ポンプ３２１などが介挿された供給管３２２を介して、現像液を貯留する現像液貯留部Ｔ３に接続される。このような構成において、ポンプ３２１が駆動されると、現像液貯留部Ｔ３に貯留されている現像液が、供給管３２２を通じてノズル３２に供給され、ここから基板９の上面に現像液が供給される。これにより、基板９の上面に現像液の液層が形成される。その後、ローラ搬送機構３１で搬送される間に、基板９の上面において現像処理が進行する。

（姿勢変更部３ｂ）
姿勢変更部３ｂは、第１液処理部３ａで現像液の供給を受けた基板９の姿勢を、水平姿勢から傾斜姿勢へと変更する。

姿勢変更部３ｂには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構３１が設けられる。ローラ搬送機構３１の構成は、第１液処理部３ａが備えるローラ搬送機構３１と同様である。

姿勢変更部３ｂのローラ搬送機構３１には、これを傾斜させる傾斜機構３３が設けられる。傾斜機構３３は、ローラ搬送機構３１を傾斜させることによって、ローラ３１２上に支持される基板９の姿勢を、水平姿勢と傾斜姿勢との間で切り替える機構である。

傾斜機構３３は、具体的には例えば、搬送方向Ｄ１に沿って延在するような姿勢で、ローラ搬送機構３１に配設される回転軸部３３１を備える。回転軸部３３１は、具体的には例えば、複数のローラ軸３１１が架設された一対の支持板３１３，３１３のうちの一方に、固定部材３３２を介して固定される。また、傾斜機構３３は、回転軸部３３１が配設されない側の支持板３１３に固定された昇降治具３３３、および、昇降治具３３３を昇降させる駆動部３３４を、備える。駆動部３３４は、例えばエアシリンダを含んで構成される。このような構成において、昇降治具３３３が所定の下降位置に配置されている状態では、一対の支持板３１３，３１３が同じ高さに配置される。このとき、複数のローラ軸３１１は幅方向Ｄ２に水平な水平姿勢となる。したがって、ローラ３１２上に支持されている基板９も水平姿勢となる。一方、駆動部３３４が昇降治具３３３を所定の上昇位置まで上昇させると、これが固定されている側の支持板３１３が上昇する。すると、回転軸部３３１の周りで複数のローラ軸３１１が回動して、複数のローラ軸３１１が幅方向Ｄ２に傾斜した傾斜姿勢となる。したがって、ローラ３１２上に支持されている基板９も傾斜姿勢となる。このように、傾斜機構３３では、駆動部３３４が昇降治具３３３の位置を切り替えることによって、ローラ３１２上に支持されている基板９の姿勢が、傾斜姿勢と水平姿勢との間で切り替えられる。

姿勢変更部３ｂでは、基板９の姿勢が、水平姿勢から傾斜姿勢へと切り替えられる。つまり、水平姿勢で第１液処理部３ａから搬入された基板９が、姿勢変更部３ｂにおいて傾斜姿勢とされた上で、第２液処理部３ｃに搬入される。

（第２液処理部３ｃ）
第２液処理部３ｃは、基板９を搬送しつつ、該搬送される基板９に洗浄液を供給して、基板９に供給されている現像液を洗浄液で置換する。

第２液処理部３ｃには、基板９を傾斜姿勢で搬送する搬送部である傾斜ローラ搬送機構３１ｄが設けられる。傾斜ローラ搬送機構３１ｄの構成は、洗浄装置１１において説明した傾斜ローラ搬送機構２１ｄと同様である。すなわち、傾斜ローラ搬送機構３１ｄは、搬送方向Ｄ１に配列された複数のローラ軸３１１と、各ローラ軸３１１に固定された複数のローラ３１２と、各ローラ軸３１１に接続された駆動部（図示省略）と、を備える。ただし、傾斜ローラ搬送機構３１ｄでは、例えば、複数のローラ軸３１１が架設される一対の支持板３１３，３１３が互いに異なる高さに配置されることによって、複数のローラ軸３１１が、幅方向Ｄ２に傾斜した傾斜姿勢とされている。傾斜ローラ搬送機構３１ｄは、ローラ搬送機構３１とこれに接続された傾斜機構３３とを含んで実現されてもよい。

第２液処理部３ｃには、洗浄液（例えば、洗浄液としての純水）を、傾斜ローラ搬送機構３１ｄによって傾斜姿勢で搬送される基板９の上面に向けて吐出するノズル３４ａと、該洗浄液を該基板９の下面に向けて吐出するノズル３４ｂとが設けられる。各ノズル３４ａ，３４ｂは、例えば、ポンプ３４１などが介挿された供給管３４２を介して、洗浄液を貯留する洗浄液槽Ｔ４に接続される。このような構成において、ポンプ３４１が駆動されると、洗浄液槽Ｔ４に貯留されている洗浄液が、供給管３４２を通じて各ノズル３４ａ，３４ｂに供給され、各ノズル３４ａ，３４ｂから、基板９の上面あるいは下面に向けて、洗浄液が吐出される。これにより、基板９に存在している現像液が洗浄液によって置換され、現像処理の進行が停止する。特に、ここでは、基板９が傾斜姿勢で搬送されつつ、ここに洗浄液が供給されるので、洗浄液への置換が効率的に進行する。

（第３液処理部３ｄ）
第３液処理部３ｄは、基板９を搬送しつつ、該搬送される基板９に洗浄液を供給して、基板９を洗浄する。

第３液処理部３ｄには、基板９を傾斜姿勢で搬送する搬送部である傾斜ローラ搬送機構３１ｄが設けられる。傾斜ローラ搬送機構３１ｄの構成は、第２液処理部３ｃが備える傾斜ローラ搬送機構３１ｄと同様である。

第３液処理部３ｄには、洗浄液（例えば、洗浄液としての純水）を、傾斜ローラ搬送機構３１ｄによって傾斜姿勢で搬送される基板９の上面に向けて吐出するノズル３５ａと、該洗浄液を該基板９の下面に向けて吐出するノズル３５ｂとが設けられる。各ノズル３５ａ，３５ｂのうち、相対的に上流側に配置されているものは、例えば、ポンプ３５１などが介挿された供給管３５２を介して、洗浄液を貯留する洗浄液槽Ｔ４に接続される。また、各ノズル３５ａ，３５ｂのうち、相対的に下流側に配置されているものは、例えば、ポンプ３５３などが介挿された供給管３５４を介して、純水供給ラインＬ１に接続される。このような構成において、ポンプ３５１，３５３が駆動されると、洗浄液槽Ｔ４に貯留されている洗浄液、あるいは、純水供給ラインＬ１から供給される純水が、供給管３５２，３５４を通じて各ノズル３５ａ，３５ｂに供給され、各ノズル３５ａ，３５ｂから、基板９の上面あるいは下面に向けて、洗浄液が吐出される。これにより、基板９が洗浄される。ここでも、基板９が傾斜姿勢で搬送されつつ、ここに洗浄液が供給されるので、洗浄が効率的に進行する。

（液切り部３ｅ）
液切り部３ｅは、第３液処理部３ｄによって液処理された基板９に付着している液体を除去（液切り）する。

液切り部３ｅには、基板９を傾斜姿勢で搬送する搬送部である傾斜ローラ搬送機構３１ｄが設けられる。傾斜ローラ搬送機構３１ｄの構成は、第２液処理部３ｃが備える傾斜ローラ搬送機構３１ｄと同様である。

液切り部３ｅには、所定の気体（例えば、乾燥空気、清浄な空気、窒素ガス、など）を、傾斜ローラ搬送機構３１ｄによって傾斜姿勢で搬送される基板９の上面と下面に向けてそれぞれ高圧で吹き付けるガスナイフ３６が設けられる。各ガスナイフ３６は、例えば、バルブ３６１などが介挿された供給管３６２を介して、所定のガスの供給ラインＬ２に接続される。このような構成において、バルブ３６１が開放されると、供給管３６２を通じて各ガスナイフ３６に所定のガスが供給され、各ガスナイフ３６から、基板９の上面あるいは下面に、所定のガスが高圧で吹き付けられる。これにより、基板９の表面に付着している洗浄液が吹き飛ばされ、基板９の表面が乾燥する。

（姿勢復帰部３ｆ）
姿勢復帰部３ｆは、液切り部３ｅで液切りされた基板９の姿勢を、傾斜姿勢から水平姿勢へと変更する。

姿勢復帰部３ｆには、基板９を搬送する搬送部であるローラ搬送機構３１が設けられる。また、このローラ搬送機構３１には、傾斜機構３３が設けられる。ローラ搬送機構３１の構成は、第１液処理部３ａが備えるローラ搬送機構３１と同様であり、傾斜機構３３の構成は、姿勢変更部３ｂが備える傾斜機構３３と同様である。

姿勢復帰部３ｆでは、基板９の姿勢が、傾斜姿勢から水平姿勢へと切り替えられる。つまり、傾斜姿勢で液切り部３ｅから搬入された基板９が、姿勢復帰部３ｆにおいて水平姿勢とされた上で、ポストベーク装置１６に搬入される。

（ｂ）センサユニット４の配設位置
センサユニット４は、例えば、各液処理部３ａ，３ｃ，３ｄに設けられる。具体的には例えば、センサユニット４は、第１液処理部３ａにおいて、基板９の払い出しポイントに設けられて、払い出される基板９を検知する。また、センサユニット４は、第２液処理部３ｃにおいて、基板９の搬入ポイント、基板９の搬送経路の途中ポイント、および、基板９の払い出しポイントに各々設けられて、各ポイントで基板９を検知する。また、センサユニット４は、第３液処理部３ｄにおいて、基板９の搬送経路の途中ポイント、および、基板９の払い出しポイントに各々設けられて、各ポイントで基板９を検知する。後に明らかになるように、センサユニット４は、各液処理部３ａ，３ｃ，３ｄのように液体を扱う環境においても、十分に高い確度で検知を行うことができる。

特に、第２液処理部３ｃおよび第３液処理部３ｄでは、搬送される基板９の下面に対して液体が供給される。後に明らかになるように、センサユニット４は、搬送される基板９の下面に向けて検知光を投光するところ、これらの液処理部３ｃ，３ｄでは、基板９の下面に供給された液体が、重力を受けて液滴を形成しやすいため、誤検知が特に引き起こされやすい。後に明らかになるように、センサユニット４は、このような環境下で用いられても、誤検知を起こしにくい。

一方、第１液処理部３ａでは、搬送される基板９の下面に対して液体が供給されるわけではない。しかしながら、第１液処理部３ａにおける基板９の払い出しポイントの隣に設けられている姿勢変更部３ｂでは、基板９が水平姿勢から傾斜姿勢へと姿勢変更されるところ、その際に、基板９の上面に供給されている液体が下面側に回り込んで流れ落ちる可能性があり、その影響を受けて、第１液処理部３ａにおける基板９の払い出しポイントでも誤検知が引き起こされる可能性がある。後に明らかになるように、センサユニット４は、このような環境下で用いられても、誤検知を起こしにくい。

＜３．センサユニット４の構成＞
センサユニット４の具体的な構成について、図３、図４に加え、図６～図９を参照しながら説明する。図６は、センサ部４１を搬送方向Ｄ１の一方側から見た側面図である。図７は、センサユニット４を、幅方向Ｄ２の一方側から見た側面図（図７（ａ））、および、搬送される基板９の主面の法線方向に沿って見た平面図（図７（ｂ））である。図８は、ノズル４２１の配置位置のバリエーションを説明するための平面図である。図９は、ノズル４２１の配置位置のバリエーションを説明するための側面図である。

センサユニット４は、液体が供給されている基板９を検知する。具体的には例えば、センサユニット４は、搬送される基板９に液体を供給する液処理が行われる液処理部（例えば、洗浄装置１１の第２液処理部２ｃ、現像装置１５の各液処理部３ａ，３ｃ，３ｄ）において、搬送される基板９を検知する。

センサユニット４は、センサ部４１と、液滴除去部４２と、を備える。

（センサ部４１）
センサ部４１は、光を用いて検知対象物を検知する光電センサであり、投光部４１１と、受光部４１２と、を備える。投光部４１１は、検知対象物に向けて検知光を投光する要素であり、具体的には例えば、発光素子を含んで構成される。受光部４１２は、投光部４１１から投光された検知光を受光してその光量を検知する要素であり、具体的には例えば、受光素子を含んで構成される。センサ部４１は例えば反射式のセンサであり、この場合、投光部４１１と受光部４１２は、検知対象物に対して同じ側に配設され、投光部４１１から投光されて検知対象物で反射された光（反射光）が、受光部４１２で受光されるように構成される。投光部４１１から投光される検知光はどのような光であってもよく、例えば、レーザ光を用いることができる。

ここでは、センサ部４１における検知対象物は、搬送される基板９であり、投光部４１１は、基板９が搬送される搬送面（具体的には、ローラ２１２，３１２による基板９の支持面）よりも低い位置に配置されて、該基板９の下面に向けて検知光を投光する。以下において、基板９の下面における、検知光が照射される領域を「照射領域Ｋ１」ともいう。照射領域Ｋ１は、スポット状（点状）であってもよいし、エリア状であってもよい。

ローラ２１２，３１２上に基板９が存在している場合、投光部４１１から出射された検知光は、基板９の下面に照射されて、ここで反射され、その反射光が受光部４１２にて受光される。一方、ローラ２１２，３１２上に基板９が存在していない場合、投光部４１１から出射された検知光は、そのまま直進するため、受光部４１２で受光されない。センサ部４１は、例えば、受光部４１２での受光量に応じた出力信号を、検知情報として制御部１７に送出する。制御部１７は、センサ部４１から取得した検知情報に基づいて、基板９の有無などを判定し、その判定結果に応じて各部を制御する。

（液滴除去部４２）
液滴除去部４２は、センサ部４１と対応付けて設けられて、対応するセンサ部４１の投光部４１１から投光された検知光が照射される領域（照射領域Ｋ１）の液滴を、局所的に除去する。つまり、液滴除去部４２は、基板９の主面に存在している液滴を全体的に除去するために設けられるものではなく、対応するセンサ部４１の照射領域Ｋ１を少なくとも含む局所的な領域から液滴を除去するために設けられる。

ただし、液滴除去部４２において除去対象とされる液滴は、センサ部４１における誤検知の原因となり得る程度に大きな液滴である。すなわち、液滴除去部４２は、センサ部４１における誤検知の原因となる可能性が十分に低い微小な液滴や、十分に小さな接触角で基板９に付着している液体までをも完全に除去する（すなわち、液体が完全に除去された状態を形成する）ものである必要はない。

この実施形態に係る液滴除去部４２は、基板９に向けて所定の流体を吐出する吐出部Ｄを備えており、吐出部Ｄから吐出された流体で液滴を押し流すことによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。

吐出部Ｄは、具体的には例えば、流体を吐出するノズル４２１と、これに流体を供給する流体供給部４２２とを含んで構成される。

ノズル４２１から吐出される流体は、液体であってもよいし、気体であってもよいし、液体と気体の両方（二流体）であってもよい。例えば、ノズル４２１から吐出される流体を純水とする場合、流体供給部４２２は、ノズル４２１と純水供給ラインＬ１とを接続する供給管４２２１、供給管４２２１に介挿されたバルブ４２２２、などを含んで構成される（図３、図４）。このような構成において、バルブ４２２２が開状態とされると、供給管４２２１を通じてノズル４２１に純水が供給され、ノズル４２１から純水が吐出される。

ノズル４２１は、センサ部４１による検知対象物である基板９（搬送される基板９）に対して、センサ部４１と同じ側（すなわち、基板９が搬送される搬送面よりも低い位置）に配置されて、該基板９の下面に向けて流体（例えば、純水）を吐出する。吐出された流体は、基板９の下面に到達して、該下面に沿って流れる。

いま、ノズル４２１から吐出されて基板９に到達した流体が、基板９の下面に存在している液滴を押し流すのに十分な勢いで流れる範囲、すなわち、吐出された流体によって有効に液滴が除去される範囲を「有効除去範囲Ｋ２」と呼ぶとすると、ここでは、照射領域Ｋ１が、有効除去範囲Ｋ２内に配置されるように、ノズル４２１とセンサ部４１の位置関係などが調整される。このような調整がなされることによって、照射領域Ｋ１に存在している液滴が、ノズル４２１から吐出された流体によって押し流されて、照射領域Ｋ１から除去される。

ノズル４２１の具体的な構成は、どのようなものであってもよい。吐出される流体が液体である場合、ノズル４２１は、液体を霧状（スプレー状）に噴射するスプレーノズルであってもよい。また、ノズル４２１は、流体をどのような形状で吐出するものであってもよい。一例として、図７に示されるように、ノズル４２１は、流体を扇形状に吐出するノズル（いわゆる、扇状ノズル、扇状スプレー）であってもよい。この場合、基板９の主面内における比較的広い範囲に十分な勢いで流体を流すことができるので、比較的広い範囲から液滴を十分に除去することができる。また、図８（ａ）に示されるように、ノズル４２１は、流体を円錐状に吐出するノズルであってもよい。この場合、基板９の主面内における十分に広い範囲に流体を流すことができるので、比較的広い範囲から液滴を除去することができる。また、図８（ｂ）に示されるように、ノズル４２１は、流体をストレート状（線形状）に吐出するノズル（いわゆる、ストレートノズル）であってもよい。この場合、比較的強い勢いでピンポイントの領域に流体を流すことができるので、基板９の主面にある液滴を、十分に強い除去力で除去することができる。

また、図７～図９に例示されるように、照射領域Ｋ１が有効除去範囲Ｋ２内に配置される限りにおいて、ノズル４２１はセンサ部４１の周囲のどの位置に配置されてもよく、ノズル４２１の姿勢も適宜に規定することができる。なお、いうまでもなく、図７～図９に例示される、ノズル４２１の配設位置とノズル４２１の形状（流体の吐出形状）との組み合わせは、あくまで一例であり、これらはどのように組み合わされてもよい。

例えば、ノズル４２１は、照射領域Ｋ１の真下からずれた位置に配置されるとともに、上方に向かうにつれて照射領域Ｋ１に近づく方向に傾斜した姿勢とされてもよい（図７～図９）。この構成によると、ノズル４２１から吐出された流体が、照射領域Ｋ１において十分な勢いをもって流れることとなり、照射領域Ｋ１の液体を十分に除去することが可能となる。

また、基板９の下面における、ノズル４２１から吐出された流体が到達する領域（吐出される流体が液体である場合、吐出された液体が着液する着液領域）を「吐出領域Ｋ２０」と呼ぶとすると、照射領域Ｋ１が、この吐出領域Ｋ２０からずれた位置となるように、ノズル４２１とセンサ部４１との位置関係が規定されてもよい（図７～図９）。吐出領域Ｋ２０では、ノズル４２１から吐出された流体が基板９に到達した際の衝撃で、波面に乱れが生じている可能性があるところ、照射領域Ｋ１が吐出領域Ｋ２０からずれた位置とされることで、この波面の乱れによってセンサ部４１の検知の精度が低下する、といった事態が生じにくい。ただし、ここでいう「ずれた位置」とは、照射領域Ｋ１の少なくとも一部分が吐出領域Ｋ２０の外側にあることを意味しており、例えば、エリア状の照射領域Ｋ１が形成される場合、照射領域Ｋ１と吐出領域Ｋ２０とが部分的に重複しつつ、ずれた位置となることもあり得る。

また、ノズル４２１は、搬送方向Ｄ１についてセンサ部４１よりも上流側に配置されて、搬送方向Ｄ１の上流側から下流側に向けて流体を吐出してもよい。この場合、流体の吐出方向は、搬送方向Ｄ１に沿う方向であってもよいし（図７）、搬送方向Ｄ１と交差する方向であってもよい（図８（ａ））。この構成によると、ノズル４２１から吐出された流体によって押し流された液滴が逆流して照射領域Ｋ１に再び進入するといった事態が未然に回避される。

あるいは、ノズル４２１は、搬送方向Ｄ１についてセンサ部４１と同じ位置、すなわち、幅方向Ｄ２についてセンサ部４１の側方に配置されてもよい（図８（ｂ））。この構成によると、センサ部４１とノズル４２１の離間距離、ノズル４２１の傾斜角度などを、ローラ軸２１１，３１１の配設ピッチの制約を受けずに規定することができるので、設計の自由度が高まる。また、ノズル４２１から吐出された流体によって押し流された液滴が逆流して照射領域Ｋ１に再び進入するといった事態も比較的生じにくい。

さらに、基板９が傾斜姿勢で搬送される場合、ノズル４２１は、センサ部４１に対して、基板９の傾斜方向の高端側に配置されて、該傾斜方向の高端側から低端側に向かう方向に流体を吐出してもよい。例えば、傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄによって基板９が傾斜姿勢で搬送される場合、基板９は幅方向Ｄ２に傾斜した傾斜姿勢で搬送される。該基板９における、幅方向Ｄ２について相対的に高い位置にある側の端縁を、「高端縁Ｑ１」とし、相対的に低い位置にある側の端縁を「低端縁Ｑ２」とした場合（図１２参照）、ノズル４２１は、幅方向Ｄ２について、センサ部４１に対して、高端縁Ｑ１の側に配置されて、上方に向かうにつれて低端縁Ｑ２の側に近づく方向に傾斜した姿勢とされて、高端縁Ｑ１の側から低端縁Ｑ２の側に向けて流体を吐出してもよい（図９）。この場合、流体の吐出方向は、幅方向Ｄ２に沿う方向であってもよいし（図８（ｂ））、幅方向Ｄ２と交差する方向であってもよい（図８（ａ））。この構成によると、ノズル４２１から吐出された流体が十分な勢いで流れるので、照射領域Ｋ１の液滴を十分に除去することができる。

＜４．検知方法＞
次に、センサユニット４が基板９を検知する動作について、引き続き図６～図９を参照しながら説明する。

センサユニット４では、照射領域Ｋ１から液滴を除去する液滴除去工程と、照射領域Ｋ１に光を照射して基板９の検知を行う検知工程とが、並行して行われる。

（液滴除去工程）
液滴除去工程では、液滴除去部４２の吐出部Ｄ（具体的には、ノズル４２１）から、搬送される基板９の下面に向けて、流体（例えば、純水）が吐出される。吐出部Ｄから吐出された流体は、基板９の下面に到達し、該下面に沿って流れて、照射領域Ｋ１にある液滴を押し流して、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。

（検知工程）
検知工程では、投光部４１１が、検知光を投光し、受光部４１２が、ここで受光される光の光量（受光量）を検知して、該受光量に応じた出力信号を検知情報として制御部１７に送出する。搬送される基板９が存在している場合、投光部４１１から投光された検知光は、搬送される基板９の下面に照射される。ここでは、検知工程と並行して液滴除去工程が行われることによって、検知光が照射される照射領域Ｋ１は、液滴が存在しない状態に維持されている。したがって、検知光は、液滴の影響を受けることなく、適切に反射される。したがって、受光部４１２にて十分な光量が検知されることとなり、液滴に起因する誤検知の発生が十分に抑制される。

制御部１７は、取得した検知情報に基づいて、基板９の有無などを判定し、その判定結果に応じて各部を制御する。具体的には例えば、制御部１７は、判定結果に応じて、各ローラ搬送機構２１，３１の駆動部などを制御する。また例えば、制御部１７は、判定結果に応じて、洗浄液の吐出タイミングなどを制御する。

＜５．効果＞
上記の実施形態に係る基板処理装置（洗浄装置１１、現像装置１５）は、基板９を搬送する搬送部（例えば、ローラ搬送機構２１，３１）と、搬送部によって搬送される基板９に液体を供給する液処理部（例えば、第２液処理部２ｃ、第１液処理部３ａ，第２液処理部３ｃ，第３液処理部３ｄ）と、液体が供給されている基板９を検知するセンサユニット４と、を備え、センサユニット４が、基板９に向けて検知光を投光する投光部４１１と、投光部４１１から投光された検知光を受光する受光部４１２と、を備えるセンサ部４１と、センサ部４１と対応付けて設けられて、該対応するセンサ部４１の投光部４１１から投光された検知光が照射される照射領域Ｋ１の液滴を局所的に除去する液滴除去部４２と、を備える。この構成によると、検知光が照射される照射領域Ｋ１の液滴が、液滴除去部４２によって除去されるので、誤検知が生じる可能性が十分に低減される。したがって、液体を扱う環境においても、十分に高い確度で検知を行うことができる。

また、上記の実施形態では、液処理部（例えば、第２液処理部２ｃ、第２液処理部３ｃ、第３液処理部３ｄ）が、搬送部によって搬送される基板９の下面に液体を供給し、投光部４１１が、該下面に向けて検知光を投光する。基板９の下面に供給された液体は、重力を受けて液滴を形成しやすいため、このような状況では誤検知が特に引き起こされやすいところ、検知光が照射される照射領域Ｋ１の液滴が、液滴除去部４２によって除去されるので、誤検知の発生が十分に回避される。

また、上記の実施形態に係る液滴除去部４２は、基板９に向けて流体を吐出する吐出部Ｄ、を備え、吐出部Ｄ（具体的には、ノズル４２１）から吐出された流体で液滴を押し流すことによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。この構成によると、吐出部Ｄから吐出された流体で液滴を押し流すので、照射領域Ｋ１の液滴を十分に除去することができる。

特に、照射領域Ｋ１が、基板９における吐出部Ｄから吐出された流体が到達する吐出領域Ｋ２０からずれた位置とされてもよい。吐出領域Ｋ２０では、吐出部Ｄから吐出された流体が基板９に到達した際の衝撃で、波面に乱れが生じている可能性があるところ、検知光が照射される照射領域Ｋ１が、吐出領域Ｄ２０からずれた位置とされることで、例えば、この波面の乱れによって乱反射などが生じてセンサ部４１における検知の精度が低下する、といった事態が生じにくい。

また、吐出部Ｄが、基板９の搬送方向Ｄ１についてセンサ部４１よりも上流側に配置されて、搬送方向Ｄ１の上流側から下流側に向けて流体を吐出してもよい。この構成によると、吐出部Ｄから吐出された流体で押し流された液滴が逆流して照射領域Ｋ１に再び進入するといった事態が未然に回避される。

また、搬送部が基板９を傾斜姿勢で搬送する場合（例えば、傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄによって基板９が搬送される場合）、吐出部Ｄが、センサ部４１に対して、基板９の傾斜方向の高端側に配置されて、該傾斜方向の高端側から低端側に向かう方向に流体を吐出してもよい。この構成によると、吐出部Ｄから吐出された流体が十分な勢いで流れるので、照射領域Ｋ１の液滴を十分に除去することができる。

また、吐出部Ｄから吐出される流体は、液体であってもよいし、気体であってもよい。吐出される流体が液体である場合、液滴を液流で押し流して、照射領域Ｋ１から十分に除去することができる。また、吐出される流体が気体である場合、液滴を気流で押し流して、照射領域Ｋ１から十分に除去することができる。

＜６．第１の変形例＞
第１の変形例に係るセンサユニット４ａについて、図１０、図１１を参照しながら説明する。図１０は、センサユニット４ａを、搬送方向Ｄ１の下流側から見た側面図（図１０（ａ））、および、斜め上から見た斜視図（図１０（ｂ））である。図１１は、補助阻害部Ｅｓの配置位置のバリエーションを説明するための側面図である。以下においては、上記の実施形態と相違する点を説明し、相違しない点については説明を省略する。また、上記の実施形態と同じ要素については、同じ符号で示す。

センサユニット４ａは、上記の実施形態に係るセンサユニット４と同様、搬送される基板９を検知するためのユニットであり、センサ部４１と、液滴除去部４２ａと、を備える。センサ部４１の構成は、上記の実施形態において説明したとおりである。

（液滴除去部４２ａ）
液滴除去部４２ａは、上記の実施形態に係る液滴除去部４２と同様、センサ部４１と対応付けて設けられて、対応するセンサ部４１の投光部４１１から投光された検知光が照射される領域（照射領域Ｋ１）の液滴を、局所的に除去する。

この実施形態に係る液滴除去部４２ａは、搬送方向Ｄ１について照射領域Ｋ１の上流側において、基板９の下面に近接して配置される、通過阻害部Ｅを備えており、基板９の下面に存在している液滴の通過を阻害することによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。

通過阻害部Ｅは、具体的には例えば、円柱状の本体部材４２３と、これを支持する支持部材４２４と、を含んで構成される。本体部材４２３は、搬送方向Ｄ１について照射領域Ｋ１の上流側に配置される。また、本体部材４２３は、搬送される基板９の下面との間に、液滴（除去対象とされる液滴）よりも小さい離間距離を設けつつ、配置される。このとき、本体部材４２３は、基板９の下面と接触しないように設けられることが好ましいが、基板９と接触してもこれを損傷しないように、本体部材４２３の材質などが適宜に選択される場合は、基板９の下面と接触するように設けられてもよい。また、本体部材４２３は、その軸方向が、幅方向Ｄ２に沿い、かつ、搬送される基板９の下面と平行となるような姿勢で、支持されることも好ましい。ただし、本体部材４２３の形状は円柱状に限られるものではなく、例えば、四角柱状、三角柱状、楕円柱状、長尺な板状、などであってもよい。また、本体部材４２３が円柱状である場合、本体部材４２３は軸部分の周りで回転自在に支持されてもよい。

このような構成において、ローラ２１２，３１２上に支持される基板９が搬送方向Ｄ１に搬送されると、本体部材４２３が基板９に対して相対的に移動する。このとき、該基板９の下面に存在している液滴は、本体部材４２３によって押し潰される、あるいは、幅方向Ｄ２の外方に押し流されるなどするため、本体部材４２３よりも搬送方向Ｄ１の下流に到達できない。すなわち、通過阻害部Ｅによって、液滴の通過が阻害される。したがって、本体部材４２３の下流側にある照射領域Ｋ１に液滴が進入することができず、照射領域Ｋ１が、液滴が存在しない状態に維持される。

通過阻害部Ｅの近傍には、補助阻害部Ｅｓがさらに設けられてもよい。補助阻害部Ｅｓは、通過阻害部Ｅと同様の構成を備える。すなわち、補助阻害部Ｅｓは、円柱状の本体部材４２３ｓと、これを支持する支持部材４２４ｓと、を含んで構成される。また、本体部材４２３ｓは、搬送される基板９の下面との間に、液滴よりも小さい離間距離を設けつつ、配置される。ただし、補助阻害部Ｅｓの本体部材４２３ｓは、幅方向Ｄ２について照射領域Ｋ１の側方に配置される。図の例では、幅方向Ｄ２について照射領域Ｋ１の両側にそれぞれ補助阻害部Ｅｓが設けられている。

このような構成によると、通過阻害部Ｅの本体部材４２３によって幅方向Ｄ２の外方に押し流された液滴などが、補助阻害部Ｅｓの本体部材４２３ｓによって押し潰される、あるいは、幅方向Ｄ２のさらに外方に押し流されるなどする。すなわち、補助阻害部Ｅｓによって、通過阻害部Ｅが幅方向Ｄ２に押し流した液滴の通過が阻害される。したがって、通過阻害部Ｅの本体部材４２３によって幅方向Ｄ２の外方に押し流された液滴などが、幅方向Ｄ２から回り込んで照射領域Ｋ１に流れ込むことができず、照射領域Ｋ１に液滴が存在する可能性が十分に低減される。

なお、基板９が傾斜姿勢で搬送される場合、補助阻害部Ｅｓは、照射領域Ｋ１に対して、基板９の傾斜方向の高端側の側方（高端縁Ｑ１の側の側方）に少なくとも配置されることが好ましい（図１１）。この構成によると、傾斜に沿って流れ落ちて照射領域Ｋ１に向かう液滴の通過が、補助阻害部Ｅｓによって阻害されるので、照射領域Ｋ１に液滴が存在する可能性を効果的に低減することができる。

以上のとおり、この変形例に係る液滴除去部４２ａは、基板９の搬送方向Ｄ１について照射領域Ｋ１よりも上流側の位置において、基板９との間に液滴よりも小さい離間距離を設けつつ配置された、通過阻害部Ｅ、を備え、通過阻害部Ｅが液滴の通過を阻害することによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。この構成によると、例えば流体を供給するための配管系統などが不要となるので、簡易な構成で、照射領域Ｋ１から液滴を除去することができる。

＜７．第２の変形例＞
第２の変形例に係るセンサユニット４ｂについて、図１２を参照しながら説明する。図１２は、センサユニット４ｂを搬送方向Ｄ１の一方側から見た側面図である。

センサユニット４ｂは、上記の実施形態に係るセンサユニット４と同様、搬送される基板９を検知するためのユニットであり、センサ部４１と、液滴除去部４２ｂと、を備える。センサ部４１の構成は、上記の実施形態において説明したとおりである。

（液滴除去部４２ｂ）
液滴除去部４２ｂは、上記の実施形態に係る液滴除去部４２と同様、センサ部４１と対応付けて設けられて、対応するセンサ部４１の投光部４１１から投光された検知光が照射される領域（照射領域Ｋ１）の液滴を、局所的に除去する。

この実施形態に係る液滴除去部４２ｂは、基板９を傾斜姿勢とする傾斜形成部Ｆを備えており、この傾斜によって液滴を流すことによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。

傾斜形成部Ｆとして、具体的には例えば、基板９を傾斜姿勢で搬送する傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄを利用することができる。あるいは、傾斜機構３３が設けられたローラ搬送機構２１，３１を、傾斜形成部Ｆとして利用することもできる。すなわち、傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄ、あるいは、傾斜機構３３が設けられたローラ搬送機構２１，３１は、いずれも、複数のローラ軸２１１，３１１（ひいては、ローラ２１２，３１２上に支持された基板９）を、幅方向Ｄ２に傾斜した傾斜姿勢とすることが可能であり、これらを、傾斜形成部Ｆとして利用することができる。

基板９が、幅方向Ｄ２に傾斜した傾斜姿勢とされると、基板９の下面に存在している液滴が、幅方向Ｄ２について相対的に高い位置にある側の端縁（高端縁）Ｑ１から、相対的に低い位置にある側の端縁（低端縁）Ｑ２に向けて、幅方向Ｄ２に沿って基板９を横断するように流れ落ちる。液滴除去部４２ｂは、このような液滴の流れを利用して、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。すなわち、液滴除去部４２ｂは、基板９の傾斜によって、液滴を相対的に低い位置に流すことによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。

当然のことながら、この液滴除去部４２ｂにおける液滴の除去効果は、傾斜形成部Ｆが形成する傾斜の高端側ほど（すなわち、高端縁Ｑ１に近いほど）、高くなる。したがって、この液滴除去部４２ｂと対応付けられるセンサ部４１の配設位置は、高端縁Ｑ１に近いほど好ましい。十分な液滴の除去効果を得るためには、センサ部４１の配設位置は、幅方向Ｄ２について基板９の中央よりも高端縁Ｑ１の側であることが好ましく、幅方向Ｄ２について基板９を３等分割したときに、最も高端縁Ｑ１の側にある分割領域内であることが特に好ましい。

例えば、上記の実施形態において、洗浄装置１１の第２液処理部２ｃに、搬送部として傾斜ローラ搬送機構２１ｄが設けられる場合、該傾斜ローラ搬送機構２１ｄを傾斜形成部Ｆとして利用して、液滴除去部４２ｂを実現することができる。同様に、現像装置１５の第２液処理部３ｃおよび第３液処理部３ｄに設けられている傾斜ローラ搬送機構３１ｄを傾斜形成部Ｆとして利用して、液滴除去部４２ｂを実現することができる。これらの場合、傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄは、液処理に係る処理効率を高める役割と、センサ部４１の照射領域Ｋ１から液滴を除去する役割とを担うことになる。

以上のとおり、この変形例に係る液滴除去部４２ｂは、基板９を傾斜姿勢とする傾斜形成部Ｆ、を備え、傾斜によって液滴を流すことによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去する。この構成によると、傾斜を利用して液滴を除去するので、大きな液滴をむらなく除去することができる。

＜８．他の変形例＞
上記の実施形態において、液滴除去部４２の吐出部Ｄ（具体的には、ノズル４２１）から吐出される流体は、液体であってもよいし、気体であってもよいし、液体と気体の両方であってもよい。例えば、ノズル４２１から吐出される流体を、所定の気体（例えば、乾燥空気、清浄な空気、窒素ガス、など）とする場合、流体供給部４２２ｃは、図１３に示されるように、ノズル４２１と所定のガスの供給ラインＬ２とを接続する供給管４２２１ｃ、供給管４２２１ｃに介挿されたバルブ４２２２ｃ、などを含んで構成される。このような構成において、バルブ４２２２ｃが開状態とされると、供給管４２２１ｃを通じてノズル４２１に所定の気体が供給され、ノズル４２１から所定の気体が吐出される。

吐出部Ｄから吐出される流体は、センサユニット４が設けられている箇所において基板９に対して行われている処理に影響を与えにくいものであることが好ましい。例えば、吐出部Ｄから吐出される流体が液体である場合、該センサユニット４が設けられている箇所（あるいは、その直近の上流側）で行われる処理で用いられている液体と同じ種類の液体が、吐出されることが好ましい。例えば、洗浄装置１１の第２液処理部２ｃに設けられるセンサユニット４、および、現像装置１５の第２液処理部３ｃおよび第３液処理部３ｄの各々に設けられるセンサユニット４の場合、各液処理部２ｂ，３ｃ，３ｄで行われる処理で用いられる液体は純水であるので、吐出部Ｄから吐出される流体も純水であることが好ましい。また、吐出部Ｄから吐出される流体が気体である場合、該気体は、処理に影響を与えにくい気体（例えば、清浄な空気、乾燥空気、窒素などの不活性ガス、など）であることが好ましい。

ただし、例えば洗浄装置１１において、純水供給ラインＬ１には、供給管４２２１以外の他の供給管（例えば、第２液処理部２ｃのノズル２６ａ，２６ｂに洗浄液としての純水を供給するための供給管２５２、など）も接続される。ここで、他の供給管と接続されたノズル（例えば、第２液処理部２ｃのノズル２６ａ，２６ｂ）に純水を供給するべき時間帯と、液滴除去部４２のノズル４２１に純水を供給するべき時間帯（すなわち、搬送される基板９を検知するべき時間帯）とは、必ずしも常に一致するとは限らない。したがって、液滴除去部４２のノズル４２１が接続される供給管４２２１は、他の供給管とは独立した配管系統により構成することが好ましい。現像装置１５においても同様である。また、所定のガスの供給ラインＬ２と接続される供給管４２２１ｃにおいても同様である。

また、吐出部Ｄから吐出される流体は、その温度が、基板９の温度と同程度となるように温度調整されたものであってもよい。具体的には例えば、吐出部Ｄと接続されてここに流体を供給する供給管４２２１，４２２１ｃに、温度調整部（加熱部あるいは冷却部）を介挿し、供給管４２２１，４２２１ｃを流れる流体の温度を調整（加熱あるいは冷却）することで、基板９と同程度の温度に温度調整された流体が基板９に吐出されるようにしてもよい。このような構成によると、流体が供給されることによって、基板９の温度が局所的に高く（あるいは低く）なってしてしまう（すなわち、基板９の面内における温度の均一性が損なわれる）といった事態の発生を抑制することができる。

上記の実施形態において、照射領域Ｋ１が吐出領域Ｋ２０からずれた位置とされることは必須の要件ではない。上記のとおり、吐出領域Ｋ２０では波面に乱れが生じている可能性があるが、この乱れの大きさ（振幅）は、液滴の大きさに比べると格段に小さいため、少なくとも液滴が除去されることで、センサ部４１が誤検知を生じる可能性が低減される。

上記の実施形態および上記の各変形例は、互いに組み合わされてもよい。

図１４には、上記の実施形態に係る液滴除去部４２と、第２の変形例に係る液滴除去部４２ｂとが組み合わされてなる液滴除去部４２ｄを備えるセンサユニット４ｄが示されている。すなわち、この液滴除去部４２ｄは、基板９を傾斜姿勢とする傾斜形成部Ｆ（図の例では、傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄを利用して構成される傾斜形成部Ｆ）と、傾斜姿勢の基板９に向けて所定の流体を吐出する吐出部Ｄと、を備えている。

この場合も、センサ部４１の配設位置は、高端縁Ｑ１に近いほど好ましい。具体的には、センサ部４１の配設位置は、幅方向Ｄ２について基板９の中央よりも高端縁Ｑ１の側であることが好ましく、幅方向Ｄ２について基板９を３等分割したときに、最も高端縁Ｑ１の側にある分割領域内であることが特に好ましい。また、この場合、吐出部Ｄのノズル４２１は、センサ部４１に対して、基板９の傾斜方向の高端側（高端縁Ｑ１の側）に配置されて、該傾斜方向の高端側から低端側に向かう方向に流体を吐出することが好ましい。

この液滴除去部４２ｄによると、傾斜形成部Ｆが形成する傾斜によって形成される液滴の流れによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去するとともに、吐出部Ｄから吐出された流体で液滴を押し流すことによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去することができる。このように、２つの異質な方策で液滴を除去することによって、照射領域Ｋ１に液滴が残存する可能性（ひいては、センサ部４１で誤検知が発生する可能性）を、十分に低いものとすることができる。

図１５には、第１の変形例に係る液滴除去部４２ａと、第２の変形例に係る液滴除去部４２ｂとが組み合わされてなる液滴除去部４２ｅを備えるセンサユニット４ｅが示されている。すなわち、この液滴除去部４２ｅは、基板９を傾斜姿勢とする傾斜形成部Ｆ（図の例では、傾斜ローラ搬送機構２１ｄ，３１ｄを利用して構成される傾斜形成部Ｆ）と、基板９の下面に存在している液滴の通過を阻害する通過阻害部Ｅと、を備えている。

この場合も、センサ部４１の配設位置は、高端縁Ｑ１に近いほど好ましい。具体的には、センサ部４１の配設位置は、幅方向Ｄ２について基板９の中央よりも高端縁Ｑ１の側であることが好ましく、幅方向Ｄ２について基板９を３等分割したときに、最も高端縁Ｑ１の側にある分割領域内であることが特に好ましい。

この液滴除去部４２ｅによると、傾斜形成部Ｆが形成する傾斜によって形成される液滴の流れによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去するとともに、通過阻害部Ｅによって基板９の下面に存在している液滴の通過を阻害することによって、照射領域Ｋ１から液滴を除去することができる。ここでも、２つの異質な方策で液滴を除去することによって、照射領域Ｋ１に液滴が残存する可能性（ひいては、センサ部４１で誤検知が発生する可能性）を、十分に低いものとすることができる。

なお、このような構成においても、通過阻害部Ｅの近傍に、補助阻害部Ｅｓが設けられてよい。補助阻害部Ｅｓは、幅方向Ｄ２について照射領域Ｋ１の両側にそれぞれ設けられてもよいし、片側のみに設けられてもよい。例えば、図１５に例示されるように、センサ部４１が、高端縁Ｑ１に十分に近い位置に配置されており、通過阻害部Ｅの幅方向Ｄ２の一方の端部が高端縁Ｑ１と十分に近接している場合、幅方向Ｄ２について照射領域Ｋ１よりも低端縁Ｑ２の側の側方に、補助阻害部Ｅｓを設ければよい。もっとも、補助阻害部Ｅｓは必須ではなく、これが省略されてもよい。

上記の実施形態におけるセンサユニット４の配設位置はあくまで例示であり、上記の実施形態において例示した配設位置の全てにセンサユニット４が設けられる必要はない。また、上記の実施形態において例示した配設位置以外の位置に、センサユニット４が設けられてもよい。

上記の実施形態においては、制御部１０は、センサ部４１から送出される出力信号に基づいて基板９の有無を判定するものとしたが、センサ部４１から送出される出力信号は、制御部１０においてどのように用いられてもよい。

上記の実施形態では、センサ部４１は、投光部４１１と受光部４１２が検知対象物である基板９に対して同じ側に配設されて、反射光に基づいて検知を行うもの（反射型センサ）であるとしたが、センサ部４１は、投光部４１１と受光部４１２が検知対象物である基板９に対して異なる側に配置されて、透過光に基づいて検知を行うもの（透過型センサ）であってもよい。透過型センサは、反射型センサに比べると、液滴によって誤検知が引き起こされる確率は低いものの、その確率はゼロではない。したがって、センサ部４１が、透過型センサにより構成される場合も、液滴除去部４２で照射領域Ｋ１の液滴を除去することが有効である。

上記の実施形態において、ローラ搬送機構２１，３１は、複数の円盤状のローラ２１２，３１２が、ローラ軸２１１，３１１に固定された構成であるとしたが、ローラ搬送機構２１，３１の構成はこれに限らない。例えば、１個または複数の円柱状のローラが、ローラ軸２１１，３１１に固定された構成であってもよい。また例えば、ローラ軸２１１，３１１が回転不能に固定されて、ローラ軸２１１，３１１に対してローラ２１２，３１２が回転駆動される構成であってもよい。

上記の実施形態において、処理対象とされる基板９は、各種のガラス基板（例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のガラス基板、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用のガラス基板、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）用のガラス基板、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）用のガラス基板、太陽電池パネル用のガラス基板、光ディスク用のガラス基板、磁気ディスク用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、など）であってもよい。また、処理対象とされる基板は、各種のセラミック基板（例えば、磁気／光ディスク用のセラミック基板）、半導体基板（半導体ウェハ）、電子デバイス基板、印刷用の印刷版、などであってもよい。

上記の実施形態に係るセンサユニット４は、基板９に各種の液体（例えば、洗浄液、エッチング液、現像液、レジスト等を剥離するための剥離液、リンス液、など）を供給して基板９を処理する様々な基板処理装置において、基板９を検知するためのセンサとして搭載することができる。さらにいえば、液体が付着する可能性がある物体を非接触で検知するためのセンサとして幅広く用いることもできる。

以上のように、基板処理装置および基板検知方法は詳細に説明されたが、上記の説明は、全ての局面において例示であって、基板処理装置および基板検知方法がこれ限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記の各実施形態、および、上記の各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。

１ 基板処理システム
１１ 洗浄装置
２ｃ 第２液処理部
２１ ローラ搬送機構
２１ｄ 傾斜ローラ搬送機構
１５ 現像装置
３ａ 第１液処理部
３ｃ 第２液処理部
３ｄ 第３液処理部ａ
３１ ローラ搬送機構
３１ｄ 傾斜ローラ搬送機構
４ センサユニット
４１ 検知部
４１１ 投光部
４１２ 受光部
４２，４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｅ 液滴除去部
Ｄ 吐出部
４２１ ノズル
４２２ 流体供給部
Ｅ 通過阻害部
４２３ 本体部材
４２４ 支持部材
Ｅｓ 補助阻害部
Ｆ 傾斜形成部
Ｄ１ 搬送方向
Ｄ２ 幅方向

Claims (8)

1. 基板を搬送する搬送部と、
   前記搬送部によって搬送される基板に液体を供給する液処理部と、
   前記液処理部に設けられ、前記液体が供給されている基板を検知するセンサユニットと、
   を備え、
   前記センサユニットが、
   基板の下面に向けて検知光を投光する投光部と、前記投光部から投光された前記検知光を受光する受光部と、を備えるセンサ部と、
   前記センサ部と対応付けて設けられて、該対応する前記センサ部の前記投光部から投光された前記検知光が照射される照射領域の液滴を局所的に除去する液滴除去部と、
   を備え、
   前記液滴除去部が、前記基板に向けて流体を吐出する吐出部を備え、前記吐出部から吐出された流体で液滴を押し流すことによって、前記照射領域から液滴を除去し、
   前記液滴除去部によって液滴が除去される範囲が、前記基板の搬送方向と交差する方向について、前記基板の全体ではなく一部である、
   基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置であって、
   前記液処理部が、前記搬送部によって搬送される基板の前記下面に液体を供給する、
   基板処理装置。
3. 請求項１または２に記載の基板処理装置であって、
   前記照射領域が、前記基板における前記吐出部から吐出された流体が到達する吐出領域からずれた位置である、
   基板処理装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記吐出部が、
   前記基板の搬送方向について前記センサ部よりも上流側に配置されて、前記搬送方向の上流側から下流側に向けて流体を吐出する、
   基板処理装置。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記搬送部が、基板を傾斜姿勢で搬送し、
   前記吐出部が、前記センサ部に対して、前記基板の傾斜方向の高端側に配置されて、前記傾斜方向の高端側から低端側に向かう方向に流体を吐出する、
   基板処理装置。
6. 請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記吐出部から吐出される流体が、液体である、
   基板処理装置。
7. 請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記吐出部から吐出される流体が、気体である、
   基板処理装置。
8. 液処理部において搬送されつつ液体を供給される基板を検知する基板検知方法であって、
   前記液処理部で、前記基板の下面における検知光が照射される照射領域の液滴を局所的に除去する液滴除去工程と、
   前記液処理部で、前記照射領域に向けて投光された検知光を受光することによって前記基板を検知する検知工程と、
   を備え、
   前記液滴除去工程において、前記基板に向けて流体を吐出する吐出部から吐出された流体で液滴を押し流すことによって、前記照射領域から液滴を除去し、
   前記液滴除去工程において液滴が除去される範囲が、前記基板の搬送方向と交差する方向について、前記基板の全体ではなく一部である、
   基板検知方法。