JP7709502B2 - 超純水製造方法及び超純水製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、超純水製造方法及び超純水製造装置に関する。

半導体等製造設備に対して超純水を供給する超純水製造装置において、原水として上水と、半導体等製造で使用した超純水の排水（回収水という場合もある。）とを利用する技術が開示されている（特許文献１－７参照）。

一般的に回収水は、元は超純水であり、これに、半導体製造の際に利用される物質、例えば、酸、アルカリ、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、界面活性剤、ＣＭＰ研磨剤などが混合したものである。したがって、比較的成分が明らかであり、これを処理して、原水と混合して利用することは比較的容易である。

特開平６－２３３９９７号公報 特開平７－３１３９９４号公報 特開平１０－２７２４６５号公報 特開平１１－２２６５６９号公報 特開２０００－１８９７６０号公報 特開２００６－６１７７９号公報 特開２０１３－２０２５８７号公報

しかしながら、半導体等製造には多くの超純水が使用されるため、超純水の製造に使用される上水の量も多くなっている。上水の供給量には限りがあるため、他の用途で上水が不足しないよう、超純水製造において上水の使用量を少なくするための対策が求められている。また、上記回収水の利用も限界があるため、原水の利用を減らす効果はあるものの、現在の半導体等製造工場の大型化へ十分に対応できるわけではない。
また、現在の環境問題や気候変動問題が生じてきたことにより、上水の供給も不安定な傾向となりつつあり、新たな原水源を確保する必要が生じてきた。

新たな原水源として、河川と海の境界領域に存在する汽水が考えられる。汽水には海水に含まれるホウ素が混ざり、その水質は潮流の影響で大きく変動する。しかしながら、従来の超純水製造装置では、このような汽水からホウ素を十分に除去することが難しかった。
汽水からホウ素を除去するための設備を設ける場合、設備の性能をホウ素濃度の高い海水に合わせると、汽水に対しては設備が過剰となり、超純水製造のコストが増加する。一方、当該設備の性能をホウ素濃度の低い河川水に合わせると、汽水のホウ素濃度が海水レベルに増加した場合に対応できないため、原水を安定供給できなくなり、その結果半導体製造用の超純水の安定供給が困難となる。半導体等製造プロセスは年単位で運転継続をすることが多く、超純水の安定供給は年単位で必要不可欠である。したがって、汽水を半導体等製造用の超純水の原水として利用することは、一般的ではなかった。

本発明は、超純水製造に使用される原水として汽水を利用可能にすることを目的とする。

第１の態様に係る超純水製造方法は、汽水を含む原水の懸濁物質を除去して前処理水を得る前処理と、前記前処理水中の全有機炭素成分やイオン成分を除去して１次純水を製造する１次処理と、前記１次純水中の不純物を除去して超純水を製造する２次処理と、を有し、汽水のホウ素濃度が、前記超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整する。

この超純水製造方法では、汽水のホウ素濃度が、超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整するので、原水として汽水を利用することができる。原水として汽水と上水を用いる場合には、原水として上水のみを使用する場合と比較して上水の使用量を抑制できる。

第２の態様は、第１の態様に係る超純水製造方法において、汽水のホウ素濃度が前記許容値を上回る場合に、前記前処理の前に汽水に含まれるホウ素を除去する予備処理を行う。

この超純水製造方法では、汽水のホウ素濃度が許容値を上回る場合に、前処理の更に前の予備処理により汽水に含まれるホウ素を除去することで、汽水のホウ素濃度を許容値以下に下げることができる。またこれによって、超純水製造の原水として汽水を利用することができる。

第３の態様は、第２の態様に係る超純水製造方法において、前記予備処理は、常時行われる１次予備処理と、汽水のホウ素濃度が所定値を超える場合に行われる２次予備処理とを有する。

この超純水製造方法では、１次予備処理のみを用いる場合と、１次予備処理及び２次予備処理を用いる場合を切り換えることで、潮流による汽水のホウ素濃度の変化に柔軟に対応することができる。またこれによって、運用コストを抑制できる。

第４の態様に係る超純水製造装置は、汽水を含む原水の懸濁物質を除去して前処理水を得る前処理装置と、前記前処理水中の全有機炭素成分やイオン成分を除去して１次純水を製造する１次純水装置と、前記１次純水中の不純物を除去して超純水を製造する２次純水装置と、汽水のホウ素濃度を測定する計測部と、を有し、汽水のホウ素濃度が、前記超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整する。

この超純水製造装置では、汽水のホウ素濃度が、超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整するので、原水として汽水を利用することができる。原水として汽水と上水を用いる場合には、原水として上水のみを使用する場合と比較して上水の使用量を抑制できる。

第５の態様は、第４の態様に係る超純水製造装置において、汽水からホウ素を除去する予備処理装置を備える。

この超純水製造装置では、汽水のホウ素濃度が許容値を上回る場合に、前処理の更に前の予備処理により汽水に含まれるホウ素を除去することで、汽水のホウ素濃度を許容値以下に下げることができる。またこれによって、超純水製造の原水として汽水を利用することができる。

第６の態様は、第５の態様に係る超純水製造装置において、前記予備処理装置は、常時使用される１次予備処理装置と、汽水のホウ素濃度が所定値を超える場合に行われる２次予備処理装置とを有する。

この超純水製造装置では、１次予備処理装置のみを用いる場合と、１次予備処理及び２次予備処理装置を用いる場合を切り換えることで、潮流による汽水のホウ素濃度の変化に柔軟に対応することができる。またこれによって、運用コストを抑制できる。

本発明によれば、超純水製造に使用される原水として汽水を利用可能にすることができる。

第１実施形態に係る超純水製造装置の概要を示すブロック図である。 河口から６ｋｍの位置における、時間経過による汽水のホウ素濃度の変化の例を示す線図である。 第２実施形態に係る超純水製造装置の概要を示すブロック図である。 河口から４ｋｍの位置における、時間経過による汽水のホウ素濃度の変化の例を示す線図である。 第３実施形態に係る超純水製造装置の概要を示すブロック図である。 河口から２ｋｍの位置における、時間経過による汽水のホウ素濃度の変化の例を示す線図である。

以下、本発明を実施するための形態を図面に基づき説明する。各図面において同一の符号を用いて示される構成要素は、同一又は同様の構成要素であることを意味する。なお、以下に説明する実施形態において重複する説明及び符号については、省略する場合がある。また、以下の説明において用いられる図面は、いずれも模式的なものであり、図面に示される、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。また、複数の図面の相互間においても、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は必ずしも一致していない。

以下、本発明を実施するための形態を図面に基づき説明する。

図１において、本実施形態に係る超純水製造装置１００は、河川と海の境界領域に存在する汽水を受け入れて超純水を製造することができる。この超純水製造装置１００は、前処理装置１０と、１次純水装置１１と、２次純水装置１２と、計側部３０とを有している。ここで、汽水とは、潮流の影響で、水質濃度が定期的に変動する河川水、特に、高濃度時と低濃度時の濃度の比が２倍以上、もしくは、４倍以上ある河川水をいう。

前処理装置１０は、汽水２４を含む原水の懸濁物質を除去して前処理水を得る装置である。一例として、ろ過砂等のメディアを充てんした砂濾過等やＭＭＦ（マルチメディアフィルター塔)などの充填槽濾過塔、ＭＦ（マイクロフィルター）やＵＦ（限外ろ過膜）などのフィルターを用いた膜ろ過装置、および／もしくは、粒状活性炭塔等によって、原水中の残留塩素や大きなゴミなどの不純物をろ過する。市水など１４は、市水、工業用水、井水、回収水である。市水は、河川水、湖水及び井水等である自然水を上水処理場において凝集沈殿工程、ろ過工程経て得られる、所謂水道水である。市水のホウ素濃度は、例えば４０ｕｇ／Ｌ（導電率２００ｕＳ／ｃｍ）以下である。工業用水、井水、回収水は、概ね市水と同様の水質である。市水など１４は原水として、原水槽である例えばＰＩＴ２０に貯められて超純水製造に使用される。

１次純水装置１１は、前処理水中の全有機炭素（ＴＯＣ）成分やイオン成分を除去して１次純水を製造する装置である。一例として、半透膜を用いて前処理水を逆浸透させる逆浸透膜装置、イオン交換樹脂を充てんしたイオン交換樹脂装置や電気脱イオン装置（ＥＤＩ）、有機物を分解する紫外線照射装置、溶存ガスを脱気する脱気膜装置などを組み合わせて１次純水を精製する。１次純水装置１１は、必要に応じ、例えば、高圧逆浸透膜装置、次亜臭素酸等の添加で尿素分解する酸化反応槽などの尿素分解装置を設置してもよい。なお、イオン交換樹脂装置は、陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂を、単床、複床、混床のいずれかの方式で充填したものであるが、必要に応じ、ホウ素選択性イオン交換樹脂を含んでもよい。イオン交換樹脂装置として、ホウ素選択性イオン交換樹脂装置を単独で設置してもよい。製造された１次純水は純水タンク２２に供給される。

２次純水装置１２は、１次純水中の不純物をさらに除去して超純水を製造する装置であり、例えば、１次純水中に微量に含まれる無機イオンを、例えば、非再生型イオン交換塔（ポリッシャー）によって除去する。さらに、紫外線照射装置、過酸化水素分解装置、脱気装置等が組み合わせられている。２次純水装置１２の末端には限外ろ過膜が設置され、微粒子が除去される。製造された超純水は、ＰＯＵ（Ｐｏｉｎｔ Ｏｆ Ｕｓｅ：使用場所）１９に供給され、半導体製造等に利用され、一部は、循環ライン２８によって、純水タンク２２に循環される。

計側部３０は、汽水２４のホウ素濃度を測定するための、例えばホウ素計又は導電率計である。ホウ素計の測定対象液は、汽水２４に限定されず、予備処理装置１３で処理された汽水、２次純水装置１２で得られた超純水、その他超純水製造装置１００の各途中工程で得られる液を測定対象液とすることが可能である。
予備処理装置１３を経た汽水のホウ素濃度を測定するため、予備処理装置１３の下流側に、ホウ素計３１が設けられていてもよい。

汽水２４のホウ素濃度が、超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整するため、本実施形態は、汽水２４からホウ素を除去する予備処理装置１３をさらに備えていてもよい。ＰＯＵ１９において超純水に求められるホウ素濃度は、例えば０．５μｇ／Ｌである。ここから予備処理装置１３のホウ素除去性能を考慮して算出される許容値は、予備処理装置１３に入る前の状態で例えば１００μｇ／Ｌである。

本実施形態が想定する汽水２４は、例えば河口から６ｋｍ程度上流の位置から取水される河川水である。図２には、当該位置における時間経過による汽水のホウ素濃度の変化の例が示されている。潮位変化により２４時間に２回、汽水のホウ素濃度が１００μｇ／Ｌを超えて上昇する。また、ホウ素濃度の変化と同期するように、汽水の導電率が上昇する。ホウ素濃度１００μｇ／Ｌに対応する導電率は、８００μＳ／ｃｍである。以下では、ホウ素濃度を基準とする。本実施形態では、ホウ素濃度が１００μｇ／Ｌを超える場合に予備処理装置１３を使用することで、汽水のホウ素濃度を１００μｇ／Ｌ以下に低下させる。予備処理装置１３としては、ホウ素除去手段を備えていることが好ましい。予備処理装置１３としては、具体的には例えば次のような手段を用いることができる。

１）高圧逆浸透膜装置（高圧ＲＯ）
２）（ＲＯ）－ホウ素選択性イオン交換樹脂装置
３）高圧ＲＯ－ホウ素選択性イオン交換樹脂装置
４）ＲＯ－アルカリ添加－ＲＯ
５）ＲＯ－イオン交換樹脂（アニオン交換樹脂）装置
６）２Ｂ３Ｔ装置（カチオン塔－ＤＧ－アニオン樹脂塔）

１の手段では、ホウ素除去率はやや低いものの、ホウ素を含むすべての物質を除去可能である。高圧ＲＯは、高圧逆浸透膜装置を示す。高圧ＲＯはホウ素の除去率が高いためホウ素除去手段となり得る。高圧ＲＯとしては、既存の高圧ＲＯが使用可能であり、具体的には、ＳＷＣシリーズ(ＨＹＤＥＡＮＡＵＴＩＣＳ社製)、ＴＭ８００シリーズ（東レ社製）、ＳＷシリーズ(ダウケミカル社製)等が例示される。

２の手段では、ホウ素選択性イオン交換樹脂装置がホウ素のみを除去する装置であるため、補完的にＲＯを用いることが望ましい。「（ＲＯ）」のようにかっこ書きとされているのは、ＲＯを使用しない場合もあり得ることを意味する。ホウ素選択性イオン交換樹脂は、ｎ－メチルグルカミン基をもつイオン交換樹脂であり、例えば、ＣＲＢ０２、ＣＲＢ０３，ＣＲＢ０５（三菱化学株式会社製）アンバーライトＩＲＡ７４３（登録商標；ロームアンドハース社）などが例示される。ホウ素選択性イオン交換樹脂は、塩濃度の高低に関係なく、選択的にホウ素を吸着するので、塩濃度の高低に関係なくホウ素の除去処理可能であり、好適に予備処理装置として機能する。

図２の１００ｕｇ／Ｌを超える水質の場合の水質×時間の積算値に応じて、ホウ素樹脂量（ＢＴＣ：貫流交換容量）を決定しておく。ホウ素樹脂は通水終了後再生する。ホウ素樹脂量が山２つ分の容量なら、例えば１日に１回再生すればよい。なお、１～２０日に１回再生するように、ホウ素樹脂量を決めることが好ましい。

また、ホウ素選択性イオン交換樹脂の代わりに、無機系のホウ素吸着剤を使うことも可能である。具体的には、ＲＥＡＤ－Ｂ（株式会社日本海水製）等のセリウム系吸着剤などがある。以下ホウ素選択性イオン交換樹脂の記載は、無機系のホウ素吸着剤も含まれるものとする。

ＲＯは、超低圧ＲＯと低圧ＲＯを示す。いずれも既存のＲＯが適用可能である。これらのＲＯは、ホウ素除去性能は低いものの、一般的な塩や濁質分等の除去能力は高い。したがって、２の手段においては、後段のホウ素選択性イオン交換樹脂装置の機能を低下させるような物質を除去する予備処理装置として機能する。

３の手段では、高圧ＲＯを用いている。この場合、汽水２４のホウ素濃度が５００μｇ／Ｌを超えたら、汽水２４をクーリングタワー３４へ供給し、クーリングタワー用水として利用すればよい。ホウ素選択性イオン交換樹脂装置の樹脂量や再生については、２の手段と同様である。

４の手段では、アルカリ添加により後段のＲＯのホウ素除去率を高めることができる。すなわち、４の手段ではアルカリ添加＋ＲＯがホウ素除去手段として機能する。ＲＯは２の手段と同等のものが適用可能である。

５の手段において、一般的にホウ素はアニオン交換樹脂をすぐに破過するが、短期間なら十分機能する。すなわち、５の手段においては、アニオン交換樹脂がホウ素除去手段として機能する。アニオン交換樹脂の再生は、アルカリのみで実施可能であるため、運用が容易であるため、本願のような予備処理装置としては好適に用いることが可能である。ＲＯは２の手段と同等のものが適用可能である。

６の手段では、樹脂塔が用いられるので、ＲＯのような詰まりがなく、すべての物質を除去可能である。２Ｂ３Ｔとは、カチオン樹脂塔、脱気塔、アニオン樹脂塔の３つを順に備えた装置である。すなわち、６の手段においては、アニオン交換樹脂がホウ素除去手段として機能する。なお、この手段は、すべてのイオンを除去するため、５に比べ再生頻度が多くなる可能性があるが、予備処理装置の運転が必要な時間は短いため、予備処理装置が機能しなくなるほどの再生頻度にはならないため、予備処理装置として利用が可能となる。

１～６のいずれの手段において、ホウ素等の除去性能には限界があるので、それぞれの性能に応じ、クーリングタワー３４への切り替え水質を設定することができる。

原水のホウ素濃度を調整する方法として、市水など１４と汽水２４の配合比の変更や、ＰＩＴ２０の大型化も考えられる。汽水２４のホウ素濃度が低ければ、市水１４の割合を増やすことで、ホウ素濃度を許容値に収めることができる。市水など１４と汽水２４の配合比の変更で対応できるのはホウ素濃度が低い場合であるが、ホウ素濃度の調整のためのホウ素選択性イオン交換樹脂装置等の特別な装置は不要となる。

また、ＰＩＴ２０が大型であれば、汽水のホウ素濃度が許容値を上回る時間帯に汽水２４の取水を止め、ＰＩＴ２０に貯められているホウ素濃度の低い原水を消費しながら超純水製造を行うことができる。ホウ素濃度が許容値以下となる時間帯には汽水を取水することで、ＰＩＴ２０の貯水量を復活させることができる。この場合、原水として市水の利用を併用してもよい。また、ＰＩＴ２０の容量は、汽水の水質の変動の傾向、超純水の供給量、さらに市水の使用量等を考慮して決めればよい。

（作用）
本実施形態では、汽水を含む原水のホウ素濃度が、超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整するので、原水として汽水を利用することができる。原水として汽水と上水を用いる場合には、原水として上水のみを使用する場合と比較して上水の使用量を抑制できる。

また、汽水のホウ素濃度が許容値を上回る場合に、前処理の更に前の予備処理により汽水に含まれるホウ素を除去することで、汽水のホウ素濃度を許容値以下に下げることができる。またこれによって、超純水製造の原水として汽水を利用することができる。

本実施形態によれば、超純水製造に使用される原水として汽水を利用可能にすることができる。

［第２実施形態］
本実施形態に係る超純水製造装置２００が想定する汽水２４は、例えば河口から４ｋｍ程度上流の位置から取水される河川水である。図４には、当該位置における時間経過による汽水のホウ素濃度の変化の例が示されている。図２の場合よりも取水位置が河口に近いため汽水のホウ素濃度が１００μｇ／Ｌを下回ることがなく、また潮位変化により２４時間に２回、汽水のホウ素濃度が５００μｇ／Ｌを超えて上昇する。また、ホウ素濃度の変化と同期するように、汽水の導電率が上昇する。ホウ素濃度１００μｇ／Ｌに対応する導電率は、２７００μＳ／ｃｍである。

このようなホウ素濃度に対応するために、図３において、超純水製造装置２００は、予備処理装置として、常時使用される１次予備処理装置１３Ａと、汽水のホウ素濃度が所定値を超える場合に行われる２次予備処理装置１３Ｂとを有している。

１次予備処理装置１３Ａとして、高圧ＲＯを用いることができる。これは、第１実施形態の予備処理装置１３の「１）」と同様である。また、１次予備処理装置１３Ａとして、ＲＯ－アルカリ添加－低圧ＲＯを用いることもできる。これは、第１実施形態の予備処理装置１３の「４）」と同様である。

予備処理装置１３Ｂとして、例えばホウ素選択性イオン交換樹脂装置を用いることができる。これは、第１実施形態の予備処理装置１３の「２）」又は「３）」におけるホウ素選択性イオン交換樹脂装置と同様である。図４の５００ｕｇ／Ｌを超える水質の場合の水質×時間の積算値に応じて、ホウ素樹脂量を決定しておく。ホウ素樹脂は通水終了後に再生する。ホウ素樹脂量が山２つ分の容量なら、例えば１日に１回再生すればよい。なお、１～２０日に１回再生するように、ホウ素樹脂量を決めることが好ましい。

１次予備処理装置１３Ａを経た汽水のホウ素濃度を測定するため、１次予備処理装置１３Ａの下流側、かつ２次予備処理装置１３Ｂの上流側にホウ素計３１Ａを設けてもよい。また、２次予備処理装置１３Ｂを経た汽水のホウ素濃度を測定するため、２次予備処理装置１３Ｂの下流側に、ホウ素計３１Ｂを有していてもよい。

本実施形態では、汽水２４のホウ素濃度が５００ｕｇ／Ｌ以下の場合、常時使用される１次予備処理装置１３Ａによりホウ素の除去を行う。汽水２４のホウ素濃度が５００ｕｇ／Ｌを超え、５０００ｕｇ／Ｌ以下の場合、１次予備処理装置１３Ａを経た汽水２４をさらに２次予備処理装置１３Ｂへ供給し、該２次予備処理装置１３Ｂによりホウ素の除去を行う。

１次予備処理装置１３ＡがＲＯ－アルカリ添加－低圧ＲＯの場合、アルカリ添加にて低圧ＲＯをｐＨ１０．５にて運転する。この場合、汽水２４のホウ素濃度が５０００ｕｇ／Ｌを超えていたら、汽水２４をクーリングタワー３４へ供給し、クーリングタワー用水として利用すればよい。この場合、１次予備処理装置１３Ａは使用しない。

この超純水製造装置２００では、１次予備処理装置１３Ａのみを用いる場合と、１次予備処理装置１３Ａ及び２次予備処理装置１３Ｂを用いる場合を切り換えることで、潮流による汽水のホウ素濃度の変化に柔軟に対応することができる。またこれによって、運用コストを抑制できる。

他の部分については、第１実施形態と同様であるので、同一の部分には図面に同一の符号を付し、説明を省略する。

［第３実施形態］
本実施形態に係る超純水製造装置３００が想定する汽水２４は、例えば河口から２ｋｍ程度上流の位置から取水される河川水である。図６には、当該位置における時間経過による汽水のホウ素濃度の変化の例が示されている。図４の場合よりも取水位置が河口に近いため汽水のホウ素濃度が５００μｇ／Ｌを下回ることがなく、また潮位変化により２４時間に２回、汽水のホウ素濃度が２０００μｇ／Ｌを超えて上昇する。また、ホウ素濃度の変化と同期するように、汽水の導電率が上昇する。

このようなホウ素濃度に対応するために、図５において、超純水製造装置３００は、予備処理装置１３を有している。予備処理装置１３として、例えば、高圧ＲＯ－ホウ素選択性イオン交換樹脂装置を用いることができる。

また、予備処理装置１３として、超低圧ＲＯ－アルカリ添加－低圧ＲＯを用いることができる。この場合、アルカリ添加にて低圧ＲＯをｐＨ１０．５にて運転する。この場合、汽水２４のホウ素濃度が５０００ｕｇ／Ｌを超えていたら、汽水２４をクーリングタワー３４へ供給し、クーリングタワー用水として利用すればよい。この場合、予備処理装置１３は使用しない。

アニオン樹脂は継続的に除去率を維持できないため、アニオン交換樹脂塔や２Ｂ３Ｔ装置は予備処理装置１３には不向きである。

本実施形態では、予備処理装置１３は常に運転されているが、汽水の水質に応じて、低負荷時運転と高負荷時運転を切り替えて運用することが可能である。例えば、汽水２４のホウ素濃度が２０００ｕｇ／Ｌ以下の場合には、予備処理装置１３の低負荷時運転を行う。低負荷時運転のとき、予備処理装置１３が高圧ＲＯ－ホウ素選択性イオン交換樹脂装置の場合、ホウ素選択性イオン交換樹脂装置が例えば２塔あったら、１塔を運転して通水し、もう１塔を再生してもよい。または、この予備処理装置１３が２系統あったら、１系統のみ通水し、もう１系統において高圧ＲＯを洗浄してもよい。

汽水２４のホウ素濃度が２０００ｕｇ／Ｌを超え、５０００ｕｇ／Ｌ以下の場合には、予備処理装置１３の高負荷時運転を行い、ホウ素の除去を効率的に行う。

他の部分については、第１実施形態と同様であるので、同一の部分には図面に同一の符号を付し、説明を省略する。

［第３実施形態の比較例］
第３実施形態の予備処理装置１３を海水用とした場合には、予備処理装置１３は３系統必要になる。すなわち、常時運転する設備が２系統と、もう１系統、再生とスタンバイをする設備が必要になる。

第３実施形態と第３実施形態の比較例を比較すると、第３実施形態は必要な設備が１少なくて済む。また、第３実施形態では低負荷時運転時には１系統しか運転しないが、第３実施形態の比較例では常時２系統運転する。したがって、第３実施形態の方が設備の設置コストが低減され、かつ、運転コストも低減できることが明らかである。

［超純水製造方法］
本実施形態に係る超純水製造方法は、汽水を含む原水の懸濁物質を除去して前処理水を得る前処理と、前処理水中の全有機炭素成分やイオン成分を除去して１次純水を製造する１次処理と、１次純水中の不純物を除去して超純水を製造する２次処理と、を有し、汽水を含む原水のホウ素濃度が、超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整する。

ここで、汽水のホウ素濃度が許容値を上回る場合に、前処理の前に汽水に含まれるホウ素を除去する予備処理を行ってもよい。

また、予備処理は、常時行われる１次予備処理と、汽水のホウ素濃度が所定値を超える場合に行われる２次予備処理とを有していてもよい。

［他の実施形態］
以上、本発明の実施形態の一例について説明したが、本発明の実施形態は、上記に限定されるものでなく、上記以外にも、その主旨を逸脱しない範囲内において種々変形して実施可能であることは勿論である。

例えば、市水など１４を予備処理装置１３、１次予備処理装置１３Ａ、２次予備処理装置１３Ｂで処理するラインを設けてもよい。このようなラインを設置しておけば、万が一、例えば、大雨時などで河川水の水質が一時的に悪化して、市水などのホウ素濃度が一時的に増加した場合に対応することが可能である。

１０ 前処理装置
１１ １次純水装置
１２ ２次純水装置
１３ 予備処理装置
１３Ａ １次予備処理装置
１３Ｂ ２次予備処理装置
２４ 汽水
３０ 計側部
１００ 超純水製造装置
２００ 超純水製造装置
３００ 超純水製造装置

Claims (6)

1. 汽水を含む原水の懸濁物質を除去して前処理水を得る前処理と、
   前記前処理水中の全有機炭素成分やイオン成分を除去して１次純水を製造する１次処理と、
   前記１次純水中の不純物を除去して超純水を製造する２次処理と、を有し、
   前記原水における汽水の配合比の変更又は時間帯による汽水の取水停止を行うことで、前記原水のホウ素濃度が、前記超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整する超純水製造方法。
2. 汽水又は汽水を含む前記原水のホウ素濃度が前記許容値を上回る場合に、前記前処理の前に汽水又は汽水を含む前記原水に含まれるホウ素を除去する予備処理を行う、請求項１に記載の超純水製造方法。
3. 前記予備処理は、常時行われる１次予備処理と、汽水又は汽水を含む前記原水のホウ素濃度が所定値を超える場合に行われる２次予備処理とを有する、請求項２に記載の超純水製造方法。
4. 汽水を含む原水の懸濁物質を除去して前処理水を得る前処理装置と、
   前記前処理水中の全有機炭素成分やイオン成分を除去して１次純水を製造する１次純水装置と、
   前記１次純水中の不純物を除去して超純水を製造する２次純水装置と、
   汽水又は汽水を含む前記原水のホウ素濃度を測定する計測部と、を有し、
   前記原水における汽水の配合比の変更又は時間帯による汽水の取水停止を行うことで、前記原水のホウ素濃度が、前記超純水に求められるホウ素濃度より算出される許容値以下となるように調整する超純水製造装置。
5. 汽水又は汽水を含む前記原水からホウ素を除去する予備処理装置を備える、請求項４に記載の超純水製造装置。
6. 前記予備処理装置は、常時使用される１次予備処理装置と、汽水又は汽水を含む前記原水のホウ素濃度が所定値を超える場合に行われる２次予備処理装置とを有する、請求項５に記載の超純水製造装置。