JP7635625B2

JP7635625B2 - 容器、基板処理装置及び装置の運用方法

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Publication number: JP7635625B2
Application number: JP2021076538A
Authority: JP
Inventors: 剛平尾; 勝裕土屋; 博一稲田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2021-04-28
Filing date: 2021-04-28
Publication date: 2025-02-26
Anticipated expiration: 2041-04-28
Also published as: CN115248530A; KR20220148104A; JP2022170425A

Description

本開示は、容器、基板処理装置及び装置の運用方法に関する。

半導体デバイスの製造工程において、基板処理装置によって基板である半導体ウエハ（以下、ウエハと記載する）に対して、様々な処理液が供給される。特許文献１には処理液としてレジスト（フォトレジスト液）を基板に供給してスピンコーティングにより、レジスト膜を形成する基板処理装置（塗布装置）について記載されている。この塗布装置においては、レジストを貯留している貯留タンクと、供給ノズルと、貯留タンクと供給ノズルとを接続すると共にベローズポンプが介設される供給配管と、を備えている。

特開平１１－３５４４１９号公報

本開示は、複数の種類の処理液を使い分けて基板に処理を行うにあたり、処理の手間及び処理に付随する作業の手間を軽減することができる技術を提供する。

本開示の容器は、基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、
前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口と、
前記吐出口から前記処理液が吐出されるように前記貯留空間形成部の内部に位置して前記貯留空間を加圧する進入部が当該貯留空間形成部の内部に対して進入可能とする進入路を形成するために、前記貯留空間形成部に設けられる進入路形成部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記貯留空間形成部に対して着脱自在であり、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋が設けられ、
前記下蓋には、前記容器が配置される容器配置部に当該下蓋を着脱自在に係合させるための係合部が設けられる。
本開示の他の容器は、基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、
前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口と、
前記吐出口から前記処理液が吐出されるように前記貯留空間形成部の内部に位置して前記貯留空間を加圧する進入部が当該貯留空間形成部の内部に対して進入可能とする進入路を形成するために、前記貯留空間形成部に設けられる進入路形成部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記貯留空間形成部に対して着脱自在であり、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋が設けられ、
前記貯留空間形成部により囲まれる空間を前記進入路に臨む上方側空間と、前記貯留空間をなす下方側空間とに仕切る仕切り部材が設けられ、
前記仕切り部材には平面視で前記進入路と重ならない位置に、前記上方側空間と前記下方側空間とを連通させる貫通孔が設けられる。
本開示の他の容器は、基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、
前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口と、
前記吐出口から前記処理液が吐出されるように前記貯留空間形成部の内部に位置して前記貯留空間を加圧する進入部が当該貯留空間形成部の内部に対して進入可能とする進入路を形成するために、前記貯留空間形成部に設けられる進入路形成部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記貯留空間形成部に対して着脱自在であり、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋が設けられ、
前記貯留空間形成部は、前記吐出口が形成された容器本体と、当該容器本体に対して着脱自在で前記貯留空間形成部を備える上蓋と、を備える。

本開示によれば、複数の種類の処理液を使い分けて基板に処理を行うにあたり、処理の手間及び処理に付随する作業の手間を軽減することができる。

本開示の基板処理装置の一実施形態であるレジスト塗布装置の概略斜視図である。前記レジスト塗布装置の平面図である。前記レジスト塗布装置の概略側面図である。前記レジスト塗布装置に設けられる容器及び搬送部の斜視図である。前記レジスト塗布装置に設けられる容器の斜視図である。前記容器の縦断側面図である。前記搬送部及び容器の縦断側面図である。前記搬送部及び容器の縦断側面図である。前記搬送部を構成する爪部の横断平面図である。前記レジスト塗布装置に設けられる容器配置部の斜視図である。前記容器配置部の縦断側面図である。前記容器配置部の平面図である。前記容器の配置を説明するための概略平面図である。前記容器配置部への前記容器の装着手順を示す説明図である。前記容器配置部への前記容器の装着手順を示す説明図である。前記搬送部によって搬送される前記容器を構成する容器ノズルの側面図である。前記容器配置部を示す平面図である。前記容器配置部を示す平面図である。前記レジスト塗布装置によるウエハの処理手順を示す説明図である。前記レジスト塗布装置によるウエハの処理手順を示す説明図である。前記レジスト塗布装置によるウエハの処理手順を示す説明図である。前記レジスト塗布装置によるウエハの処理手順を示す説明図である。前記レジスト塗布装置によるウエハの処理手順を示す説明図である。

本開示の基板処理装置の一実施形態であるレジスト塗布装置１について、夫々概略斜視図、平面図、概略側面図である図１、図２、図３を参照して説明する。先ず、レジスト塗布装置１の構成の概要を述べると、レジスト塗布装置１は円形の基板であるウエハＷに処理液としてレジストを供給し、スピンコートによってレジスト膜を形成する。このレジスト塗布装置１は、カップ１１、容器２、搬送部６、容器配置部８及び基台１９を備えている。カップ１１は処理時にウエハＷを囲む。容器配置部８には多数の容器２が配置されており、例えば容器２毎に異なる種類のレジストが貯留されている。この容器２を構成している容器ノズル２０は、レジストを貯留するタンク且つノズルとして用いられる。

搬送部６は多数の容器２のうち、選択した１つの容器２の容器ノズル２０を保持してウエハＷ上の処理位置に搬送し、当該容器ノズル２０からウエハＷにレジストを吐出させる。搬送部６は、そのレジストの吐出及び吐出の停止を切替えられるように、容器ノズル２０内の加圧及び減圧を行うことができるように構成されている。なお、使用済みの容器ノズル２０は搬送部６により容器配置部８に戻され、順次、レジスト塗布装置１に搬送されるウエハＷに対し、当該ウエハＷのロットに応じたレジストを用いて処理を行うことができる。

以下、より具体的にレジスト塗布装置１の構成を説明する。基台１９の右側にカップ１１が、左側に容器配置部８が夫々設けられる。カップ１１内にはウエハＷの載置部をなすスピンチャック１２が設けられており、従って、容器配置部８とスピンチャック１２とは左右に並んで設けられる。基板の載置部であるスピンチャック１２は、載置されたウエハＷの裏面側中央部を吸着し、当該ウエハＷを水平な姿勢とする。スピンチャック１２は回転機構１３に接続されており、当該回転機構１３によって、スピンチャック１２と共にウエハＷが鉛直軸周りに回転する。

以降、カップ１１を右側、容器配置部８を左側に夫々見たときの手前側を前方、奥側を後方として説明する。基台１９の後方には、図示しない搬送機構によってウエハＷが搬送される搬送領域が形成されており、当該搬送機構によってウエハＷは搬送領域からカップ１１上に搬送される。そして、カップ１１内に設けられる図示しない昇降ピンにより、当該カップ１１上の搬送機構とスピンチャック１２との間でウエハＷが受け渡される。

このレジスト塗布装置１においては、上記したレジスト膜の形成後にウエハＷの周縁部の不要なレジスト膜が、溶剤によって除去される。カップ１１の右側には、当該溶剤の供給を行う周縁部用ノズル１４を待機させる待機部１５が設けられている。周縁部用ノズル１４は、前後に伸びるアーム１６の先端側に支持され、当該アーム１６の基端側は移動部１７に接続される。移動部１７は、カップ１１の後方側を左右に移動可能であると共にアーム１６を昇降させることができ、周縁部用ノズル１４はカップ状の待機部１５内と、溶剤の吐出を行うウエハＷの周縁部上との間を移動可能である。

以下、上記の容器２について図４、図５の斜視図及び図６の縦断側面図を参照して説明する。容器２は概ね縦長の円筒形であり、容器本体２１、下蓋３１、上蓋４１及び仕切り部材５１により構成されており、上記の容器ノズル２０は、容器本体２１、上蓋４１及び仕切り部材５１により構成されている。容器本体２１に対して、下蓋３１、上蓋４１、仕切り部材５１の各々が着脱自在であり、図４では下蓋３１が装着された状態を、図５では下蓋３１が外された状態を夫々示している。容器２を構成する上記の各部材は平面視同軸の円形部材であり、例えば樹脂により構成されている。

以下、容器２を構成する部材毎に説明する。先ず容器本体２１について説明すると、容器本体２１は円筒部２２を備えている。容器２は使用される際に当該円筒部２２の軸が垂直（鉛直）な状態とされる。以下の容器２の各部の説明は、そのように円筒部２２の軸が垂直な状態であるものとして説明する。容器本体２１における円筒部２２よりも下方側の部位は、漏斗状に構成されている。具体的に説明すると、円筒部２２の下側の周壁が下方へ向うにつれて当該円筒部２２の中心軸へと向うように伸びることで傾斜壁２３として形成されている。この傾斜壁２３の下端部は若干垂直下方に引き出されるように伸びて先端部２４をなし、この先端部２４に囲まれる領域が下方に向けて開口する吐出口２５をなす。

円筒部２２の外周面の高さ中央部は円筒部２２の外側へ向けて膨らむことで、円環状の把手２６を形成している。円筒部２２の外周面において把手２６よりも上方には、円筒部２２の中心軸を螺旋軸とすると共に、当該外周面に沿った螺旋状の突起が形成されており、雄ネジ２７をなす。また円筒部２２の外周面における把手２６よりも下方には、各々水平方向に突出する第１の突起２８、第２の突起２９が形成されている。これらの第１の突起２８、及び第２の突起２９については、円筒部２２の中心軸に対して当該円筒部２２の外周面における１８０°異なる部位が互いに反対方向に突出することで形成されており、突出方向に見て各々円形である。第１の突起２８、及び第２の突起２９は互いに同じ高さに設けられ、第１の突起２８の方が、第２の突起２９よりも長い。即ち、第１の突起２８の方が、円筒部２２の外周面からの突出量が大きい。

続いて、下蓋３１について説明する。下蓋３１は、垂直に起立した円筒部３２と、当該円筒部３２の下部を塞ぐ底板３３とにより構成される。底板３３の上面の中心部は盛り上がり、突起３４をなす。そして、円筒部３２の上端部の周方向の互いに離れた２つの位置が下方に向けて切り欠かれ、溝３５として形成されている。これらの溝３５は、円筒部３２の中心軸に対して１８０°異なる位置に形成されており、上記した円筒部２２の第１の突起２８及び第２の突起２９の差し込みを行えるように形成されている。溝３５は、鍵穴状に形成されている。具体的に述べると、溝３５の上部側は下方へ向うにつれて幅が若干狭まり、その下端の幅は第１の突起２８、第２の突起２９を突出方向に見た円の直径よりも僅かに小さい。そして、溝３５の下部側は円形に形成されており、その大きさは第１の突起２８及び第２の突起２９を突出方向に見た円の大きさと略同じである。従って、溝３５が下方に向う途中で、その幅を狭める狭窄部が設けられていると見ることができる。

また円筒部３２の外周面には、水平な板状の係合用突起３６が２つ形成されている。これらの係合用突起３６は、下蓋３１を容器配置部８へ取り付けるために設けられている。当該２つの係合用突起３６は円筒部３２の中心軸から見て反対方向に突出することで形成されており、溝３５に対しては中心軸に対して９０°異なる方向に突出して形成されている。係合用突起３６は、溝３５の下端よりも下方に形成されている。

容器本体２１に対する下蓋３１の装着に関して説明しておく。下蓋３１、容器本体２１が互いに離れた状態で、各々の中心軸を揃えると共に、軸方向に見て第１の突起２８、第２の突起２９の各位置が溝３５に重なる状態とする。そして下蓋３１に対して容器本体２１を相対的に軸方向に沿って近接移動させることで、各溝３５に第１の突起２８、第２の突起２９を進入させる。その状態から容器本体２１を下蓋３１に向けて押圧することで、第１の突起２８及び第２の突起２９は、溝３５の狭窄部を越えて当該溝３５の奥へと移動し、第１の突起２８及び第２の突起２９と溝３５とが互いに嵌合（係合）し、下蓋３１及び容器本体２１について互いの相対位置が固定される。このように固定された状態においては、容器本体２１の吐出口２５には突起３４が進入すると共に、先端部２４が下蓋３１の底板３３に接することで、吐出口２５がシールされている。つまり、下蓋３１により吐出口２５は下方から塞がれ、容器本体２１内のレジストが吐出口２５から漏洩しない。また、そのように固定された状態において第１の突起２８の先端部は、溝３５を貫通して下蓋３１の円筒部３２の周面から突出している。

なお、容器本体２１を下蓋３１に対して相対的に離れるように軸方向に沿った力を加えることで、第１の突起２８、第２の突起２９は狭窄部を越えて溝３５の入口へと移動し、上記の嵌合は解除され、下蓋３１は容器本体２１から取り外される。後述するように、下蓋３１は容器配置部８に固定された状態とされ、その状態で容器本体２１を含む容器ノズル２０を保持する搬送部６が下蓋３１に対して昇降する。それにより、このような嵌合及び嵌合の解除が行われる。

次に上蓋４１について説明すると、この上蓋４１は、垂直に起立した円筒部４２と、当該円筒部４２の上側を塞ぐように設けられる上壁４３とを備える。円筒部４２の内周面においては、当該円筒部４２の中心軸を螺旋軸とすると共に、当該内周面に沿った螺旋状の溝部が形成されており、雌ネジ４４をなす。雌ネジ４４と容器本体２１の雄ネジ２７とを螺合させることで、上蓋４１は容器本体２１に装着、固定される。上壁４３の上面には、円形の凹部４５が設けられる。この凹部４５は搬送部６による容器ノズル２０の保持に利用されるが、後に詳述するのでここでは簡単に説明しておくと、凹部４５の底面で後述の開口部４６の外側領域は平坦面であり、搬送部６を構成するＯリング６７が密着する。そのように密着することで、当該平坦面は容器ノズル２０内を外部からシールするためのシール面をなす。このように凹部４５の底面がシール面であるため、このシール面としては、容器本体２１上で当該容器本体２１に重なる位置に設けられている。

凹部４５の中心部には上蓋４１を貫通して、上方に開口する円形の開口部４６が設けられている。なお凹部４５、開口部４６の中心は、容器２の中心軸上に位置する。開口部４６を介して容器ノズル２０内に搬送部６を構成する後述の給排気管６８が差し込まれる。上記した容器ノズル２０内の加圧及び減圧による圧力制御は、容器ノズル２０内に進入した進入部である給排気管６８からの給気及び排気によって行われる。従って、上蓋４１の上壁４３は、このように給排気管６８を容器ノズル２０内に進入させるための進入路である開口部４６を形成するための進入路形成部として構成されている。

作業員が上蓋４１を容器本体２１に対して容器２の軸周りに捻ることで、上記の螺合は解除可能であり、従って既述したように上蓋４１は容器本体２１に対して着脱可能である。なお、容器本体２１に設けられる上記の第１の突起２８及び第２の突起２９は、下蓋３１を容器本体２１に固定させる役割の他に、上蓋４１と容器本体２１との着脱を行うにあたり、作業員の手が容器本体２１の外周面に対して滑ってしまうことを防止する役割も有する。つまり、容器本体２１の側面を一方の手でつまむように持ち、他方の手で上蓋４１の側面をつまんで当該上蓋４１を捻るにあたり、第１の突起２８及び第２の突起２９が作業員の指に引っかかることで、容器本体２１について回転しないように保持することが容易であるので、上蓋４１の着脱を容易に行うことができる。なお、第１の突起２８については、容器配置部８における容器ノズル２０の有無の判定にも利用されることになるが、詳細は後述する。

続いて仕切り部材５１について説明すると、この仕切り部材５１は容器本体２１の円筒部２２内に配置されて、当該円筒部２２内を横方向に広がる板状の本体部５２を備えている。本体部５２は平面視円形であり、この本体部５２の周縁が上方へ向けて円筒部２２の内周面に沿って上方へ伸び、その上端が外方へと広がることでフランジ部５３をなす。このフランジ部５３が、上蓋４１の上壁４３の下面と、容器本体２１の円筒部２２の上端とに挟まれることで、仕切り部材５１はこれら上蓋４１及び容器本体２１に固定される。本体部５２により容器本体２１内の空間は上下に仕切られ、この本体部５２よりも下方側が、レジストが貯留される貯留空間５４とされる。レジストは、その液面が仕切り部材５１に接しない高さになるように貯留される。また、上記の上蓋４１の開口部４６は、この仕切り部材５１によって仕切られた上方側空間に開口し、上記の給排気管６８は、開口部４６を介した容器２内への進入時に、その先端（下端）が、この仕切り部材５１の本体部５２よりも上方に位置する。本体部５２の周縁寄りの位置には、当該本体部５２の周方向に間隔を空けて複数の貫通孔が設けられ、仕切り部材５１の上側と下側とを互いに連通させる連通孔５５として形成されている。この連通孔５５は、平面視で上記の開口部４６に重ならない位置に設けられる。

仕切り部材５１の役割について述べる。上記したように容器ノズル２０内に進入した給排気管６８による給排気が行われる。仮に、その給排気あるいは容器ノズル２０の搬送時の振動によって、液面からレジストが跳ねて給排気管６８内に付着してしまうとする。上記したように各容器２には異なる種類のレジストが貯留され、給排気管６８は各容器２に対して共用であるため、そのように一つの容器２内にて付着したレジストが他の容器２のレジストに混入してしまうことが考えられる。しかし、上記のように平面視で開口部４６から外れた位置に連通孔５５を備える仕切り部材５１を設けることで、上記のレジストの給排気管６８への付着が防止されつつ、給排気によって貯留空間５４の圧力を変化させることができる。なお、上記したように仕切り部材５１の材料は、容器２を構成する他の部材の材料と同様に例えば樹脂であるが、他の材料により構成してもよく、例えばゴム等により構成することができる。

図１～図３に戻って、搬送部６について説明する。搬送部６は、移動部６１、昇降部６２、アーム６３、給排気部６４及び把持部７により構成される。移動部６１はカップ１１の前方を左右に移動自在である。昇降部６２は移動部６１の左方に接続されると共に前方へ向けて伸び、当該移動部６１により垂直に昇降自在に構成されている。昇降部６２の先端部（後端部）上に、アーム６３の基端部が設けられており、当該昇降部６２の先端部に設けられる垂直方向（鉛直方向）に沿った軸Ｒ１周りに回動可能である。アーム６３の先端側は水平方向に伸びている。従って、アーム６３の先端側としては左右に移動自在、昇降自在であると共に旋回軸をなす軸Ｒ１周りに旋回自在である。当該アーム６３の先端には溶剤供給ノズル６０が設けられており、当該溶剤供給ノズル６０は鉛直下方に向けて溶剤を吐出する。この溶剤は、レジスト塗布前のウエハＷの表面改質（プリウエット）用であり、スピンコーティングによってウエハＷの表面全体に供給される。

アーム６３の先端部に給排気部６４及び把持部７が設けられており、これらについて図４の斜視図と、図７、図８の縦断側面図とを参照して説明する。給排気部６４は、容器接続部６６、Ｏリング６７、給排気管６８、分岐路６９Ａ、６９Ｂ、バルブＶ１、Ｖ２、ガス供給源６０Ａ及び排気源６０Ｂにより構成されている。

容器接続部６６は、アーム６３の先端部から下方に突出する円形部材であり、当該その下端部は拡径されている。この容器接続部６６の下端部については、後述するように容器２の上蓋４１の凹部４５に対して陥入及び後退ができるように、例えばその径の大きさは当該凹部４５の径の大きさと略同じに形成されている。

容器接続部６６の下面には、当該容器接続部６６の周に沿った環状溝が設けられ、この環状溝には封止部であるＯリング６７が埋設されている。そして、容器接続部６６の中心を垂直方向に貫くように既述した給排気管６８が設けられており、給排気管６８の先端部は容器接続部６６の下面から突出している。従って、Ｏリング６７については、給排気管６８の下端よりも上方に位置し、平面視で当該給排気管６８を囲むように設けられている。この給排気管６８については上蓋４１の開口部４６を介して容器ノズル２０内に対して進退できるように、例えばその径の大きさは当該開口部４６の径の大きさと略同じに形成されている。

給排気管６８の上方側に流路の一端が接続されており、この流路の他端が２つに分岐して分岐路６９Ａ、６９Ｂをなす。分岐路６９ＡはバルブＶ１を介してガス供給源６０Ａに接続されており、分岐路６９ＢはバルブＶ２を介して例えばエジェクタにより構成される排気源６０Ｂに接続されている。バルブＶ１、Ｖ２については両方が閉じられるか、いずれか一方が開かれた状態とされる。バルブＶ１の開放により給排気管６８の先端からガスとして例えば不活性ガスである窒素ガスが供給され、バルブＶ２の開放により給排気管６８の先端からの排気が行われる。

把持部７については、３つの爪部７１と、アーム６３の先端部に設けられる図示しない駆動機構と、により構成される。以下、３つの爪部７１を示す平面図である図９も参照して説明する。これらの爪部７１は、平面視で給排気管６８を中心として１２０°離れた位置に設けられ、給排気管６８に対して等距離に位置し、互いに回転対称に配置されている。なお、図７、図８では図示の便宜上、給排気管６８に対して１２０°異なる向きの断面を同一平面に表しているため、２つの爪部７１が給排気管６８を挟むように対称に示されている。

爪部７１は縦長であり、側面視逆さＬ字状に形成されている。詳しく述べると、爪部７１は給排気管６８から離れるように水平に伸びた後、下方へ屈曲された形状とされている。そして、爪部７１の下端部は平面視で給排気管６８へ向けて若干突出して、支持部７２を形成している。この支持部７２は、爪部７１による把持時に、容器本体２１の把手２６を下方から支持する役割を有する。各爪部７１の上端は既述の駆動機構に接続されており、当該駆動機構は、各爪部７１を、平面視で給排気管６８から比較的大きく離れた開放位置（図７中実線で表示）と、給排気管６８に比較的近い把持位置（図７中鎖線で表示）との間で水平移動させる。なお、図９は開放位置における爪部７１を示している。

搬送部６が容器２を構成する容器ノズル２０を装着して搬送する手順について説明する。容器ノズル２０には下蓋３１が装着された状態となっており、既述のように、下蓋３１は容器配置部８に固定されているものとする。給排気管６８が容器２の上蓋４１の開口部４６の上方に位置すると共に、爪部７１が開放位置に位置する状態でアーム６３が下降する。なお、上記の図４はこの下降時のアーム６３を示している。そして、容器２の上蓋４１の凹部４５に容器接続部６６の下端部が陥入してＯリング６７が、凹部４５の底面における開口部４６の外周部に密着した状態となると共に、給排気管６８の先端部（下端部）は容器本体２１内に進入し、仕切り部材５１上に位置した状態となる。このような状態となったときのアーム６３に対する容器ノズル２０の位置を装着位置とする。図７は、この装着位置における容器ノズル２０を示している

上記の装着位置においては、容器接続部６６のＯリング６７によって、当該容器接続部６６の下面と上蓋４１の凹部４５の底面との間の隙間が密閉される。それにより、当該隙間及び給排気管６８と開口部４６の内周縁との間の隙間を介して、容器ノズル２０内の貯留空間５４と、当該容器ノズル２０の外部の空間とが連通することが防止される。従って、給排気管６８による給気及び排気を行っても、当該外側の空間へのガスの流出、当該外部の空間からのガスの流入が防止される。このようにＯリング６７によって、より確実に貯留空間５４の加圧及び減圧が可能とされる構成となっている。

以上に述べた装着位置に容器ノズル２０が位置した状態で、爪部７１が開放位置から把持位置に移動する。この把持位置において各爪部７１の側面が容器ノズル２０の把手２６の側面を容器ノズル２０の中心軸へ向けて押圧することで、当該容器ノズル２０を把持し、装着位置にて固定する。また、把持位置における爪部７１の下端の支持部７２は、把手２６の下面に接している。このように容器ノズル２０の把持（保持）が行われた状態でアーム６３を上昇させると、爪部７１の支持部７２により、把手２６が引き上げられ、図５、図６で述べた下蓋３１と容器ノズル２０との嵌合が解除されることで、下蓋３１が容器ノズル２０から取り外される。図８は、そのように下蓋３１が取り外された状態の容器ノズル２０を示している。容器ノズル２０に対して下蓋３１を装着する場合には、既述した手順とは逆の手順の動作が行われる。補足して説明しておくと、この動作時にアーム６３の下降によって容器ノズル２０は容器接続部６６により下方に押圧されることで、容器ノズル２０は下蓋３１に再度、嵌合する。

上記のように容器ノズル２０から下蓋３１が取り外されている期間中は、容器ノズル２０からレジストを吐出する期間を除いて給排気管６８から排気が行われ、貯留空間５４が減圧される。この減圧により、下蓋３１が取り外された状態であっても、容器ノズル２０の吐出口２５からのレジストの不要な流下が防止される。

ところで図４、図９に示すように、アーム６３の先端部の下側にはレーザー光の照射部７３と、受光部７４とが設けられており、これらの照射部７３及び受光部７４は第２検出機構を構成する。図中に点線の矢印で示すように、照射部７３は受光部７４に向けて、水平方向にレーザー光を照射する。受光部７４は、レーザー光の受光の有無に応じた検出信号を後述の制御部１００に送信する。容器ノズル２０が上記の装着位置に位置する場合は、当該容器ノズル２０の上蓋４１により、このレーザー光の光路が遮蔽され、装着位置に容器ノズル２０が位置しない場合は、この光路の遮蔽が起こらない。従って制御部１００は、搬送部６が容器ノズル２０を搬送する期間において、正常に保持がなされているか（装着位置から落下していないか）否かの判定を行うことができる。

続いて容器配置部８について既述の図１、図２の他に、前方側から見た斜視図である図１０、後方から見た側面図である図１１、平面図である図１２も参照して説明する。本例では容器配置部８において２６個の容器２が配置される。容器配置部８は、水平板状の配置部本体８１と、配置部本体８１の下方に設けられる水平板状の検出機構載置部８２と、により構成されており、これらの配置部本体８１及び検出機構載置部８２は接続部８３により上下に間隔を空けて互いに接続されている。配置部本体８１は円形の開口部８４を備えている。当該開口部８４は容器配置部８に配置される容器２と同じ数の２６個設けられ、下蓋３１の底部を各々収納する容器２の配置領域をなす。検出機構載置部８２には、開口部８４に容器２の下蓋３１が装着されているか否かを検出するための検出機構９が設けられる。第１の検出機構をなす検出機構９は、開口部８４毎に設けられる。

本例では開口部８４は左右方向に列をなすように設けられ、この列が前後方向に５つ設けられており、左右に隣り合う開口部８４同士の間隔は互いに同じとされている。列について、前方側の列から後方側の列に向けて順に番号を付し、最前方の列を１番目の列とする。１～４番目の列については６個の開口部８４からなり、５番目の列については２個の開口部８４からなる。そして１～４番目の列については、後方側の列ほど右寄り、即ちカップ１１寄りに位置する。５番目の列の右側の開口部８４は、４番目の列の右側の開口部８４よりも若干左寄りに位置している。

上記のように各開口部８４が形成されることで、当該開口部８４内に配置される各容器２としては、図１３に示すように平面視で軸Ｒ１周りの円弧をなす帯状領域Ｒ２内に配置され、既述した左右移動且つ旋回可能な搬送部６の爪部７１による把持が可能な配置とされている。なお、平面視の軸Ｒ１と給排気管６８との距離をＲ３として、上記把持を行うための容器２の配置について補足しておく。平面視で各容器２の中心は、搬送部６の移動部６１により、軸Ｒ１の左右移動可能な範囲内で、当該軸Ｒ１が最も左端に位置したときの軸Ｒ１を中心且つＲ３を半径とした円弧と、軸Ｒ１が最も右端に位置したときの軸Ｒ１を中心且つＲ３を半径とした円弧との間の領域に位置することになる。

図１０～図１２に戻って、開口部８４を形成する配置部本体８１についてさらに説明する。この配置部本体８１は、図１１に示すように互いに積層された下板８５、上板８６により構成されており、これらの下板８５、上板８６には、上記の開口部８４をなす貫通孔が各々形成されている。そして、下板８５における貫通孔の外周縁部の上面の２箇所が切り欠かれている。この下板８５の上面の切り欠きを８７Ａとして図１１に示しており、当該切り欠き８７Ａは開口部８４の前方側、後方側に各々形成されている。

上板８６は、上記の切り欠き８７のうちの一部の部位を被覆し、他の一部の部位を被覆せずに開放させるように設けられることで、開口部８４の外周に沿った溝８８及び当該溝８８に連通するように上方に開口する進入口８９を形成する。詳しく述べると、上板８６の貫通孔については、円の一部がその外側へ向けて若干切り欠かれた形状とされている。この上板８６の切り欠きについても前方側、後方側の各々に形成されており、切り欠き８７Ｂとして示している。そして当該上板８６の貫通孔の孔縁において、切り欠き８７Ｂに対して平面視で貫通孔の周に沿って時計回りにずれた部位は、反時計回りに見たときに次第にその高さが上昇するように折り曲げられ、傾斜部８０をなす。

上板８６において、この傾斜部８０に対して時計回りにずれた部位が、上記のように切り欠き８７Ａを覆い、溝８８を形成する。そして上板８６の切り欠き８７Ｂと下板８５の切り欠き８７Ａとが重なることで、傾斜部８０に対して反時計回りにずれた位置に上記の進入口８９が形成されている。以上のように下板８５及び上板８６が構成されるため、１つの開口部８４に対して２つの進入口８９、２つの傾斜部８０及び２つの溝８８が形成されている。この２つの進入口８９については、容器２における下蓋３１の２つの係合用突起３６を上方から、進入させて下板８５上の切り欠き８７Ａをなす部位に載置させることができるように、開口部８４の中心を挟むように設けられている。

続いて検出機構９について説明する。この検出機構９は、検出体９１及び検出機構本体９２により構成される。上記の配置部本体８１の各開口部８４の周縁の右側の部位は、当該開口部８４の外側に向かうように切り欠かれている。この切り欠きを９３とすると、切り欠き９３内に検出体９１が設けられている。この検出体９１は、上方へ伸びる太棒状に構成され、その上端部の後方側の側面は、後方から前方に向うにつれて上る傾斜面９４として構成されている。検出体９１の下部側は下方へ伸び、検出機構載置部８２に設けられる検出機構本体９２に接続されている。

検出機構本体９２に対して検出体９１は昇降可能であり、切り欠き９３を介した検出機構本体９２の配置部本体８１の上方への突出量が変化し得る構成とされている。検出機構本体９２は検出体９１を上方に付勢するように構成されており、付勢力に抗する力が加わらない場合の検出体９１の高さ位置を上方位置とする。また、図示は省略するが検出機構本体９２はレーザー光の照射部と、当該レーザー光を受光する受光部とを備えている。このレーザー光の光路は横方向に伸び、検出体９１の下端の昇降領域に重なる。検出体９１が上昇位置に位置する際に光路は開放され、従ってレーザー光が受光部に供給される。

検出機構本体９２からの付勢力に抗して検出体９１が下方に向かうように押圧されて、所定の高さの位置（下方位置とする）に下がると、光路が遮断されて受光部へのレーザー光の供給が停止する。検出機構本体９２の受光部は、このレーザー光の受光の有無に応じた検出信号を後述の制御部１００に送信する。

続いて、容器２の容器配置部８への取り付けについて、図１４、図１５を用いて説明する。図１４は容器２の下蓋３１と容器配置部８との間に係合が形成される様子を示し、容器配置部８を前方から見ている。図１５はこの係合の形成に並行して、検出体９１の高さが変化する様子を示しており、容器配置部８を右方から見ている。図１４、図１５では上段、中段、下段の夫々に容器２を示しているが、同じ段では同一の時点における容器２の状態を表している。

容器配置部８の開口部８４上に容器２を位置させ、進入口８９に対して下蓋３１の係合用突起３６の位置を揃える。その際に容器ノズル２０の第１の突起２８が右側（開口部８４に対して検出体９１が設けられる側）に位置するようにする（図１４、図１５の各上段）。開口部８４に対して容器２を下降させ、容器２の下端を開口部８４に差し込むと共に、係合用突起３６については進入口８９を介して容器配置部８の配置部本体８１をなす下板８５上に載置させる。このとき上方位置に位置している検出体９１の傾斜面９４の高さと、下蓋３１の第１の突起２８の高さとが揃う（図１４、図１５の各中段）。そして、容器２を平面視、時計回りに回転させる。この回転により、係合部である係合用突起３６が被係合部である溝８８に進入して互いに係合し、容器２が容器配置部８に固定される（図１４下段）。上記の傾斜部８０は、係合用突起３６を容器２の回転によって溝８８に容易に進入させるためのガイドをなす。

上記の係合を形成する過程の容器２の回転中、第１の突起２８が検出体９１の傾斜面９４に当接し、さらなる容器２の回転によって当該傾斜面９４が第１の突起２８により押圧される。そのように傾斜面９４が横方向に押圧されることによって、第１の突起２８が傾斜面９４を上るように検出体９１が下降する。そして上記の係合が形成されると共に、検出体９１は下方位置に位置し、既述したように検出機構本体９２の光路を遮断する（図１５下段）。なお、以上の容器２の容器配置部８への取り付けは作業員が行う。容器２を容器配置部８から取り外す際には、作業員が取り付け時と逆の手順を行うようにする。

以上のように容器配置部８に取り付けられた容器２を構成する容器ノズル２０について、図７、図８で述べたようにアーム６３が爪部７１により把持して上昇することで、下蓋３１から取り外される。そのように容器ノズル２０が取り外されて、第１の突起２８による干渉が解除されることで、検出体９１は検出機構本体９２から受ける付勢力によって上昇位置に移動する（図１６参照）。下蓋３１に容器ノズル２０を装着する際には、容器ノズル２０がアーム６３により下降するが、その際に第１の突起２８が傾斜面９４に当接して下方へと押し下げられ、検出体９１が下降位置に戻ることで、検出機構本体９２の光路が遮断される。

このように下蓋３１に対する容器ノズル２０の着脱により、検出体９１の高さが上方位置と下方位置との間で切り替わることで、検出機構本体９２の受光部から制御部１００へ出力される検出信号が切り替わる。そのため制御部１００は、当該各下蓋３１に対する容器ノズル２０の着脱状態を検出可能である。以上に述べたように下蓋３１が装着される位置に容器ノズル２０が位置したときに、第１の突起２８の有無が検出機構９（第１検出機構）により検出されることで、この装着がなされる位置における容器ノズル２０の有無が検出される。

上記したように検出機構９としては各々容器２の配置領域をなす開口部８４毎に設けられるため、制御部１００は当該配置領域毎に容器ノズル２０の有無を検出することができる。従って、処理に用いる容器ノズル２０が正常にアーム６３により下蓋３１から取り外されたか否かを監視することができる。また、搬送部６により保持中の容器ノズル２０を、容器配置部８において容器ノズル２０が装着されている下蓋３１に戻すように搬送部６が動作する不具合が発生することを防止することができる。

容器配置部８について、図１７、図１８も参照してさらに説明する。レジスト塗布装置１の基台１９上には左右に離れて前後方向に伸びるガイド１０１が設けられ、ガイド１０１に左右の縁部が接続されるスライダ１０２が設けられる。スライダ１０２の概略的な形状としては、平面視で後方側が開放された凹状の水平な板状体であり、そのように凹状となるように後端から前方側に向って形成された切り欠きを１０３として示している。容器配置部８については、配置部本体８１の左右の各々の縁部がスライダ１０２上に支持され、検出機構載置部８２は切り欠き１０３に配置される。

作業員により、スライダ１０２はガイド１０１に沿って、後方位置と前方位置との間でスライド移動可能である。容器配置部８についてもスライダ１０２と共に移動するため、スライダ１０２はカップ１１及びスピンチャック１２に対する容器配置部８の相対的な前後の位置を変更するスライド部材である。なお、これまでに図１３等で説明した容器配置部８の各容器２の配置はスライダ１０２が後方位置に位置する状態での配置であり、この状態においては各容器２とカップ１１とが左右に並ぶ。スライダ１０２を前方位置に移動させることで、例えば図１７に示すように容器配置部８の容器２の前方側の列がカップ１１の前端より前方に位置する。

図示しない固定機構を介して、配置部本体８１とスライダ１０２とは着脱自在である。容器配置部８に対して容器２の交換等のメンテナンスを行う際には、上記のように前方位置に移動させたスライダ１０２から容器配置部８を取り外す（図１８参照）。このように容器配置部８の移動及びスライダ１０２からの取り外しが可能であることで、図１４、図１５で述べた作業員による容器配置部８に対する容器２の着脱について、容易に行うことができる。なお、以降の説明では特に記載無い限り、スライダ１０２は後方位置に位置しており、従って容器２は図１３等で説明した位置に配置されているものとする。

また、図１、図２に示すように容器配置部８とカップ１１とに左右から挟まれる位置に、排液ポート１１１が設けられている。より詳しくは平面視で、排液ポート１１１は容器配置部８における５番目の列の容器２と、カップ１１の中心よりも後方側との間に配置されている。排液ポート１１１は円形のカップ状であり、その内部は図示しない排液路に接続されており、当該排液ポート１１１に供給された液は当該排液路に流入して除去される。

この排液ポート１１１の上方は、アーム６３が保持した容器ノズル２０及び溶剤供給ノズル６０を待機させる待機領域であり、必要に応じて当該待機領域に位置する容器ノズル２０、溶剤供給ノズル６０から夫々レジスト、溶剤が当該排液ポート１１１に吐出される。当該排液ポート１１１に向けたレジストや溶剤の供給は、ウエハＷに対する処理を目的としない、いわゆるダミーディスペンスである。

このように待機領域を形成する排液ポート１１１が、容器配置部８とカップ１１との間に位置する配置とすることで、搬送部６が容器ノズル２０を把持後、当該容器ノズル２０がカップ１１へ向うまでの間に待機領域が位置することになる。そのため、保持した容器ノズル２０についてダミーディスペンス後、速やかにウエハＷ上に搬送して処理を行うことができる。またウエハＷの処理後、容器ノズル２０を一旦、待機領域に移動させて待機させてから後続のウエハＷに処理を行うにあたり、待機領域とウエハＷとの間の距離は比較的小さいため、速やかにウエハＷ上に容器ノズル２０を移動させて処理を行うことができる。従って、このような排液ポート１１１の配置により、装置のスループットの向上を図ることができる。

レジスト塗布装置１は、コンピュータにより構成される制御部１００を備えている。制御部１００はプログラムを備えており、当該プログラムによって制御部１００からレジスト塗布装置１の各部に制御信号が送られる。この制御信号により、搬送部６による容器ノズル２０の把持及び把持の解除、容器ノズル２０の搬送、容器ノズル２０内の加圧及び減圧、スピンチャック１２の回転などの各動作が制御され、装置による後述の一連の処理が行われる。上記のプログラムは、このように各部の動作を制御し、後述するウエハＷの処理を進行させるように命令（各ステップ）が組み込まれている。このプログラムは記憶媒体、例えばコンパクトディスク、ハードディスク、メモリーカード、ＤＶＤなどの記憶媒体に格納されて制御部１００にインストールされる。

また、制御部１００は上記したように搬送部６の受光部７４から出力される検出信号及び各検出機構９から出力される検出信号をモニタする。また、制御部１００は音声出力や画面表示によって、異常が発生した場合にはその旨を示すアラームを出力するアラーム出力部を備える。例えば、搬送部６による容器ノズル２０の保持が行われているはずの期間で、容器ノズル２０が保持されていないことを表す検出信号が出力されたときには、アラームが出力される。また例えば、搬送部６による容器ノズル２０を保持中に、当該容器ノズル２０が戻される位置の検出機構９から、当該位置に容器ノズル２０が有ることを示す検出信号が出力されたときにはアラームが出力される。

続いてレジスト塗布装置１におけるウエハＷの処理手順を、図１９～図２３を参照して説明する。アーム６３が容器ノズル２０を保持しておらず、排液ポート１１１上の待機領域に溶剤供給ノズル６０が位置しており、アーム６３における給排気部６４を構成する給排気管６８からの給排気は停止した状態となっている（図１９）。アーム６３における爪部７１は開放位置に位置しており、溶剤供給ノズル６０からのダミーディスペンスが実行される。

然る後、図示しない上位コンピュータから制御部１００に、レジスト塗布装置１に搬送されるウエハＷのロットについての情報が送信される。搬送部６をなすアーム６３について、昇降、左右方向における移動及び回動の協働動作により、容器配置部８において上記のロットを処理するためのレジストが貯留されている容器２の上方の所定の高さに、当該アーム６３の給排気部６４が位置する。給排気部６４を構成する給排気管６８からの排気が開始されるとアーム６３が下降して、図７で述べたようにアーム６３の下方の装着位置に当該容器２を構成する容器ノズル２０が接続され、容器ノズル２０内の貯留空間５４は外部からシールされた状態となる。装着位置に容器ノズル２０が位置したことで、図４、図９で説明したアーム６３に設けられる照射部７３と受光部７４との間の光路は遮断される。また、給排気管６８からの排気によって、貯留空間５４が減圧される。そして、爪部７１が把持位置へ移動し、当該容器ノズル２０が把持される（図２０）。

続いてアーム６３が上昇し、図１６で述べたように容器ノズル２０がアーム６３と共に上昇することで、下蓋３１が外されると共に、当該容器ノズル２０に対応する検出機構９の検出体９１が下方位置から上方位置に移動する。そしてアーム６３について、昇降、左右方向における移動及び回動の協働動作により、把持された容器ノズル２０が排液ポート１１１上の待機領域に位置すると、給排気管６８からの排気が停止すると共に給気が開始され、貯留空間５４が加圧される。それにより、容器ノズル２０からのダミーディスペンスが行われる。つまり、レジストが排液ポート１１１に吐出される（図２１）。

所定量のレジストが排液ポート１１１に吐出されると、給排気管６８からの給気が停止すると共に排気が開始されて貯留空間５４が減圧され、当該レジストの吐出が停止する。つまりダミーディスペンスが停止する。然る後、搬送機構によりウエハＷがレジスト塗布装置１に搬送され、スピンチャック１２により、当該ウエハＷの裏面中央部が吸着保持される。アーム６３の昇降、左右方向における移動及び回動が行われ、溶剤供給ノズル６０がウエハＷの中心部上に位置する。そして、当該ウエハＷの中心部に溶剤が吐出されてウエハＷが回転し、スピンコートによりウエハＷの表面全体に溶剤が塗布される。

続いて、アーム６３の回動及び左右方向の移動により、溶剤供給ノズル６０に代わって容器ノズル２０がウエハＷの中心部上における処理位置に位置する。ダミーディスペンス実行時と同様に、給排気管６８からの排気が停止すると共に給気が開始されることで貯留空間５４が加圧され、回転するウエハＷの中心部にレジストＲが吐出され、当該レジストＲはスピンコートによりウエハＷの表面全体に塗布される（図２２）。所定量のレジストが吐出されると、ダミーディスペンスの停止時と同様に、給排気管６８からの給気が停止すると共に排気が開始されて貯留空間５４が減圧され、容器ノズル２０からのレジストＲの吐出が停止する。ウエハＷに塗布されたレジストＲは乾燥してレジスト膜を形成する。アーム６３の移動により、容器ノズル２０は排液ポート１１１上の待機領域へと戻る（図２３）。ウエハＷの周縁部上に移動した周縁部用ノズル１４から回転中のウエハＷの周縁部へ溶剤が供給され、当該周縁部からレジスト膜が除去された後、ウエハＷの回転が停止する。その後、搬送機構により、ウエハＷはレジスト塗布装置１から搬出される。

続いて、先に処理したウエハＷと同じロットに属するウエハＷがレジスト塗布装置１に搬送され、スピンチャック１２上に保持される。アーム６３の移動により溶剤供給ノズル６０及び容器ノズル２０が再度ウエハＷ上に移動し、先のウエハＷに対して行った処理と同様の処理が行われる。そのように待機領域とウエハＷ上との間で溶剤供給ノズル６０及び容器ノズル２０が移動し、順次搬送される同じロットのウエハＷに対して、処理が繰り返し行われる。

そして、ロットの最後のウエハＷの処理が終了すると、容器ノズル２０は当該容器ノズル２０に装着されていた下蓋３１上に位置する。続いて、搬送部６について下蓋３１の取り外し時とは逆の動作が行われ、下蓋３１の容器ノズル２０への装着、容器ノズル２０の把持の解除、アーム６３の装着位置からの容器ノズル２０の解放、給排気管６８からの排気の停止が順次なされ、溶剤供給ノズル６０が待機位置に位置するようにアーム６３が移動する。即ち、図１９で示した状態に戻る。後続のロットのウエハＷを処理する際には、そのロットに応じた容器２の容器ノズル２０がアーム６３に把持されることを除いて、先のロットの処理と同様の動作が行われる。

ところでウエハＷにレジストを塗布するにあたっては、特許文献１に記載されるように、ノズルとレジストの供給源（タンク）とを配管により接続し、配管に介設したポンプにより、レジストをノズルから吐出する装置構成とすることが考えられる。しかし、そのような装置構成で複数の種類のレジストを用いて処理を行うとすると、使用するレジストを切り替えるにあたり、タンクについて必要なレジストが貯留されたものに交換することになるので、当該タンクの配管への接続の手間を要することになる。また、そのようにタンクを交換する場合、ウエハＷに供給されるレジストが他のレジストにより汚染されたり、気泡が混入されたりすることを防ぐために、洗浄液による配管の洗浄、配管からの洗浄液の除去、配管へのレジストの充填などの作業が必要になる。従って、処理を行うまでの準備（処理に付随する作業）に、多大な手間を要してしまうおそれが有る。

また、上記のタンクを交換する他に、ノズルとタンクとこれらノズル及びタンクを接続すると共にバルブやポンプが介設された配管系を複数設け、使用する配管系を切り替えることでウエハＷに各種のレジストを供給することが考えられる。しかし、このような配管系比較的大きなスペースを要することから、装置に設置可能な数が限られる。そのため、装置にて使用可能なレジストの種類は、この配管系の数によって制限されてしまい、十分な種類のレジストを使用できないおそれが有る。その他に、作業員が手作業によりウエハＷにレジストを供給することが考えられる。つまり、作業員が処理の都度、所望のレジストを含むボトルをウエハＷ上で傾けて供給することが考えられる。しかし、そのようにするとウエハＷを続けて複数枚処理するにあたり、作業員が装置付近に常時待機することになるので作業員の手間及び負担が大きい。

既述のように容器２を構成する容器ノズル２０については、吐出口２５、レジストの貯留空間５４及び開口部４６が設けられている。そしてレジスト塗布装置１によれば、その開口部４６を介して搬送部６を構成する給排気管６８が容器ノズル２０内に対して進退可能、且つ容器ノズル２０内にて給排気により貯留空間５４の加圧、減圧を切替え可能である。そのため必要時のみ吐出口２５からのレジストの吐出を行え、それ以外の場合は吐出口２５からのレジストの漏洩が防止される。そして、搬送部６に設けられる把持部７により、搬送部６への容器ノズル２０の保持と、保持の解除との切り替えが自在である。また、上述のように容器ノズル２０内の処理液（本例ではレジスト）を給排気管６８によって加圧して供給するため、搬送部６には加圧及び減圧用のためのガス用配管を設ければよく、処理液を通流させるための配管を設ける必要が無い。そのためレジスト塗布装置１については、上記したように任意の容器２を選択し、当該容器２を構成する容器ノズル２０をウエハＷ上へと搬送してレジスト塗布を行うことができる。従って、上記の手作業を行う場合に比べて作業員の手間が削減され、既述した配管の洗浄等の処理に付随して行う作業の手間も削減される。さらにレジスト塗布装置１によれば、レジストの種類毎の配管系を設置する必要が無く、設置する容器２の数を増やすのみで、使用可能なレジストの種類の数を増やすことができる。従って、例示したように多数の容器２を容器配置部８に設置し、多数の種類のレジストから選択して処理を行うことができるという利点が有る。

また、容器２については容器ノズル２０が昇降することで着脱される下蓋３１を備え、下蓋３１の装着時には容器ノズル２０の吐出口２５が塞がれることで、吐出口２５からのレジストの流出が防止される。この下蓋３１が設けられていることにより、搬送部６による搬送時以外は、容器ノズル２０内は減圧する必要が無い。つまり容器２が配置される容器配置部８には、容器ノズル２０内を減圧する機構を設けなくてもよいので、装置構成を簡素にできるため有利である。そして、この下蓋３１が容器配置部８に対して着脱自在な構成としているため、吐出口２５からのレジストの流出が起こらない状態を維持したまま、容器配置部８に対して容器２の交換を容易に行うことができる。従って、上記したように移動可能且つ装置に対して着脱可能な容器配置部８の構成と合わせて、レジスト塗布装置１における容器２の交換が容易である。なお、容器配置部８は既述したようにスライダ１０２により前後移動可能且つ、前方位置に位置した状態で装置から取り外し可能であるが、例えば前後移動及び取り外しのうち、移動のみが可能な構成であっても容器２の着脱について作業員の負荷が軽減されるため有利である。

また容器ノズル２０には、当該容器ノズル２０を下蓋３１と嵌合させるための第１の突起２８が設けられ、この第１の突起２８は下蓋３１に対する係合の形成にも利用される。このように第１の突起２８が各役割を兼用する構成であるため、容器ノズル２０の外周部において構成の複雑化を防ぐ。結果として、当該外周部の大型化を防ぎ、容器ノズル２０を容器配置部８に多数、密に配置可能とし、使用可能なレジストの選択性を高めることに寄与する。また、容器ノズル２０についてはその周方向に沿った把手２６が設けられ、当該把手２６の上側に上蓋４１が設けられ、この上蓋４１の上面は、容器ノズル２０内をシールするために搬送部６のＯリング６７と密着するシール面として構成されている。そのため把手２６が爪部７１によって把持され、爪部７１を構成する支持部７２が当該把手２６を下方から支持する際に、弾性体であるＯリング６７によって上蓋４１は、相対的に容器本体２１に向うように押圧される。そのため、上蓋４１は容器本体２１に対して緩みにくく、搬送中において容器ノズル２０内についての高い密閉性が得られるという利点が有る。なお容器ノズル２の把手２６については、容器ノズル２０を把持可能な構成であればよく、環状には限られず、例えば容器本体２１の外周面の周方向に間隔を空けて形成された突起であってもよい。その場合であっても、既述したようにＯリング６４を利用して、容器本体２１に向けて上蓋４１が相対的に押圧されるように容器ノズル２０を把持することができる。

ところで容器２については使い捨てとしてもよいが、使用後にレジストを再充填して再利用してもよい。そのように再利用するにあたり、既述したように上蓋４１が容器本体２１に対して着脱自在な構成であるため、その再充填を容易に行うことができるので有利である。また、容器２内には上記したように仕切り部材５１が設けられ、上記したように容器２内の圧力変化や搬送時の振動に起因する給排気管６８へのレジストの付着が防止されるようになっている。ただし、給排気量を調整したり、搬送時の速度の調整により振動を抑制したりすることで、当該汚染を防止することができる。従って容器２において、仕切り部材５１が設けられない構成としてもよい。

レジスト塗布装置１の搬送部６について、既述の把持部７を設けて容器ノズル２０を保持することには限られず、例えば容器２の上蓋４１を吸引して容器ノズル２０を保持する機構が設けられ、上記した装着位置への着脱が自在な構成とされてもよい。その他に、容器２の上蓋４１における凹部４５の内周側面に溝を形成し、搬送部６の容器接続部６６の側周面にて突没自在な突起が設けられた構成とする。容器接続部６６が凹部４５内に陥入したとき、その突起が容器接続部６６の側周面から突出して、上記の凹部４５の溝と係合することで、搬送部６が容器ノズル２０を保持する構成であってもよい。このように搬送部６に設けられる容器ノズル２０の着脱機構としては、把持部７によって構成されることには限られない。

また、搬送部６を構成するアーム６３については左右移動する他に、回動することで当該アーム６３の先端側の把持部７が左右移動の他に前後移動することが可能となっている。しかし、アーム６３については回動が行われず、容器２についてはアーム６３の左右の移動領域に合わせて、左右方向に一列に並べて設けられる構成であってもよい。しかし、上記のように把持部７が前後移動可能であることで、容器２を多数設置することができるため有利である。なお、容器配置部８における容器２のレイアウトとしては、アーム６３が各容器２を受け取れればよく、既述の例に限られず、把持部７及び給排気部６４の移動範囲に合わせて任意に設定することができる。また、容器配置部８には容器２が複数配置されることに限られず、１個のみ配置される構成であってもよい。なお、例えば容器配置部８には、容器２の上方で開口部４６を塞ぐ位置と、容器２の外側との間を移動自在であるように駆動機構に接続された蓋が設けられていてもよい。従って、容器ノズル２０の開口部４６としては常時開口されていることには限られず、容器２を構成する進入路形成部としては給排気管４８として例示した進入部を内部に進入させることができるように構成されていればよい。

本開示の基板処理装置としては、レジストを塗布してレジスト膜を形成する構成とすることには限られない。例えば反射防止膜形成用の塗布用の処理液、絶縁膜形成用の塗布用の処理液、現像液、ウエハＷの洗浄液、ウエハＷを貼り合わせるための接着材などの各種の処理液を容器２に収納して処理を行うことができる。

なお、今回開示された実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更及び組み合わせがなされてもよい。

Ｗウエハ
２容器
２０容器ノズル
２５吐出口
４６開口部
５４貯留空間

Claims

基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、
前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口と、
前記吐出口から前記処理液が吐出されるように前記貯留空間形成部の内部に位置して前記貯留空間を加圧する進入部が当該貯留空間形成部の内部に対して進入可能とする進入路を形成するために、前記貯留空間形成部に設けられる進入路形成部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記貯留空間形成部に対して着脱自在であり、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋が設けられ、
前記下蓋には、前記容器が配置される容器配置部に当該下蓋を着脱自在に係合させるための係合部が設けられる容器。
前記容器配置部に係合した前記下蓋が装着される位置に前記貯留空間形成部が位置した状態で、当該容器配置部に設けられる検出機構によって検出される突起が当該貯留空間形成部に設けられる請求項１記載の容器。
前記下蓋には、前記突起と嵌合する溝が設けられ、
当該突起と当該溝との嵌合により、当該下蓋が前記貯留空間形成部に装着される請求項２記載の容器。
前記貯留空間形成部により囲まれる空間を前記進入路に臨む上方側空間と、前記貯留空間をなす下方側空間とに仕切る仕切り部材が設けられ、
前記仕切り部材には平面視で前記進入路と重ならない位置に、前記上方側空間と前記下方側空間とを連通させる貫通孔が設けられる請求項１ないし３のいずれか一つに記載の容器。
前記貯留空間形成部は、前記吐出口が形成された容器本体と、当該容器本体に対して着脱自在で前記貯留空間形成部を備える上蓋と、を備える請求項１ないし４のいずれか一つに記載の容器。
基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、
前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口と、
前記吐出口から前記処理液が吐出されるように前記貯留空間形成部の内部に位置して前記貯留空間を加圧する進入部が当該貯留空間形成部の内部に対して進入可能とする進入路を形成するために、前記貯留空間形成部に設けられる進入路形成部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記貯留空間形成部に対して着脱自在であり、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋が設けられ、
前記貯留空間形成部により囲まれる空間を前記進入路に臨む上方側空間と、前記貯留空間をなす下方側空間とに仕切る仕切り部材が設けられ、
前記仕切り部材には平面視で前記進入路と重ならない位置に、前記上方側空間と前記下方側空間とを連通させる貫通孔が設けられる容器。
基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、
前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口と、
前記吐出口から前記処理液が吐出されるように前記貯留空間形成部の内部に位置して前記貯留空間を加圧する進入部が当該貯留空間形成部の内部に対して進入可能とする進入路を形成するために、前記貯留空間形成部に設けられる進入路形成部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記貯留空間形成部に対して着脱自在であり、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋が設けられ、
前記貯留空間形成部は、前記吐出口が形成された容器本体と、当該容器本体に対して着脱自在で前記貯留空間形成部を備える上蓋と、を備える容器。
基板を載置する載置部と、
前記基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口及び当該貯留空間形成部の内部への進入路を形成するための進入路形成部と、を備える容器が配置される容器配置部と、
前記貯留空間形成部の着脱機構を備え、前記吐出口から前記処理液を前記基板に吐出する処理位置と前記容器配置部との間で、前記貯留空間形成部を搬送する搬送部と、
前記吐出口からの前記処理液の吐出と当該吐出の停止とを切り替えるために、前記搬送部に装着された前記貯留空間形成部の内部に前記進入路を介して進入した状態で前記貯留空間の加圧と減圧とを行うように前記搬送部に設けられる進入部と、
を備え、
前記容器配置部には複数の前記容器が配置され、
前記搬送部は、前記複数の容器から選択された容器を装着し、
前記搬送部は旋回可能であり、当該搬送部の旋回軸周りの円弧をなす帯状領域に前記複数の容器が設けられる基板処理装置。
基板を載置する載置部と、
前記基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口及び当該貯留空間形成部の内部への進入路を形成するための進入路形成部と、を備える容器が配置される容器配置部と、
前記貯留空間形成部の着脱機構を備え、前記吐出口から前記処理液を前記基板に吐出する処理位置と前記容器配置部との間で、前記貯留空間形成部を搬送する搬送部と、
前記吐出口からの前記処理液の吐出と当該吐出の停止とを切り替えるために、前記搬送部に装着された前記貯留空間形成部の内部に前記進入路を介して進入した状態で前記貯留空間の加圧と減圧とを行うように前記搬送部に設けられる進入部と、
を備え、
前記吐出口は下方に開口し、
前記容器は、当該貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋を備え、
前記搬送部は前記貯留空間形成部を装着した状態で昇降し、前記容器配置部に配置される前記下蓋を当該貯留空間形成部に対して着脱させ、
前記容器配置部には前記下蓋が装着される位置における前記貯留空間形成部の有無を検出するための第１検出機構が設けられる基板処理装置。
前記下蓋を前記容器配置部に対して着脱自在に係合させるために、当該容器配置部には、前記下蓋に設けられる係合部に対して係合する被係合部が設けられる請求項９記載の基板処理装置。
前記搬送部には、前記進入部の下端よりも上方に位置すると共に平面視で当該進入部を囲み、前記搬送部に前記貯留空間形成部が装着される装着位置において前記貯留空間を封止するために、前記貯留空間形成部の前記進入路の外周部に密着する封止部が設けられる請求項９または１０記載の基板処理装置
前記載置部に載置された前記基板を囲むカップが設けられ、
平面視、前記容器配置部に配置される前記容器と前記カップとの間に、前記搬送部に保持される前記容器を待機させる待機領域が設けられる請求項９ないし１１のいずれか一つに記載の基板処理装置。
前記容器配置部と前記載置部との並ぶ方向を左右方向とすると、前記容器配置部の前記載置部に対する相対的な前後の位置を変更するためのスライド部材が設けられる請求項９ないし１２のいずれか一つに記載の基板処理装置。
前記搬送部には、当該搬送部に前記貯留空間形成部が装着される装着位置における当該貯留空間形成部の有無を検出するための第２検出機構が設けられる請求項９ないし１３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
基板を載置する載置部と、
前記基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口及び当該貯留空間形成部の内部への進入路を形成するための進入路形成部と、を備える容器が配置される容器配置部と、
前記貯留空間形成部の着脱機構を備え、前記吐出口から前記処理液を前記基板に吐出する処理位置と前記容器配置部との間で、前記貯留空間形成部を搬送する搬送部と、
前記吐出口からの前記処理液の吐出と当該吐出の停止とを切り替えるために、前記搬送部に装着された前記貯留空間形成部の内部に前記進入路を介して進入した状態で前記貯留空間の加圧と減圧とを行うように前記搬送部に設けられる進入部と、
を備え、
前記容器配置部と前記載置部との並ぶ方向を左右方向とすると、前記容器配置部の前記載置部に対する相対的な前後の位置を変更するためのスライド部材が設けられる基板処理装置。
基板を載置する載置部と、
前記基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口及び当該貯留空間形成部の内部への進入路を形成するための進入路形成部と、を備える容器が配置される容器配置部と、
前記貯留空間形成部の着脱機構を備え、前記吐出口から前記処理液を前記基板に吐出する処理位置と前記容器配置部との間で、前記貯留空間形成部を搬送する搬送部と、
前記吐出口からの前記処理液の吐出と当該吐出の停止とを切り替えるために、前記搬送部に装着された前記貯留空間形成部の内部に前記進入路を介して進入した状態で前記貯留空間の加圧と減圧とを行うように前記搬送部に設けられる進入部と、
を備え、
前記搬送部には、当該搬送部に前記貯留空間形成部が装着される装着位置における当該貯留空間形成部の有無を検出するための第２検出機構が設けられる基板処理装置。
前記着脱機構は、前記貯留空間形成部を把持する把持部を備える請求項９ないし１６のいずれか一つに記載の基板処理装置。
基板を載置する載置部と、
前記基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口及び当該貯留空間形成部の内部への進入路を形成するための進入路形成部と、を備える容器が配置される容器配置部と、
前記貯留空間形成部の着脱機構を備え、前記吐出口から前記処理液を前記基板に吐出する処理位置と前記容器配置部との間で、前記貯留空間形成部を搬送する搬送部と、
前記吐出口からの前記処理液の吐出と当該吐出の停止とを切り替えるために、前記搬送部に装着された前記貯留空間形成部の内部に前記進入路を介して進入した状態で前記貯留空間の加圧と減圧とを行うように前記搬送部に設けられる進入部と、
を備える基板処理装置を用いて行われる装置の運用方法において、
前記吐出口は下方に開口し、
前記容器は、前記貯留空間形成部に装着した状態で前記吐出口を下方から塞ぐ下蓋を備え、
前記貯留空間形成部を装着した状態で前記搬送部を昇降させ、前記容器配置部に配置される前記下蓋を当該貯留空間形成部に対して着脱させる工程と、
前記容器配置部に設けられる第１検出機構により、前記下蓋が装着される位置における前記貯留空間形成部の有無を検出する工程と、
を備える装置の運用方法。
基板を載置する載置部と、
前記基板を処理するための処理液を貯留する貯留空間が内部に形成された貯留空間形成部と、前記貯留空間形成部に設けられる前記処理液の吐出口及び当該貯留空間形成部の内部への進入路を形成するための進入路形成部と、を備える容器が配置される容器配置部と、
前記貯留空間形成部の着脱機構を備え、前記吐出口から前記処理液を前記基板に吐出する処理位置と前記容器配置部との間で、前記貯留空間形成部を搬送する搬送部と、
前記吐出口からの前記処理液の吐出と当該吐出の停止とを切り替えるために、前記搬送部に装着された前記貯留空間形成部の内部に前記進入路を介して進入した状態で前記貯留空間の加圧と減圧とを行うように前記搬送部に設けられる進入部と、
を備える基板処理装置を用いて行われる装置の運用方法において、
前記搬送部に設けられる第２検出機構により、当該搬送部に前記貯留空間形成部が装着される装着位置における当該貯留空間形成部の有無を検出する工程を備える装置の運用方法。