JP7522538B2 - モジュール型の高周波源 - Google Patents
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Description
高周波放射システムの、プラズマ処理に使用するためのものを含む用途は、数多くの異なるテクノロジー(例えば半導体産業、ディスプレイテクノロジー、微小電気機械システム(MEMS)におけるものなど)の製造において、広範囲に使用されている。現在、単一アンテナを有する無線周波数(RF)放射システムが、最もよく使用されている。しかし、より高い(マイクロ波周波数を含む)周波数でプラズマが生成される場合、プラズマ密度が高いプラズマ、及び/又は中性励起種の濃度が高いプラズマが、形成される。残念ながら、単一アンテナにより作り出される高周波放射システム(例えば、プラズマを形成するために使用されるもの)は、それらに固有の欠点に悩まされる。
Claims (11)
- 複数の高周波発出モジュールを備える、モジュール型高周波発出源であって、
各高周波発出モジュールが、
電圧制御回路及び電圧被制御発振器を備える発振モジュールと、
前記発振モジュールに連結された増幅モジュールと、
前記増幅モジュールに連結されたアプリケータと、
前記増幅モジュールと前記アプリケータの間に連結された検出モジュールと、
前記検出モジュールに連結された制御回路と、を備え、
前記検出モジュールが反射電力の測定値および順方向電力の測定値を前記制御回路に提供し、前記制御回路が、前記順方向電力および前記反射電力を解釈し、第1の制御信号を前記発振モジュールに提供するとともに第2の制御信号を前記増幅モジュールに提供し、
前記複数の高周波発出モジュールの前記発振モジュールはそれぞれ、1を上回る数の周波数における、制御された位相関係を有さない電磁放射を生成するよう構成される、
モジュール型高周波発出源。 - 各高周波発出モジュールが別個の発振モジュールを含む、請求項1に記載のモジュール型高周波発出源。
- 前記高周波発出モジュールのうちの2つ以上が1つの発振モジュールを共有する、請求項1に記載のモジュール型高周波発出源。
- 高周波がマイクロ波周波数である、請求項1に記載のモジュール型高周波発出源。
- 前記アプリケータから発出される高周波電磁放射がプラズマを励起する、請求項1に記載のモジュール型高周波発出源。
- 処理チャンバと、
モジュール型高周波発出源と、
を備える、処理ツールであって、
前記モジュール型高周波発出源が、
複数の高周波発出モジュールを備え、各高周波発出モジュールが、
電圧制御回路及び電圧被制御発振器を備える発振モジュールと、
前記発振モジュールに連結された増幅モジュールと、
前記増幅モジュールに連結されたアプリケータであって、一又は複数の基板が処理される前記処理チャンバ内のチャックに対向して配置されたアプリケータと、
前記増幅モジュールおよび前記アプリケータの間に連結された検出モジュールと、
前記検出モジュールに連結された制御回路と、を備え、
前記検出モジュールが反射電力の測定値および順方向電力の測定値を前記制御回路に提供し、前記制御回路が、前記順方向電力および前記反射電力を解釈し、第1の制御信号を前記発振モジュールに提供するとともに第2の制御信号を前記増幅モジュールに提供し、
前記複数の高周波発出モジュールの前記発振モジュールはそれぞれ、1を上回る数の周波数における、制御された位相関係を有さない電磁放射を生成するよう構成される、
処理ツール。 - 各高周波発出モジュールが別個の発振モジュールを含む、請求項6に記載の処理ツール。
- 前記高周波発出モジュールのうちの2つ以上が1つの発振モジュールを共有する、請求項6に記載の処理ツール。
- 高周波がマイクロ波周波数である、請求項6に記載の処理ツール。
- 前記アプリケータから発出される高周波電磁放射がプラズマを励起する、請求項6に記載の処理ツール。
- 高周波が0.1MHz~300GHzである、請求項6に記載の処理ツール。
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