JP7504930B2 - 両面表示パネル、両面表示パネルの製造方法及び電子機器 - Google Patents
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Description
複数の発光素子を含む発光素子層と、
前記発光素子層の一側に設けられるTFT層であって、前記発光素子に電気的に接続される第1TFTと、第2TFTとを含むTFT層と、
前記TFT層の前記発光素子層から離れる側に設けられ、前記第2TFTに電気的に接続される第1遮光性導電層と、
前記第1遮光性導電層の前記TFT層から離れる側に設けられて、前記第1遮光性導電層に電気的に接続されるエレクトロクロミック層と、
前記エレクトロクロミック層の前記第1遮光性導電層から離れる側に設けられて、前記エレクトロクロミック層に電気的に接続される透光性導電層と、を含む両面表示パネルを提供する。
前記透光性導電層の前記エレクトロクロミック層から離れる側に第2基板及び第2無機層が設けられ、前記第2無機層が前記第1遮光性導電層と前記第2基板との間に設けられ、
前記第1基板及び前記第2基板がそれぞれフレキシブル基板である。
前記透光性導電層の材料が透明導電性金属酸化物を含む。
前記透光性導電層の材料が酸化インジウムスズを含む。
第2基板、第2無機層、透光性導電層、エレクトロクロミック層、第1遮光性導電層、第1無機層、第1基板、TFT層及び発光素子層を順次積層し設けて、両面表示パネルを得るステップを含み、
前記発光素子層が複数の発光素子を含み、前記TFT層は、前記発光素子に電気的に接続され、前記発光素子を点灯させるための第1TFTと、前記エレクトロクロミック層に電気的に接続され、前記エレクトロクロミック層を変色させるための第2TFTとを含む両面表示パネルの製造方法をさらに提供する。
本発明及びその有益な効果を完全に理解するために、以下、図面を参照しながら説明する。以下の説明において、同じ符号は同じ部分を示す。
発光素子層10は、複数の発光素子11を含み、TFT層20は、発光素子11に電気的に接続され、発光素子11を点灯させるための第1TFT201と、エレクトロクロミック層40に電気的に接続され、エレクトロクロミック層40を変色させるための第2TFT202とを含む。
第1ビアホール、第2ビアホール、第3ビアホール及び第4ビアホールは共に貫通孔80を構成し、第2遮光性導電層70の部分領域が貫通孔80の孔壁を被覆して貫通孔80の底部に位置する透光性導電層50に接触し、第2遮光性導電層70の第1遮光性導電層30と接触する領域が、第2遮光性導電層70の透光性導電層50と接触する領域と繋がっていない。
Claims (18)
- それぞれがOLEDである複数の発光素子を含む発光素子層と、
前記発光素子層の一側に設けられるTFT層であって、前記発光素子に電気的に接続される第1TFTと、第2TFTとを含むTFT層と、
前記TFT層の前記発光素子層から離れる側に設けられ、前記第2TFTに電気的に接続される第1遮光性導電層と、
前記第1遮光性導電層の前記TFT層から離れる側に設けられて、前記第1遮光性導電層に電気的に接続されるエレクトロクロミック層と、
前記エレクトロクロミック層の前記第1遮光性導電層から離れる側に設けられて、前記エレクトロクロミック層に電気的に接続される透光性導電層と、を含む両面表示パネル。 - 前記TFT層と前記第1遮光性導電層との間に第1基板及び第1無機層が設けられ、前記第1基板が前記TFT層の近くに設けられ、前記第1無機層が前記第1遮光性導電層の近くに設けられ、
前記透光性導電層の前記エレクトロクロミック層から離れる側に第2基板及び第2無機層が設けられ、前記第2無機層が前記第1遮光性導電層と前記第2基板との間に設けられ、
前記第1基板及び前記第2基板がそれぞれフレキシブル基板である請求項1に記載の両面表示パネル。 - 前記第1基板と前記TFT層との間に第2遮光性導電層が設けられ、前記第2TFTのソースドレイン層及び前記第1遮光性導電層が前記第2遮光性導電層にそれぞれ電気的に接続される請求項2に記載の両面表示パネル。
- 前記両面表示パネルに表示領域及びボンディング領域が定義され、前記ボンディング領域において、前記エレクトロクロミック層、前記第1遮光性導電層、前記第1無機層及び前記第1基板に貫通孔が設けられ、前記第2遮光性導電層の部分領域が前記貫通孔の孔壁を被覆して前記貫通孔の底部に位置する前記透光性導電層に接触し、前記第2遮光性導電層の前記第1遮光性導電層と接触する領域が、前記第2遮光性導電層の前記透光性導電層と接触する領域と繋がっていない請求項3に記載の両面表示パネル。
- 前記貫通孔は、前記エレクトロクロミック層に設けられる第1ビアホールと、前記第1遮光性導電層に設けられる第2ビアホールと、前記第1無機層に設けられる第3ビアホールと、前記第1基板に設けられる第4ビアホールとを含み、前記第1ビアホール、前記第2ビアホール、前記第3ビアホール及び前記第4ビアホールの断面積が順に大きくなる請求項4に記載の両面表示パネル。
- 前記第1無機層の材料及び前記第2無機層の材料がそれぞれ酸化シリコン及び窒化シリコンの少なくとも1つを含む請求項2に記載の両面表示パネル。
- 前記第1遮光性導電層の材料が金属を含み、及び/又は
前記透光性導電層の材料が透明導電性金属酸化物を含む請求項1に記載の両面表示パネル。 - 前記第1遮光性導電層の材料が銀、モリブデン、チタン及び銅の少なくとも1つを含み、及び/又は
前記透光性導電層の材料が酸化インジウムスズを含む請求項7に記載の両面表示パネル。 - 前記エレクトロクロミック層は、離間して設けられるエレクトロクロミックユニットを複数含み、前記第1遮光性導電層が複数の導電ユニットを含み、各前記エレクトロクロミックユニットが1つの前記導電ユニットに対応して設けられて電気的に接続され、各前記導電ユニットが1つの前記第2TFTのソースドレイン層に電気的に接続される請求項1に記載の両面表示パネル。
- 前記TFT層は、ドレインが前記第2TFTのゲートに接続される第3TFTをさらに含み、前記第2TFTのソースが駆動電源に接続され、前記第2TFTのドレインが前記エレクトロクロミック層に接続される請求項1に記載の両面表示パネル。
- 第2基板、第2無機層、透光性導電層、エレクトロクロミック層、第1遮光性導電層、第1無機層、第1基板、TFT層及び発光素子層を順次積層し設けて、両面表示パネルを得るステップを含み、
前記発光素子層は、それぞれがOLEDである複数の発光素子を含み、前記TFT層は、前記発光素子に電気的に接続され、前記発光素子を点灯させるための第1TFTと、前記エレクトロクロミック層に電気的に接続され、前記エレクトロクロミック層を変色させるための第2TFTとを含む両面表示パネルの製造方法。 - 前記第1基板及び前記第2基板がそれぞれフレキシブル基板であり、
前記製造方法は、支持基板を提供し、前記支持基板に前記両面表示パネルを製造し、前記両面表示パネルの製造が終了した後、前記両面表示パネルを前記支持基板から剥離するステップをさらに含む請求項11に記載の製造方法。 - 前記両面表示パネルに表示領域及びボンディング領域が定義され、前記エレクトロクロミック層、前記第1遮光性導電層、前記第1無機層及び前記第1基板を設ける際に、それぞれ前記エレクトロクロミック層、前記第1遮光性導電層、前記第1無機層及び前記第1基板に第1ビアホール、第2ビアホール、第3ビアホール及び第4ビアホールを形成し、前記第1ビアホール、前記第2ビアホール、前記第3ビアホール及び前記第4ビアホールが互いに対応して貫通している請求項12に記載の製造方法。
- 前記両面表示パネルを製造する際に、前記第1基板と前記TFT層との間に第2遮光性導電層を設けるとともに、前記第2TFTのソースドレイン層及び前記第1遮光性導電層を前記第2遮光性導電層にそれぞれ電気的に接続し、
前記第1ビアホール、前記第2ビアホール、前記第3ビアホール及び前記第4ビアホールは共に貫通孔を構成し、前記第2遮光性導電層の部分領域が前記貫通孔の孔壁を被覆して前記貫通孔の底部に位置する前記透光性導電層に接触し、前記第2遮光性導電層の前記第1遮光性導電層と接触する領域が、前記第2遮光性導電層の前記透光性導電層と接触する領域と繋がっていない請求項13に記載の製造方法。 - 前記第1無機層の材料及び前記第2無機層の材料がそれぞれ酸化シリコン及び窒化シリコンの少なくとも1つを含む請求項11に記載の製造方法。
- 前記第1遮光性導電層の材料が金属を含み、及び/又は
前記透光性導電層の材料が透明導電性金属酸化物を含む請求項11に記載の製造方法。 - 前記第1遮光性導電層の材料が銀、モリブデン、チタン及び銅の少なくとも1つを含み、及び/又は
前記透光性導電層の材料が酸化インジウムスズを含む請求項16に記載の製造方法。 - 請求項1~10のいずれか一項に記載の両面表示パネルを含む電子機器。
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