CN110504387B - 一种显示基板及其制作方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示基板及其制作方法和显示装置，显示基板包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的发光单元，所述发光单元具有像素显示区域；位于所述衬底基板上的反射层，所述反射层的图形之间形成多个开口，且所述开口在所述衬底基板上的正投影的位置与所述像素显示区域在所述衬底基板上的正投影的位置相对应。本发明实施例中通过设置反射层，能够避免光线损失，有助于提高对比度，从而提高显示效果，同时，在像素显示区域以外的区域由于设置了反射层，也能够实现反射功能。因此，能够在实现反射功能时，提高显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法和显示装置。
背景技术
镜面显示装置指的是同时兼具显示和反射功能的显示装置，例如车载后视镜、化妆镜等，以车载后视镜为例，这种车载后视镜即通过其反射功能作为镜子实现观察车辆后方场景，又可以作为显示装置显示一些视频影像。
现有的镜面显示装置通常通过半透半反射膜来实现，然而这种显示装置的透过率较低，同时受到外部反射光线的影响，导致其实现显示功能时，对比度较低，所以现有的镜面显示装置显示效果较差。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板及其制作方法和显示装置，以解决现有的镜面显示装置显示效果较差的问题。
为了解决上述技术问题，本发明是这样实现的：
第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板上的发光单元，所述发光单元具有像素显示区域；
位于所述衬底基板上的反射层，所述反射层的图形之间形成多个开口，且所述开口在所述衬底基板上的正投影的位置与所述像素显示区域在所述衬底基板上的正投影的位置相对应。
可选的，还包括位于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层的图形在所述衬底基板上的正投影与所述反射层的图形在所述衬底基板上的正投影重合。
可选的，所述显示基板为底发射型显示基板；
所述反射层位于所述衬底基板和所述发光单元之间；或者
所述反射层位于所述衬底基板远离所述发光单元的一侧。
可选的，所述显示基板为顶发射型显示基板，所述反射层位于所述发光单元远离所述衬底基板的一侧。
可选的，所述显示基板中的金属层复用为所述反射层。
可选的，所述显示基板包含薄膜晶体管，所述金属层为所述薄膜晶体管的源漏电极层或栅极层中的一种或多种。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括以上任一项所述的显示基板。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括以下步骤：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上制作发光单元，所述发光单元具有像素显示区域；
所述显示基板的制作方法还包括：
制作反射层，所述反射层的图形之间形成多个开口，所述开口的位置与所述像素显示区域的位置相对应。
可选的，还包括：
利用第一掩膜版曝光制作像素界定层；
所述制作反射层，包括：
利用所述第一掩膜版曝光制作所述反射层。
可选的，所述衬底基板具有第一表面和与所述第一表面相背的第二表面，所述发光单元位于所述衬底基板的第一表面，所述显示基板为底发射型显示基板，所述制作反射层，包括：
在所述衬底基板的第一表面制作反射层；
所述在所述衬底基板上制作发光单元，包括：
在所述反射层远离所述衬底基板的一侧制作发光单元。
可选的，所述衬底基板具有第一表面和与所述第一表面相背的第二表面，所述发光单元位于所述衬底基板的第一表面，所述显示基板为底发射型显示基板，所述制作反射层，包括：
在所述衬底基板的第二表面制作反射层。
可选的，所述显示基板为顶发射型显示基板，所述制作反射层，包括：
在所述发光单元远离所述衬底基板的一侧制作反射层。
本发明实施例中通过设置反射层，且反射层的图形之间形成的开口的位置与像素显示区域的位置相对应，这样，发光单元的像素显示区域发出的光线能够透过反射层发射，实现正常显示功能，避免了对于发光单元发射的光线的遮挡和干扰，能够避免光线损失，有助于提高对比度，从而提高显示效果，同时，在像素显示区域以外的区域由于设置了反射层，也能够实现反射功能。因此，能够在实现反射功能时，提高显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术中镜面显示装置的结构示意图；
图2是本发明一实施例中提供的一种显示基板的结构示意图；
图3是本发明一实施例中提供的另一种显示基板的结构示意图；
图4是本发明一实施例中提供的另一种显示基板的结构示意图；
图5是本发明一实施例中显示基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1所示，现有镜面显示装置通常包括显示屏101和位于显示屏101上的半透反射部件102，该半透反射部件102在一个方向上实现反射功能，在另一个反向上实现透射功能。
具体的，沿着由显示屏101一侧到半透反射部件102的另一侧，即图中箭头方向，光线可以透射该半透反射部件102。在与箭头方向相反的方向上，光线无法透射该半透反射部件102，而只会在该半透反射部件102处发生反射，这样，该镜面显示装置既可以实现显示功能，也可以实现反射功能作为镜子使用，这种镜面显示装置被广泛应用于车辆后视镜、化妆镜等场景，但是该镜面显示装置显示区的透过率降低，并受到外部反射光的影响，导致镜面显示屏101显示的对比度较低，从而影响了显示效果。
本发明提供了一种显示基板。
本实施例的技术方案主要针对底发射型的显示基板，当然，也可以应用于顶发射型的显示基板。在一个实施例中，如图2至图4所示，该显示基板包括衬底基板201、发光单元和反射层202。
发光单元位于衬底基板201上，且发光单元具有像素显示区域203。这里，发光单元的像素显示区域203指的是显示基板的各子像素对应的区域，也可以理解为，发出的光线能够传递至显示基板的外侧的部分对应的区域。
反射层202位于衬底基板201上，当使用者观察该显示基板时，反射层202相当于镜面能够实现反射功能。
进一步的，如图2至图4所示，反射层202的图形之间形成多个开口204，且开口204的位置与像素显示区域203的位置相对应。
开口204的位置与像素显示区域203的位置相对应指的是开口204在显示基板上的正投影和像素显示区域203在显示基板上的正投影的位置是重合的，或者说，两者在衬底基板201上的正投影的至少部分是重合的。这样，当需要显示图像时，像素显示区域203发出的光线能够通过该开口204传递至显示基板的外侧，从而实现显示功能。
由于像素显示区域203对应反射层202的图形之间的开口204，所以光线受到的阻挡较小，有助于保证显示亮度和显示效果。
本发明实施例中通过设置反射层202，且反射层202的图形之间形成的开口204的位置与像素显示区域203的位置相对应，这样，发光单元的像素显示区域203发出的光线能够透过反射层202发射，实现正常显示功能，避免了对于发光单元发射的光线的遮挡和干扰，能够避免光线损失，有助于提高对比度，从而提高显示效果，同时，在像素显示区域203以外的区域由于设置了反射层202，也能够实现反射功能。因此，能够在实现反射功能时，提高显示效果。
可选的，该显示基板还包括位于衬底基板201上的像素界定层(PDL)205，像素界定层205的图形在衬底基板201上的正投影与反射层202的图形在衬底基板201上的正投影重合。
以OLED(有机发光二极管)显示基板为例说明，像素界定层205界定出各子像素的区域，像素界定层205所界定出的区域发射的光线实际上形成显示的图像，该区域即为像素显示区域203。
通过使像素界定层205的图形在衬底基板201上的正投影与反射层202的图形在衬底基板201上的正投影重合，一方面能够尽可能的避免像素显示区域203被反射层202遮挡，另一方面也能够使得反射层202的图形的面积最大化，有利于提高反射效果及显示效果。
本实施例的技术方案主要针对底发射型显示基板。如图2或图3所示，该显示基板包括主要包括衬底基板201、薄膜晶体管、发光单元和封装结构。
更为具体的，薄膜晶体管主要包括有源层206、栅极层(Gate)207和源漏电极(Source&Drain)208，发光单元主要包括第一电极层209、发光层210和第二电极层211，封装结构主要包括层叠设置的第一封装层212、第二封装层213和第三封装层214，此外，该显示基板还可以包括缓冲层(buffer)215、栅极绝缘层(GI)216、电介层(ILD)217、平坦层(PLN)218、像素界定层205(PDL)等结构或功能膜层。
作为底发射型显示基板，其衬底基板201的材料为透明材料，例如聚酰亚胺(PI)，也可以选择玻璃(Glass)。第一电极层209靠近显示基板的出光侧，该第一电极层209为透明电极层，其材料通常可以选择氧化铟锡(ITO)等。第二电极层211通常为金属电极，其材料则可以选择铝、镁、银、或氧化铟锡等。有源层206的材料根据显示基板的类型可以选择多晶硅(p-Si)或者非晶硅(a-Si)。第一封装层212的材料可以选择SiON，能够具有良好的绝缘效果以及对于水氧的隔离效果，第二封装层213为喷墨打印层(IJP)，第三封装层214的材料可以选择SiNx。
反射层202的材料可以选择铝、钛和钼等金属材料中的一种或多种，能够实现良好的反射效果。
实施时，可以参考相关技术对显示基板的结构及所选用的材料做出进一步调整，此处不作进一步限定和描述。
衬底基板201一侧为显示基板的出光侧，如图2所示，反射层202可以设置于衬底基板201和发光单元之间。具体的，在衬底基板201上首先制作反射层202，然后在反射层202上进一步制作薄膜晶体管、发光单元等结构。
如图3所以，反射层202还可以设置于衬底基板201远离发光单元的一侧，具体的，例如可以首先在衬底基板201的一侧表面制作反射层202，然后将该衬底基板201翻转，并在衬底基板201的另一侧表面制作薄膜晶体管、发光单元以及封装层等结构，显然，也可以在薄膜晶体管、发光单元以及封装层等结构制作完成之后，将显示基板翻转并在衬底基板201上制作反射层202。
此外，本实施例的技术方案还可以应用于顶发射型显示基板，如图4所示，在另一个具体实施方式中，显示基板为顶发射型显示基板。该显示基板包括主要包括衬底基板201、薄膜晶体管、发光单元和封装结构。
薄膜晶体管主要包括有源层206、栅极层207和源漏电极208，发光单元主要包括第一电极层209、发光层210和第二电极层211，封装结构主要包括层叠设置的第一封装层212、第二封装层213和第三封装层214，此外，该显示基板还可以包括缓冲层215、栅极绝缘层216、电介层217、平坦层218、像素界定层205等结构或功能膜层。其材料及具体结构可参考上述实施例或相关技术，此处不再赘述。
应当理解的是，区别于底发射型显示基板，当该显示基板为顶发射型显示基板时，第二电极层211位于显示基板的出光侧，所以第二电极层211为透明电极，第一电极层209通常为金属电极。
反射层202位于发光单元远离衬底基板201的一侧。具体的，反射层202可以设置于发光单元与封装层之间，能够实现良好的镜面反射效果。
进一步的，由于为了保护发光单元，还可以在发光单元和反射层202之间设置保护层219，该保护层219设置于反射层202和第二电极层之间，主要起到绝缘及保护第二电极层的效果，其材料可以选择SiNx等，此处不作进一步限定。
应当理解的是，上述各具体实施方式中，反射层202的位置并非固定不变的。例如，缓冲层215可能为多层结构复合的结构，则反射层202还可以制作在该多层结构的缓存层中；类似的，衬底基板201可以选择多层结构复合的聚酰亚胺层时，反射层202也可以制作在该聚酰亚胺层中。
进一步的，在一个可选的具体实施方式中，还可以复用显示基板中的金属层作为该反射层202，从而起到简化工艺和节约成本的效果。
具体的，可以选择显示基板中的金属层作为反射层202，实施时，可以通过调整金属层的走线位置，使其走线规避像素显示区域203，同时，制作金属层时，使其具有良好的反射效果，从而实现反射层202的功能，这样，不需要额外制作反射层202即可实现反射功能。
具体的，所选用的金属层可以为栅极层207和源漏电极208中的一种或两种，也就是说，可以单独通过栅极层207或源漏电极208实现反射功能，也可以同时通过栅极层207和源漏电极208实现反射功能。
具体的，以底发射型显示基板为例说明，实施时，首先可以对栅极层207和源漏电极208的走线进行设计。一方面，其走线应当规避像素显示区域203，另一方面其走线应当尽可能大的覆盖像素显示区域203以外的区域；另一方面，由于底发射型显示基板靠近衬底基板201的一侧为出光侧，所以需要使栅极层207和源漏电极208靠近衬底基板201的一侧具有良好的反射效果，从而实现对于光线的发射功能。
此外，应当理解的是，反射层202只要能实现对于光线的反射即可，其位置可以相应的进行调节，而反射层202越靠近显示基板的出光侧，则反射过程中光线受到的干扰也就越小，其实现的镜面反射的效果也就越好。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括以上任一项的显示基板。由于本实施例的显示装置包括了上述显示基板实施例的全部技术方案，因此至少能实现上述全部技术效果，此处不再赘述。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法。
如图5所示，在一个实施例中，该显示基板的制作方法包括以下步骤：
步骤501：提供一衬底基板；
步骤502：在所述衬底基板上制作发光单元，所述发光单元具有像素显示区域；
该显示基板的制作方法还包括：
步骤503：制作反射层，所述反射层的图形之间形成多个开口，所述开口的位置与所述像素显示区域的位置相对应。
本实施例中，所提供的显示基板以及所制作的发光单元均可参考相关技术，此处不作进一步限定和描述。
以使用金属材料制作反射层为例说明，实施时，首先在指定的位置利用金属材料沉积金属层，然后在金属层上涂覆光刻胶，再利用掩膜版对光刻胶进行曝光，最后对金属层进行刻蚀即形成了反射层的图形。制作反射层的工艺具体可参考相关技术，此处不再赘述。
本发明实施例中通过设置反射层，且反射层的图形之间形成的开口的位置与像素显示区域的位置相对应，这样，发光单元的像素显示区域发出的光线能够透过反射层发射，实现正常显示功能，避免了对于发光单元发射的光线的遮挡和干扰，能够避免光线损失，有助于提高对比度，从而提高显示效果，同时，在像素显示区域以外的区域由于设置了反射层，也能够实现反射功能。因此，能够在实现反射功能时，提高显示效果。
进一步的，该显示基板还包括像素界定层，制作像素界定层具体包括曝光、显影和刻蚀等步骤。
在这一过程中，曝光的过程具体包括：利用第一掩膜版曝光制作像素界定层。
进一步的，上述步骤502包括：
利用所述第一掩膜版曝光制作所述反射层。
可以理解为，制作像素界定层和制作反射层使用的是同一掩膜版(mask)。由上述分析可知，控制像素界定层的图形和反射层的图形相同，能够避免像素显示区域被反射层遮挡，以及提高反射效果及显示效果。
通过利用同一掩膜版在制作像素界定层和制作反射层过程中曝光，在忽略可能存在的误差的条件下，可以认为所制作的像素界定层的图像和反射层的图形是相同的，且在衬底基板上的正投影是重合的，能够实现提高反射效果及显示效果，同时，不需要额外设计和制作掩膜版，有利于节约成本。
应当理解的是，上述步骤503可能在步骤502之前进行，也可能在步骤502之后进行。
例如，在一个具体实施方式中，显示基板为底发射型显示基板，衬底基板具有第一表面和与第一表面相背的第二表面，发光单元位于衬底基板的第一表面，制作反射层，包括：
在所述衬底基板的第一表面制作反射层；
所述在所述衬底基板上制作发光单元，包括：
在所述反射层远离所述衬底基板的一侧制作发光单元。
在该具体实施方式中，步骤503在步骤502之前进行，即先在衬底基板上制作反射层，然后在反射层上制作薄膜晶体管、发光单元和封装结构等。
在另一个具体实施方式中，衬底基板具有第一表面和与第一表面相背的第二表面，发光单元位于衬底基板的第一表面，显示基板为底发射型显示基板，制作反射层，包括：
在所述衬底基板的第二表面制作反射层。
在该具体实施方式中，步骤503可以在步骤502之前进行，也可以在步骤502之后进行。例如，可以先在衬底基板的一侧制作反射层，然后将衬底基板翻转，然后在衬底基板的另一侧制作薄膜晶体管、发光单元、封装结构等；也可以先完成薄膜晶体管、发光单元、封装结构的制作之后，将衬底基板翻转，然后制作反射层。
在上述两个具体实施方式中，如果先制作反射层，则不需要考虑制作过程中对其他结构可能造成的影响，因此可以采用常规较高温度下的制作工艺，所制作的膜层更加致密，同时，所制作的膜层也较为平坦，反射效果更好。
在又一个具体实施方式中，显示基板为顶发射型显示基板，该步骤503包括：
在所述发光单元远离所述衬底基板的一侧制作反射层。
在该具体实施方式中，步骤503则在步骤502之后进行，即先完成发光单元的制作，然后再制作反射层。
应当理解的是，如果步骤503则在步骤502之后进行，则需要选用低温沉积工艺完成，以避免高温对其他结构，例如发光单元，造成影响。
应当理解的是，在该显示基板为顶发射型显示基板的情况下，在制作反射层之前，还可能包括制作上述显示基板实施例中保护层的步骤，具体制作工艺可参考相关技术，此处不再赘述。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (6)
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
位于所述衬底基板上的多个发光单元，所述发光单元具有像素显示区域；
位于所述衬底基板上的反射层，所述反射层的图形之间形成多个开口，且所述开口的位置与所述像素显示区域的位置相对应；
所述显示基板为底发射型显示基板；
所述反射层位于所述衬底基板和所述发光单元之间，或者所述反射层位于所述衬底基板远离所述发光单元的一侧；
还包括位于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层和所述反射层使用同一掩膜版制作，所述像素界定层的图形在所述衬底基板上的正投影与所述反射层的图形在所述衬底基板上的正投影重合，所述反射层在所述发光单元之前制作。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板中的金属层复用为所述反射层。
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包含薄膜晶体管，所述金属层为所述薄膜晶体管的源漏电极层或栅极层中的一种或多种。
4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层的材料包括铝、钛和钼中的一种或多种。
5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至4中任一项所述的显示基板。
6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上制作发光单元，所述发光单元具有像素显示区域；
所述显示基板的制作方法还包括：
制作反射层，所述反射层的图形之间形成多个开口，所述开口的位置与所述像素显示区域的位置相对应，所述反射层在所述发光单元之前制作；
其中，所述衬底基板具有第一表面和与所述第一表面相背的第二表面，所述发光单元位于所述衬底基板的第一表面，所述显示基板为底发射型显示基板，所述制作反射层，包括：
在所述衬底基板的第一表面制作反射层；
所述在所述衬底基板上制作发光单元，包括：
在所述反射层远离所述衬底基板的一侧制作发光单元；
或者：
所述制作反射层，包括：
在所述衬底基板的第二表面制作反射层；
还包括：
利用第一掩膜版曝光制作像素界定层；
所述制作反射层，包括：
利用所述第一掩膜版曝光制作所述反射层，所述像素界定层的图形在所述衬底基板上的正投影与所述反射层的图形在所述衬底基板上的正投影重合。
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