JP7484900B2 - 1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 38
- GDPWRLVSJWKGPJ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound ClC=C(F)C(F)(F)F GDPWRLVSJWKGPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 189
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 114
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 91
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 35
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 35
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 33
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 14
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound ClC(Cl)=C(F)C(F)(F)F QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 149
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 99
- 229910002528 Cu-Pd Inorganic materials 0.000 description 60
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 31
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 23
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 20
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 18
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 10
- FXRLMCRCYDHQFW-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoropropene Chemical compound FC(=C)C(F)(F)F FXRLMCRCYDHQFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 copper halide Chemical class 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019032 PtCl2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 2
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005796 dehydrofluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- INEMUVRCEAELBK-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoropropane Chemical compound CC(F)C(F)(F)F INEMUVRCEAELBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PENBTNKXKCPEQS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,3,3,3-tetrafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(Cl)(Cl)Cl PENBTNKXKCPEQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFHFXEYKXJKYMG-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloro-1,3,3,3-tetrafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)C(F)(Cl)Cl WFHFXEYKXJKYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAHBEACGJQDUPF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,3,3,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)C(F)(F)Cl XAHBEACGJQDUPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEWLGHZLFAUBQH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,2,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound FC(Cl)=C(F)C(F)(F)Cl AEWLGHZLFAUBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C=C FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021593 Copper(I) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021594 Copper(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016509 CuF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018054 Ni-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018481 Ni—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002674 PdO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019029 PtCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019023 PtO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019020 PtO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- YKIOKAURTKXMSB-UHFFFAOYSA-N adams's catalyst Chemical compound O=[Pt]=O YKIOKAURTKXMSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- PMOWTIHVNWZYFI-WAYWQWQTSA-N cis-2-coumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1O PMOWTIHVNWZYFI-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L copper(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Cu+2] GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003077 lignite Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N nickel(II) oxide Inorganic materials [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JQPTYAILLJKUCY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) oxide Chemical compound [O-2].[Pd+2] JQPTYAILLJKUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003415 peat Substances 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplatinum Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)Cl FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/89—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
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- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
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- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
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- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
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Description
(1)Cu含有触媒の存在下、1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンを水素と反応させて、1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンを得る、1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法であって、
Cu含有触媒が、Cu-M触媒、および、Cu触媒からなる群から選択される触媒であり、
Cu-M触媒が、CuまたはCu原子を有する化合物と、Pd、PtおよびNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属またはPd、PtおよびNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子を有する化合物と、を含み、Cu原子に対するPd、PtおよびNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子の質量比が1/40以下である触媒であり、
Cu触媒が、CuまたはCu原子を有する化合物である、1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(2)上記Cu含有触媒が担体に担持され、
上記担体が、活性炭を含む担体である、(1)に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(3)上記Cu含有触媒の担持量が、上記担体の質量の100質量部に対して、1~50質量部である、(2)に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(4)上記反応の反応温度が30℃以上350℃以下である、(1)~(3)のいずれか1項に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(5)1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンに対する水素のモル比が、0.1~50である、(1)~(4)のいずれかに記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(6)Cu含有触媒がCu-M触媒であり、
Cu-M触媒が、CuClを含む、(1)~(5)のいずれかに記載に1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(7)Cu-M触媒が、PdおよびPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属、または、PdおよびPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子を有する化合物を含む、(6)に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
(8)前記質量比が1/60以下である、(1)~(7)のいずれかに記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
本明細書において、特に断らずに化合物名や化合物の略称を用いた場合には、Z体およびE体からなる群から選ばれる少なくとも1種を示し、より具体的には、Z体もしくはE体、または、Z体とE体との任意の割合の混合物を示す。
化合物名や化合物の略称の後ろに(E)または(Z)を付した場合には、化合物の(E)体または(Z)体を示す。例えば、1224yd(Z)はZ体を示し、1224yd(E)はE体を示す。
ただし、担体として用いる活性炭中に灰分として存在するアルカリ金属やアルカリ土類金属など本反応に関与しないことが明確な金属元素についてはこの限りではない。この点については、後述するCu-M触媒も同様である。
Cu原子を有する化合物としては、1224ydの収率が向上する点で、CuClが好ましい。
第1の成分および第2の成分以外の成分としては、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Au、Bi、Al等が挙げられる。
反応収率の点から、M/Cuが、1/999以上が好ましく、1/399以上がより好ましく、1/199以上がさらに好ましい。
Cu含有触媒としては、反応収率および1224ydの収率の点から、Cu-M触媒が好ましい。
なお、CuClを含むCu-M触媒においては、後述する還元処理を施すことなく、優れた効果を奏することができる。
活性炭としては、木材、木炭、果実ガラ、ヤシガラ、泥炭、亜炭、石炭等の原料から調製したものを使用しうるが、鉱物質原料よりも植物原料から得られたものが好ましく、特にヤシガラ活性炭が最適である。担体形状としては、長さ2~5mm程度の成形炭、約4~50メッシュ程度の破砕炭、2~50メッシュの粒状炭等を用いることができる。反応収率および1224ydの収率の点から、4~20メッシュの破砕炭または4~20メッシュの粒状炭が好ましい。
Cu触媒およびCu-M触媒が担持された担体の調製方法は、従来公知の方法を採用でき、例えば、Satterfield著、「Heterogeneous Catalysts in Industrial Practice」、2nd ed.(McGraw-Hill、New York、1991)、pp.87~112に記載されたとおりに、析出法および含浸法のいずれかの方法が挙げられる。
Cu-M触媒を担体に担持する場合、第1の成分と第2の成分とをそれぞれ個別に担体に担持させたものを混合物として用いてもよく、第1の成分と第2の成分との混合物を担体に担持させてもよい。
Cu含有触媒は、活性炭からなる担体に担持されていることが好ましい。
Cu含有触媒を還元処理する際の温度は150℃以上が好ましい。また、350℃以下が好ましい。150℃以上で還元処理を行うことにより触媒の活性が十分に発揮できる。また、350℃以下の場合、金属のシンタリングが抑制され、活性がより優れる。
225caを含む225は、市販品を用いてもよい。市販品としては、アサヒクリンAK225(AGC社製、225caの48モル%と225cbの52モル%との混合物)等が挙げられる。相間移動触媒としては、テトラブチルアンモニウムブロマイド(TBAB)が好ましい。
反応器としては、形状および構造は特に限定されない。例えば、後述する気相反応の場合、内部にCu含有触媒を充填できる円筒状の縦型反応器が挙げられる。
円筒状の縦型反応器に充填する触媒量はガス線速や接触時間によって最適充填長が異なることから様々な使用量が用いられるが、一般的に円筒状の縦型反応器に10cmから500cmの範囲で充填される。
反応器の材質としては、ガラス、鉄、ニッケル、ステンレス鋼、鉄またはニッケルを主成分とする合金等が挙げられる。
反応器は、電気ヒータ等の加熱部を内部に備えていてもよい。反応器は、内部の温度を測定するための温度計が挿入される、さや管を有していてもよい。
液相反応とは、液体状態の1214yaを水素と反応させることをいう。
気相反応とは、気体状態の1214yaを水素と反応させることをいう。
液相反応で実施する場合は、反応器内部の圧力が高くなり高圧反応となることから、気相反応で実施することがより好ましい。
上記反応は、バッチ式で行なってもよいし、半連続式、連続流通式で行なってもよい。
液相反応の具体的な手順としては、例えば、1214yaと触媒との混合物が液体状態として存在する反応器内に、連続的または非連続的に水素を供給し、反応によって生成する1224ydを反応器内から連続または非連続的に抜き出す手順が挙げられる。
液相反応における反応時間は、1224ydの収率および製造効率の点から、0.1~100時間が好ましく、0.5~50時間がより好ましく、1~20時間がさらに好ましい。反応時間は、反応器内での原料(1214yaおよび水素)の滞留時間を意味する。 液相反応は、必要に応じて、溶媒の存在下にて実施してもよい。溶媒としては、例えばCF3(CF2)nCF3(ただし、式中nは、3~6の整数を表す。)で表される炭素数5~8の直鎖パーフルオロアルキル化合物が挙げられる。
気相反応の具体的な手順としては、ガス状態に加熱された原料である1214yaと水素とを反応器内に連続的に供給して、反応器に充填されたCu含有触媒と、ガス状態の1214yaおよび水素とを接触させて、1224ydを得る手順が挙げられる。
流量の調整、副生物の抑制、触媒失活の抑制などに有効である点から、上記反応に不活性なガス(希釈ガス)を反応器に供給してもよい。希釈ガスとしては、例えば、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、アルゴンが挙げられる。
「Cu-M触媒」を用いる場合は、30℃以上350℃以下が好ましく、100℃以上300℃以下がより好ましく、160℃以上225℃以下がさらに好ましく、180℃以上225℃以下が特に好ましい。反応器内の温度が上記範囲であることにより、1224ydの収率がより高くなる。一方、副生物の生成を抑え、1224ydの選択率を向上できる観点からは、200℃以上280℃以下が好ましく、200℃以上250℃以下がより好ましく、200℃以上225℃以下がさらに好ましい。
反応器内の温度は、反応器に供給される1214yaおよび水素の温度および圧力を調整することにより制御できる。必要に応じて、電気ヒータやマイクロウェーブ発生機等により反応器内を補助的に加熱できる。
反応時間は、原料である1214yaおよび水素の反応器内での滞留時間に相当し、1214yaおよび水素の反応器への供給量(流量)を調節することにより制御できる。
液相反応における反応器内の圧力は、原料が液体として反応器内に存在する圧力で実施することが好ましく、通常、反応温度における原料物質の蒸気圧より高い圧力で実施することが好ましい。例えば、0.1~10MPaが好ましい。
得られる1224ydがZ体とE体との混合物である場合、E体の質量に対するZ体の質量の比(Z/E)は、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、5以上がさらに好ましく、10以上が特に好ましい。上記比の上限は、通常、100である。
例えば、1224yd(Z)は1224yd(E)よりも化学的安定性が高い。このため、質量比(Z/E)が上記下限値以上であれば、1224ydを、例えば、洗浄剤、冷媒、熱媒体、発泡剤、溶媒等の各種用途に使用しやすい。
生成物に不純物が含まれる場合、得られた生成物から1224ydを蒸留等の公知の方法により分離する処理を実施してもよい。
反応装置20は、反応器1を備える。反応器1には、1214yaの供給ライン2、水素の供給ライン3、および、希釈ガスである窒素の供給ライン4が接続されている。
反応器1は、電気ヒータ等の加熱部を備えることが好ましい。
1214yaの供給ライン2、および、水素の供給ライン3は、それぞれ別々に反応器1に接続されてもよいが、反応器1の手前で連結されて反応器1に接続されてもよい。例えば、図1に示すように、1214yaの供給ライン2、水素の供給ライン3、および、窒素の供給ライン4を連結する。これにより、1214yaと水素と窒素との混合物が、混合物供給ライン5を経由して、反応器1に供給される。
反応器1から取り出された反応混合物は、出口ライン7以降の処理によって、塩化水素、フッ化水素などの酸性物質、水蒸気、水が除去される。こうして得られたガスを、以下、「出口ガス」という。出口ガス中の各成分が、ガスクロマトグラフ(GC)等の分析装置により分析および定量される。
この場合、出口ガスに含まれる1224yd以外の化合物としては、未反応原料である1214yaに加えて、1234yf、1243zfおよび254eb等が挙げられる。
《Cu触媒》
含浸法により塩化銅を活性炭に担持し、その後、塩化銅を水素還元して、活性炭担持の銅触媒(Cu触媒)を調製した。以下、含浸法を用いた具体的な調製手順を記す。
塩化銅(II)(25.40g、純正化学社製)、イオン交換水(160.0g)、および、活性炭(120.0g、白鷺C2X、大阪ガスケミカル社製)をフラスコ内で混合し、3日間静置した後、エバポレーターを用いて水を減圧留去した。フラスコ内の混合物を、反応管に移した後、反応管を200℃に保ち、窒素ガスを16.7mL/秒で16時間供給して乾燥した。これにより、塩化銅が担持された活性炭を得た。その後、還元処理を行った。すなわち、反応管を180℃に保ち、水素ガスを1.67mL/秒で16時間供給し、塩化銅を還元して銅にした。こうして、活性炭に担持されたCu触媒を得た。Cu触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
含浸法により塩化銅および塩化パラジウムを活性炭に担持した。その後、塩化銅および塩化パラジウムを水素還元して、活性炭担持の銅/パラジウム触媒(Cu-Pd触媒)を調製した。ただし、触媒の調製方法は、含浸法に限定されない。以下、含浸法を用いた具体的な調製手順を記す。
塩化銅(II)(25.40g、純正化学社製)、塩化パラジウム(II)(0.33g、純正化学社製)、イオン交換水(160.0g)、塩酸(35質量%、ナカライテスク社製)、および、活性炭(120.0g、白鷺C2X、大阪ガスケミカル社製)をフラスコ内で混合し、3日間静置した後、エバポレーターを用いて水を減圧留去した。フラスコ内の混合物を、反応管に移した後、反応管を200℃に保ち、窒素ガスを16.7mL/秒で16時間供給して乾燥した。これにより、塩化銅および塩化パラジウムが担持された活性炭を得た。その後、還元処理を行った。すなわち、反応管を180℃に保ち、水素ガスを1.67mL/秒で16時間供給し、塩化銅および塩化パラジウムを還元して、それぞれ銅およびパラジウムにした。こうして、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/60であるCu-Pd触媒を得た。Cu―Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
はじめに混合する塩化パラジウム(II)の量を0.99gに変更した以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/20であるCu-Pd触媒を得た。Cu―Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
はじめに混合する塩化パラジウム(II)の量を0.20gに変更した以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/99であるCu-Pd触媒を得た。Cu―Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
はじめに混合する塩化パラジウム(II)の量を0.10gに変更した以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/199であるCu-Pd触媒を得た。Cu―Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
はじめに混合する塩化パラジウム(II)の量を0.05gに変更した以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/399であるCu-Pd触媒を得た。Cu―Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
はじめに混合する塩化パラジウム(II)の量を0.02gに変更した以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/999であるCu-Pd触媒を得た。Cu―Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
塩化銅(II)を使用しなかった以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持されたPd触媒を得た。Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して9質量部であった。
《例1》
図1に基づいて説明した反応装置20と同様の反応装置を用いて、以下に説明するように、1214yaと水素とを反応させて、1224ydを得た。
反応器1として、電気炉内に設置した、SUS304製、内径35.3mmの反応管を使用した。反応管のさや管には、内部の温度を測定するための温度計を挿入した。反応管に、上述した方法により調製した、活性炭に担持されたCu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)を30cmの長さで充填した。反応管内の温度は180℃に管理した。
このような反応器1に、ステンレス鋼製チューブである供給ライン2、3および4から、それぞれ、1214ya、水素および窒素を連続的に供給した。予熱器2a、3aおよび4aとしては、炉内温度220℃に設定した電気炉を用いた。1214ya、水素および窒素の供給割合が、それぞれ、25モル%、25モル%および50モル%となるように制御して反応器1に供給した。
反応器1の内部における混合ガス(1214ya、水素および窒素)の滞留時間が120秒間となるように、混合ガスの流量(単位時間当たりの供給量)を制御した。
反応器1の内部の圧力は、大気圧と同一であった。
Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)に代えて、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/199)を使用した以外は、例1と同様にして反応を行なった。結果を下記表1に示す。
Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)に代えて、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/99)を使用した以外は、例1と同様にして反応を行なった。結果を下記表1に示す。
Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)に代えて、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/20)を使用した以外は、例1と同様にして反応を行なった。結果を下記表1に示す。
Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)に代えて、Pd触媒を使用した以外は、例1と同様にして反応を行なった。結果を下記表1に示す。
なかでも、例1~例3と例4との比較より、Pd/Cuが1/199以上1/40以下の場合、より効果が優れることが確認された。
反応温度を200℃にした以外は、それぞれ、例1~例3と同様にして反応を行った。結果を下記表2に示す。
Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)に代えて、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)を使用した以外は、例1と同様にして反応を行なった。結果を下記表2に示す。
反応温度を200℃にした以外は、それぞれ、例4~例5と同様にして反応を行った。結果を下記表2に示す。
なかでも、例6~例9の比較より、Pd/Cuが1/60以下の場合、より効果が優れることが確認された。
Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/399)に代えて、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/999)を使用し、反応温度を220℃にした以外は、例1と同様にして反応を行なった。結果を下記表3に示す。
反応温度を220℃にした以外は、それぞれ、例6~例11と同様にして反応を行った。結果を下記表3に示す。
反応温度を180℃~225℃にした以外は、それぞれ、例3と同様にして反応を行った。得られた生成物(出口ガス)の組成分析は、ガスクロマトグラフ(GC)を用いて行なった。カラムはDB-1301(長さ60m×内径250μm×厚み1μm、アジレント・テクノロジー株式会社製)を用いた。反応器に供給した1214yaのモル量に対して、反応で消費された1214yaのモル量の割合(単位:%)を求め、これを「1214ya転化率」とした。この値が大きいほど、触媒の活性が高いと評価できる。結果を下記表4に示す。
表5に記載の触媒および反応温度にした以外は、それぞれ、例1と同様にして反応を行った。1214ya転化率が70~90%となった時点で反応を終了した。得られた生成物(出口ガス)の組成分析は、ガスクロマトグラフ(GC)を用いて行なった。カラムはDB-1301(長さ60m×内径250μm×厚み1μm、アジレント・テクノロジー株式会社製)を用いた。反応で消費された1214yaのモル量に対する1224yd、1234yfおよび1243zfの割合(単位:%)を求め、これを「1224yd、1234yf、1243zf選択率」とした。1224yd選択率の値が大きいほど、触媒の選択性が高いと評価できる。1214ya転化率、1224yd収率の結果を下記表5に示す。
原料を塩化銅(II)から塩化銅(I)(ナカライテスク社製)に変更し、混合する各原料の量を塩化銅(I)14.99g、塩化パラジウム(II)0.16g、イオン交換水295.9g、塩酸(35質量%)40.51g、および、活性炭149.9gに変更し、還元処理を行わなかった以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/100であるCuCl-PdCl2触媒を得た。CuCl-PdCl2触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。
原料を塩化銅(II)から塩化銅(I)(ナカライテスク社製)に変更し、混合する各原料の量を塩化銅(I)19.82g、塩化パラジウム(II)0.05g、イオン交換水252.8g、塩酸(35質量%)79.48g、および、活性炭200.0gに変更し、還元処理を行わなかった以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/300であるCuCl-PdCl2触媒を得た。CuCl-PdCl2触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。
原料を塩化銅(II)から塩化銅(I)(ナカライテスク社製)に変更し、混合する各原料の量を塩化銅(I)19.92g、塩化パラジウム(II)0.04g、イオン交換水107.2g、塩酸(35質量%)242.48g、および、活性炭198.8gに変更し、還元処理を行わなかった以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/500であるCuCl-PdCl2触媒を得た。CuCl-PdCl2触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。
原料を塩化銅(II)から塩化銅(I)(ナカライテスク社製)に変更し、かつ、塩化パラジウム(II)から塩化白金(II)(和光純薬社製)に変更し、混合する各原料の量を塩化銅(I)20.58g、塩化白金(II)0.26g、イオン交換水100.1g、塩酸(35質量%)300.56g、および、活性炭198.0gに変更し、還元処理を行わなかった以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPtの質量比(Pt/Cu)が1/60であるCuCl-PtCl2触媒を得た。CuCl-PtCl2触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。
原料を塩化銅(II)から塩化銅(I)(ナカライテスク社製)に変更し、かつ、塩化パラジウム(II)から塩化白金(II)(和光純薬社製)に変更し、混合する各原料の量を塩化銅(I)21.10g、塩化白金(II)0.18g、イオン交換水101.9g、塩酸(35質量%)263.25g、および、活性炭198.1gに変更し、還元処理を行わなかった以外は、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/60)と同様の操作を行ない、活性炭に担持された、Cuに対するPtの質量比(Pt/Cu)が1/99であるCuCl-PtCl2触媒を得た。CuCl-PtCl2触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。
また、酸化銅(II)および酸化パラジウム(II)を原料として、活性炭に担持された、CuO-PdO触媒を用意し、還元処理を行ってCu-Pd触媒を得た。還元処理は、反応管を250℃に保ち、水素ガスを100mL/秒、窒素ガスを1000mL/秒で6時間供給した。上記CuO-PdO触媒を前駆体として得られるCu-Pd触媒において、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)は1/110であり、Cu-Pd触媒の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。
また、上記CuO-PdO触媒を前駆体として得られるCu-Pd触媒(Pd/Cu=1/110)を製造する手順を参照し、使用する原料の量を調整して、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/84であるCu-Pd触媒(Pd/Cu=1/84)、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/566であるCu-Pd触媒(Pd/Cu=1/566)、Cuに対するPdの質量比(Pd/Cu)が1/750であるCu-Pd触媒(Pd/Cu=1/750)を調製した。
なお、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/84)の担持量は、活性炭の100質量部に対して2質量部であった。また、Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/566)の担持量は、活性炭の100質量部に対して6質量部であった。Cu-Pd触媒(Pd/Cu=1/750)の担持量は、活性炭の100質量部に対して8質量部であった。
反応器1を、塩浴炉内に設置した、SUS304製、内径21.4mmのU字型反応管に変更し、表6に記載の触媒および反応温度にした以外は例1と同様にして反応を行った。
反応管のさや管には、内部の温度を測定するための温度計を挿入した。反応管には表6に記載の触媒を40cmの長さで充填した。
表6中、「Cu-Pd触媒(CuCl2-PdCl2触媒)」は、上記で製造した、CuCl2-PdCl2触媒を前駆体として得られるCu-Pd触媒を意味する。「Cu-Pd触媒(CuO-PdO触媒)」は、上記で製造した、CuO-PdO触媒を前駆体として得られるCu-Pd触媒を意味する。また、Cu/Pdは、各触媒中のCuに対するPdの質量比を表す。
表7に記載の触媒および反応温度にした以外は、それぞれ、例30と同様にして反応を行った。
表8に記載の触媒および反応温度にした以外は、それぞれ、例30と同様にして反応を行った。
2:式(1)で表される化合物の供給ライン
2a:予熱器
3:水素の供給ライン
3a:予熱器
4:窒素の供給ライン
4a:予熱器
5:混合物供給ライン
6:冷却部
7:出口ライン
8:水蒸気および酸性液の回収槽
9:アルカリ洗浄装置
10:脱水塔
20:反応装置
Claims (7)
- Cu含有触媒の存在下、1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンを水素と反応させて、1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンを得る、1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法であって、
前記Cu含有触媒が、Cu触媒、および、Cu-M触媒からなる群から選択される触媒であり、
前記Cu触媒が、CuまたはCu原子を有する化合物であり、
前記Cu-M触媒が、CuまたはCu原子を有する化合物と、PdおよびPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属またはPdおよびPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子を有する化合物と、を含み、Cu原子に対するPdおよびPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子の質量比が1/40以下である触媒である、1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。 - 前記Cu含有触媒が担体に担持され、
前記担体が、活性炭を含む担体である、請求項1に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。 - 前記Cu含有触媒の担持量が、前記担体の質量の100質量部に対して、1~50質量部である、請求項2に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
- 前記反応の反応温度が30℃以上350℃以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
- 前記1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンに対する前記水素のモル比が、0.1~50である、請求項1~4のいずれか1項に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
- 前記Cu含有触媒が前記Cu-M触媒であり、
前記Cu-M触媒が、CuClを含む、請求項1~5のいずれか1項に記載に1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。 - 前記質量比が1/60以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載の1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019077752 | 2019-04-16 | ||
JP2019077752 | 2019-04-16 | ||
PCT/JP2020/016427 WO2020213600A1 (ja) | 2019-04-16 | 2020-04-14 | 1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020213600A1 JPWO2020213600A1 (ja) | 2020-10-22 |
JP7484900B2 true JP7484900B2 (ja) | 2024-05-16 |
Family
ID=72837886
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021514168A Active JP7484900B2 (ja) | 2019-04-16 | 2020-04-14 | 1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7484900B2 (ja) |
WO (1) | WO2020213600A1 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008060614A2 (en) | 2006-11-15 | 2008-05-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
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WO2018030408A1 (ja) | 2016-08-09 | 2018-02-15 | 旭硝子株式会社 | 1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
WO2018123911A1 (ja) | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 旭硝子株式会社 | 含塩素プロペンの製造方法 |
-
2020
- 2020-04-14 WO PCT/JP2020/016427 patent/WO2020213600A1/ja active Application Filing
- 2020-04-14 JP JP2021514168A patent/JP7484900B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Non-Patent Citations (1)
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---|
日本化学会,化学便覧 応用化学編,第7版,丸善出版,2014年01月,p.383-385 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020213600A1 (ja) | 2020-10-22 |
JPWO2020213600A1 (ja) | 2020-10-22 |
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