JP7471190B2 - 半導体素子特性検査装置 - Google Patents

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Description

本開示は、半導体素子の光学特性を検査する半導体素子特性検査装置に関する。
近年、レーザ加工機の高出力化に伴い、光源となる半導体レーザモジュールの開発においても高出力化が進められている。半導体レーザモジュールの光学特性は、搭載される半導体素子の光学特性に依存する。半導体レーザモジュールの光学特性の検査は、半導体素子がボンディングされた半導体レーザモジュールに対して実施される。
特許文献1は、半導体レーザモジュールの特性検査方法及び検査装置を開示している。特許文献1が開示している技術では、半導体素子から出射したレーザ光を光ファイバで受け取り、受け取られたレーザ光を測定系に伝搬させる。半導体レーザモジュールへの給電は、半導体素子のアノードとカソードとの各々に接続された5ピンコネクタを介して実施される。
国際公開第2003/004986号
従来の半導体素子の特性検査方法である特許文献1に記載されている方法では、ボンディング後の半導体レーザモジュールに対して特性検査を実施するため、半導体素子に不良が存在する場合、パッケージの組み立て後の特性検査工程まで不良を発見することができない。また、従来の方法では、不良を発見した場合、不良が半導体素子の不良であるのか、パッケージの組立工程の不良であるのかを容易に判断することができないため、従来の方法には、比較的多大なロスコストが発生するという課題がある。そのため、ボンディングすることなく接触方式にて半導体素子に給電する機構を開発する必要があるが、半導体レーザモジュールの駆動時と同等の出力で半導体素子の光学特性を検査すると半導体素子の焼損が課題となる。
本開示は、上記に鑑みてなされたものであって、ボンディング前の半導体素子を焼損させることなく半導体素子の光学特性を検査する半導体素子特性検査装置を得ることを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係る半導体素子特性検査装置は、半導体素子に給電して半導体素子の光学特性を検査する装置であって、半導体素子が載置される下側電極と、下側電極の半導体素子が載置される面と対向していて鉛直方向に移動する上側電極とを有する。下側電極及び上側電極は、下側電極に載置される半導体素子を挟持する。上側電極は、電極面を半導体素子に対して平行に倣わせる球面軸受け又はエアジャイロと、倣い動作に必要な押付け荷重を発生させる圧縮バネと、上側電極の全体の自重をキャンセルする引張バネとを有する。上側電極には、給電ケーブル及び給水チューブが接続される。給電ケーブル及び給水チューブから電極部に作用する張力についてのベクトルの関係において、給電ケーブルは、電極部における力のつり合いと電極部が回転しない条件とが成り立つ位置に接続される。
本開示に係る半導体素子特性検査装置は、ボンディング前の半導体素子を焼損させることなく半導体素子の光学特性を検査することができるという効果を奏する。
実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置の構成を示す斜視図 実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の断面図 実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の電極面が半導体素子に対して倣う動作を説明するための図 実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置の上側電極が有する給電ケーブルの接続位置を説明するための斜視図 実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置の上側電極が有する給電ケーブルの接続位置を説明するための上面図 実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置が有する下側電極の構成を示す平面図 実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置が有する下側電極の構成を示す側面図 実施の形態2に係る半導体素子特性検査装置の構成を示す斜視図 実施の形態2に係る半導体素子特性検査装置が有するワーク供給部の構成を示す斜視図 実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の構成を示す断面図 実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の電極面が半導体素子に対して倣う動作を説明するための第1図 実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の電極面が半導体素子に対して倣う動作を説明するための第2図 実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の構成を示す断面図 実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の斜視図 実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極の平面図 実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置の上側電極が有する下側スペーサの断面を示す図
以下に、実施の形態に係る半導体素子特性検査装置を図面に基づいて詳細に説明する。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1の構成を示す斜視図である。図1は、半導体素子特性検査装置1の構成を模式的に示している。半導体素子特性検査装置1は、半導体素子90に給電して半導体素子90の光学特性を検査する装置であって、半導体素子90が載置される下側電極2を有する。例えば、下側電極2は固定されている。例えば、半導体素子90は人間の手によって下側電極2に載置される。半導体素子特性検査装置1は、Y軸と平行な方向に移動する第1ステージ3を更に有する。図1には、Y軸も示されている。図1における実線の矢印は、第1ステージ3がY軸と平行な方向に移動することを示している。
Y軸と平行な方向は、下側電極2が有する複数の面のうちの半導体素子90が載置される平面と直交する方向である。例えば、Y軸と平行な方向は鉛直方向である。実施の形態1では、Y軸と平行な方向が鉛直方向であることと、下側電極2が有する複数の面のうちの半導体素子90が載置される平面がひとつの水平面であることとが想定されている。図1には、X軸及びZ軸も示されている。X軸及びZ軸はいずれもY軸と直交しており、Z軸はX軸と直交している。
半導体素子特性検査装置1は、第1ステージ3に固定されている上側電極4を更に有する。上側電極4は、下側電極2と対向する。図1には、面Aが示されている。面Aは、Y軸とZ軸とを含む平面と平行な平面であって、上側電極4のひとつの断面を示している。半導体素子90は、下側電極2の上側電極4と対向する平面に載置される。つまり、上側電極4は、下側電極2の半導体素子90が載置される面と対向していて鉛直方向に移動する。更に言うと、下側電極2及び上側電極4は、下側電極2に載置される半導体素子90を挟持する。
半導体素子90が下側電極2の上側電極4と対向する面に載置された後に下側電極2と上側電極4とによって挟持されて電圧が下側電極2と上側電極4との間に印加されると、半導体素子90はレーザ光を発振する。半導体素子90が発振したレーザ光は、Z軸の正の向きに直進する。図1における破線の矢印は、半導体素子90が発振したレーザ光が進む向きを示している。
半導体素子特性検査装置1は、半導体素子90が発振したレーザ光の光学特性を測定する測定系5を更に有する。例えば、測定系5は、パワーメータ、スペクトラムアナライザ及びカメラを有する。半導体素子特性検査装置1は、半導体素子90が発振したレーザ光を測定系5に伝搬させる光学系6を更に有する。例えば、光学系6は、ミラー、レンズ、及びフィルタを有する。下側電極2、上側電極4、測定系5及び光学系6の各々は、実際には複数の部材によって構成されているが、図1では便宜上、直方体を示す形状で示されている。
図2は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有する上側電極4の断面図である。図2が示す断面は、図1の面Aである。図2は、上側電極4の構成を模式的に示している。図2には、下側電極2、第1ステージ3、半導体素子90、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。図2において示されている複数の構成要素のうちの一部の構成要素には、便宜上、ハッチングが施されていない。
上側電極4は、半導体素子90に接触するカソード電極41と、カソード電極41に電流を供給する給電ケーブル42とを有する。上側電極4は、電極面の中心を摺動球面の中心とする球面軸受け43を更に有する。電極面は、カソード電極41の半導体素子90と接触する面である。球面軸受け43は、電極面を半導体素子90に対して平行に倣わせる構成要素であって、ボール43Aとカップ43Bとを有する。
上側電極4は、リニアブッシュ44と、上側電極4と半導体素子90との接触に伴いリニアブッシュ44の内部をY軸と平行な方向に摺動するシャフト45とを更に有する。上側電極4は、押し付けによる変位量を検知する変位センサ46を更に有する。つまり、変位センサ46はシャフト45の変位量をセンシングする。上側電極4は、変位センサ46を第1ステージ3に固定する変位センサホルダ47を更に有する。
上側電極4は、倣い動作に必要な押付け荷重を発生させる圧縮バネ48と、上側電極4の全体の自重をキャンセルする引張バネ49と、上側スペーサ50と、下側スペーサ51とを更に有する。上側電極4は、上側電極4が有する複数の構成要素のうちのカソード電極41以外の構成要素とカソード電極41とを絶縁する絶縁スペーサ52を更に有する。
カソード電極41、上側スペーサ50、下側スペーサ51及び絶縁スペーサ52は、Y軸の負の向きに向かって、つまり鉛直下向きに向かって、絶縁スペーサ52、上側スペーサ50、下側スペーサ51、カソード電極41の順に配置されている。上側スペーサ50と下側スペーサ51とは、圧縮バネ48によって接続されている。球面軸受け43のカップ43Bは、下側スペーサ51の座ぐり部に圧入されており、球面軸受け43のボール43Aと共にシャフト45に貫通されている。
球面軸受け43のボール43Aは、シャフト45にねじで固定されている。球面軸受け43のカップ43Bは、中心部に穿通された孔の外縁と当該孔に位置するシャフト45との間隙の分だけ、ボール43Aの上を摺動することできる。この際、引張バネ49によるY軸の正の向きの力がボール43Aに作用し、圧縮バネ48によるY軸の負の向きの力がカップ43Bに作用するため、ボール43Aとカップ43Bとは常に接触した状態で保持される。
シャフト45は、第1ステージ3に固定されたリニアブッシュ44の内部をY軸と平行な方向に摺動する。上側電極4は、シャフト45の上部に固定されているゲージブロック53を更に有する。ゲージブロック53のY軸と平行な方向の変位は変位センサ46によって検知される。つまり、変位センサ46がシャフト45のY軸と平行な方向の変位をセンシングするので、半導体素子90に作用する荷重の管理が比較的容易になる。
図3は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有する上側電極4の電極面が半導体素子90に対して倣う動作を説明するための図である。図3の矢印より左側の図は、倣い動作が行われる前の上側電極4の状態を示している。図3の矢印より右側の図は、倣い動作が行われた後の上側電極4の状態を示している。図3には、下側電極2、半導体素子90、X軸、Y軸、Z軸及び変化量dも示されている。図3の矢印より左側の図には、倣い前の圧縮バネ48の反発力Fと、回転中心Pとが示されている。
図3の右側の図に示されている倣い後の圧縮バネ48の相対的に小さい反発力Fと、倣い後の圧縮バネ48の相対的に大きい反発力Fと、球面軸受け43のボール43Aからの抗力Fと、半導体素子90からの垂直抗力Nとのベクトルの関係において、下側スペーサ51の力のつり合いと下側スペーサ51が回転しない条件とが成り立ち、電極面と半導体素子90とが平行に倣った状態で静止する。上側電極4が球面軸受け43のボール43A及びカップ43Bを有するので、カソード電極41を半導体素子90に対して倣わせ、カソード電極41と半導体素子90とが接触する面積を増大させることができる。下側スペーサ51は、電極部の例である。
図4は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1の上側電極4が有する給電ケーブル42の接続位置を説明するための斜視図である。図5は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1の上側電極4が有する給電ケーブル42の接続位置を説明するための上面図である。図4及び図5には、第1ステージ3、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。図5には、回転中心Pも示されている。給電ケーブル42は、カソード電極41をX軸と平行な方向に延長した余剰部において、カソード電極41の上面における回転中心Pに対して点対称な位置に接続されている。実施の形態1では、カソード電極41の上面は長方形であって、回転中心Pはカソード電極41の上面における2本の対角線の交点である。図5では、2本の対角線は破線で示されている。
上述の通り4本の給電ケーブル42がカソード電極41の上面に固定されているので、カソード電極41に作用する給電ケーブル42からの張力の合力が軽減される。給電ケーブル42の本数及び接続位置は、図4及び図5に示される例に限定されない。給電ケーブル42の接続位置は、カソード電極41の回転中心Pに対して点対称な位置であればよい。これにより、カソード電極41は給電ケーブル42から作用する張力によって半導体素子90に対する倣い動作を阻害されにくくなる。
図6は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有する下側電極2の構成を示す平面図である。図7は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有する下側電極2の構成を示す側面図である。図6及び図7には、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。下側電極2は、半導体素子90に直接接触するアノード電極21と、半導体素子90を位置決めする絶縁体ブロック22とを有する。絶縁体ブロック22は、半導体素子90の位置決め用の構成要素である。下側電極2は、絶縁体ブロック22を位置決めする固定位置決めピン23及び可動位置決めピン24を更に有する。
絶縁体ブロック22は、ねじ25によってアノード電極21に固定される。絶縁体ブロック22は、半導体素子90を位置決めするために直交する2つの当て面を有している。2つの当て面が交差する角部には、半導体素子90の角部との干渉を避けるために逃げが設けられてもよい。図6及び図7は、2つの当て面が交差する角部に円弧状の逃げ22Aが設けられている例を示している。
絶縁体ブロック22は、アノード電極21に取り付けられた固定位置決めピン23及び可動位置決めピン24によって位置決めされる。更に言うと、絶縁体ブロック22は、可動位置決めピン24によって位置決めされた位置でアノード電極21に固定される。可動位置決めピン24は、すきまばめによってアノード電極21の位置決めピン挿入穴26に挿入される。可動位置決めピン24と位置決めピン挿入穴26とのはめあいをすきまばめにすることにより、ユーザは、搭載される半導体素子90の大きさに対応して可動位置決めピン24を挿入する穴を変更することができる。アノード電極21が半導体素子90の異物検査画像に映り込むことを避けるため、半導体素子90の出射端面の直下に面取り部が設けられてもよい。絶縁体ブロック22により、手による供給にて半導体素子90をアノード電極21の上に載置する際の作業性を改善することができる。
上述の通り、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1は、半導体素子90に給電して半導体素子90の光学特性を検査する装置であって、半導体素子90が載置される下側電極2と、下側電極2の半導体素子90が載置される面と対向していて鉛直方向に移動する上側電極4とを有する。下側電極2及び上側電極4は、下側電極2に載置される半導体素子90を挟持する。上側電極4は、電極面を半導体素子90に対して平行に倣わせる球面軸受け43と、倣い動作に必要な押付け荷重を発生させる圧縮バネ48と、上側電極4の全体の自重をキャンセルする引張バネ49とを有する。半導体素子特性検査装置1は、ボンディング前の半導体素子90を焼損させることなく半導体素子90の光学特性を検査することができる。半導体素子特性検査装置1は、半導体素子90に対して上側電極4の電極面を倣わせて接触させることで、半導体素子90から上側電極4への放熱性を向上させることができる。
実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有する上側電極4は、リニアブッシュ44と、上側電極4と半導体素子90との接触に伴いリニアブッシュ44の内部を鉛直方向に摺動するシャフト45と、シャフト45の変位量をセンシングする変位センサ46とを有する。半導体素子特性検査装置1は、シャフト45の変位量を変位センサ46でセンシングすることによって、上側電極4から半導体素子90に作用する荷重を管理することができる。
下側電極2は、アノード電極21と、半導体素子90の位置決め用の絶縁体ブロック22と、すきまばめによってアノード電極21に挿入される可動位置決めピン24とを有する。半導体素子特性検査装置1のユーザは、絶縁体ブロック22の隣り合う二つの面に半導体素子90を当てることにより、半導体素子90を下側電極2に比較的高い位置精度で搭載することができる。ユーザは、可動位置決めピン24を挿入する位置を変更することによって絶縁体ブロック22の位置を調整し、大きさの異なる半導体素子90を下側電極2に搭載することができる。すなわち、半導体素子特性検査装置1は、ユーザが下側電極2の適切な位置に半導体素子90を配置することを支援することができる。
実施の形態2.
図8は、実施の形態2に係る半導体素子特性検査装置1Aの構成を示す斜視図である。図8は、半導体素子特性検査装置1Aの構成を模式的に示している。半導体素子特性検査装置1Aは、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有するすべての構成要素を有する。半導体素子特性検査装置1Aは、エアシリンダ7及びワーク供給部8を更に有する。下側電極2、上側電極4、測定系5、光学系6、エアシリンダ7及びワーク供給部8の各々は、実際には複数の部材によって構成されているが、図8では便宜上、直方体を示す形状で示されている。図8には、半導体素子90、X軸、Y軸、Z軸、面A、実線の矢印及び破線の矢印も示されている。実施の形態2では、実施の形態1との相違点を主に説明する。
エアシリンダ7は、X軸と平行な方向に移動する。図8において、エアシリンダ7の上に示されている矢印は、エアシリンダ7がX軸と平行な方向に移動することを示している。下側電極2は、エアシリンダ7の上面に固定されており、上側電極4の直下の位置とワーク供給部8の内部のある位置との間を移動することができる。以下では、上側電極4の直下の位置は「給電位置」と記載され、ワーク供給部8の内部のある位置は「ワーク供給位置」と記載される。
図9は、実施の形態2に係る半導体素子特性検査装置1Aが有するワーク供給部8の構成を示す斜視図である。図9は、ワーク供給部8の構成を模式的に示している。図9には、下側電極2、半導体素子90、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。ワーク供給部8は、半導体素子90が載置されるワーク載置台81と、負圧を発生する負圧発生器82と、半導体素子90を保持する吸着ヘッド83と、X軸、Y軸及びZ軸の各々方向に移動する第2ステージ84とを有する。図9における三つの矢印は、第2ステージ84がX軸、Y軸及びZ軸の各々方向に移動することを示している。
ワーク供給部8は、ワーク載置台81を撮影する載置台カメラ85と、載置台カメラ85を支持する載置台カメラホルダ86と、ワーク供給位置に位置する下側電極2を撮影する下側電極カメラ87と、下側電極カメラ87を支持する下側電極カメラホルダ88とを更に有する。
ワーク載置台81には、半導体素子90が比較的容易に位置決めされるために、半導体素子90の大きさに対して十分な尤度を持つ矩形のくぼみが形成されていてもよい。負圧発生器82は第2ステージ84に固定されており、吸着ヘッド83は負圧発生器82に取り付けられている。ワーク載置台81に載置されている半導体素子90は、負圧発生器82によって吸引され、吸着ヘッド83によって保持される。負圧発生器82及び吸着ヘッド83は、半導体素子90をワーク載置台81からワーク供給位置に位置する下側電極2に運搬する。
載置台カメラ85は、ワーク載置台81を撮像することができる位置に載置台カメラホルダ86によって配置されており、半導体素子90がピックアップされるときの半導体素子90及び吸着ヘッド83の位置を画像認識によって取得する。これにより、第2ステージ84の位置は吸着ヘッド83が半導体素子90をピックアップすることができるようフィードバック制御される。
下側電極カメラ87は、ワーク供給位置を撮像することができる位置に下側電極カメラホルダ88によって配置されており、半導体素子90がワーク供給位置に載置されるときの半導体素子90及び下側電極2の位置を画像認識によって取得する。これにより、第2ステージ84の位置は、半導体素子90が下側電極2のあらかじめ決められた位置に載置されるようフィードバック制御される。半導体素子特性検査装置1Aは、エアシリンダ7及びワーク供給部8を有するので、半導体素子90を下側電極2に載置する作業を人の手を必要とすることなく行うことができる。
半導体素子90が下側電極2に載置された後、下側電極2はエアシリンダ7によってワーク供給位置から給電位置へと移動する。
実施の形態3.
実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有するすべての構成要素のうちの上側電極4以外の構成要素を有する。実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置は、上側電極4の代わりに上側電極4Aを有する。図10は、実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極4Aの構成を示す断面図である。図10は、上側電極4Aの構成を模式的に示している。図10には、下側電極2、第1ステージ3、半導体素子90、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。図10において示されている複数の構成要素のうちの一部の構成要素には、便宜上、ハッチングが施されていない。実施の形態3では、実施の形態1との相違点を主に説明する。
上側電極4Aは、実施の形態1の上側電極4が有するすべての構成要素のうちの球面軸受け43以外の構成要素を有する。上側電極4Aは、球面軸受け43の代わりに、電極面を半導体素子90に対して平行に倣わせるエアジャイロ54を有する。エアジャイロ54は、相対的に鉛直上方に位置する固定部54Aと、相対的に鉛直下方に位置する可動部54Bとを有する。上側電極4Aは、第1ステージ3に固定されたリニアガイド55を更に有する。リニアガイド55は、Y軸と平行な方向に動作する。図10における矢印は、リニアガイド55がY軸と平行な方向に動作することを示している。実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置は、上側電極4Aの電極面が半導体素子90に対して倣う動作の精度を向上させる。
エアジャイロ54は、第1ステージ3に固定されたリニアガイド55の動作に伴って動作する。エアジャイロ54の上面は、圧縮バネ48を介して第1ステージ3に接続されている。つまり、固定部54Aは圧縮バネ48を介して第1ステージ3に接続されている。エアジャイロ54の下面は、絶縁スペーサ52を介してカソード電極41に接続されている。つまり、可動部54Bは、絶縁スペーサ52を介してカソード電極41に接続されている。
エアジャイロ54の上面には、シャフト45が取り付けられている。つまり、固定部54Aの上面には、シャフト45が取り付けられている。シャフト45は、第1ステージ3の内部に固定されたリニアブッシュ44の内部をY軸と平行な方向に摺動する。シャフト45の上部にはゲージブロック53が配置されており、ゲージブロック53のY軸と平行な方向の変位は変位センサ46によって検知される。つまり、変位センサ46がシャフト45のY軸と平行な方向の変位をセンシングする。変位センサ46がシャフト45のY軸と平行な方向の変位をセンシングするので、半導体素子90に作用する荷重の管理が比較的容易になる。
図11は、実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極4Aの電極面が半導体素子90に対して倣う動作を説明するための第1図である。図12は、実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極4Aの電極面が半導体素子90に対して倣う動作を説明するための第2図である。図11及び図12には、下側電極2、第1ステージ3、半導体素子90、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。
図11に示されるように、上側電極4Aが半導体素子90を下側電極2に押し付ける場合、圧縮空気による圧力Fがエアジャイロ54の可動部54Bを固定部54Aに対して浮上させる方向に作用する。これにより、エアジャイロ54の可動部54Bは固定部54Aに対して比較的容易に摺動する状態になり、上側電極4Aは半導体素子90に対して平行に倣う。
図12に示されるように、倣い動作が終了した後、圧縮空気の供給が停止されてエアジャイロ54の可動部54Bが固定部54Aに対して真空吸引され、これにより、エアジャイロ54の姿勢を保持することができる。実施の形態3に係る半導体素子特性検査装置は、圧縮空気の供給と停止とを行うだけで、比較的高い精度で上側電極4Aの電極面を半導体素子90に対して倣わせることができる。
実施の形態4.
実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置は、実施の形態1に係る半導体素子特性検査装置1が有するすべての構成要素のうちの上側電極4以外の構成要素を有する。実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置は、上側電極4の代わりに上側電極4Bを有する。図13は、実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極4Bの構成を示す断面図である。図13は、上側電極4Bの構成を模式的に示している。図13には、下側電極2、第1ステージ3、半導体素子90、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。図13において示されている複数の構成要素のうちの一部の構成要素には、便宜上、ハッチングが施されていない。実施の形態4では、実施の形態1との相違点を主に説明する。
上側電極4Bは、実施の形態1の上側電極4が有するすべての構成要素のうちの下側スペーサ51以外の構成要素を有する。上側電極4Bは、下側スペーサ51の代わりに、下側スペーサ51の形状と異なる形状を有する下側スペーサ51Bを有する。下側スペーサ51Bは、電極部の例である。下側スペーサ51Bは、冷却用の水が流れる水路51Cを内部に有する。
図14は、実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極4Bの斜視図である。図14は、上側電極4Bの構成を模式的に示している。図14には、第1ステージ3、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。図15は、実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置が有する上側電極4Bの平面図である。図15は、上側電極4Bの構成を模式的に示している。図15には、回転中心P、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。
上述の通り下側スペーサ51Bは冷却用の水路51Cを内部に有しており、下側スペーサ51Bの対向する二つの側面の各々における水路51Cの端部には管継手56が取り付けられ、二つの管継手56の各々には給水チューブ57が取り付けられる。図14及び図15は、給水チューブ57の接続位置を説明するための図である。給水チューブ57は、管継手56を介して下側スペーサ51Bに穿通された冷却用の水路51Cに接続される。
下側スペーサ51Bの対向する二つの側面において、二つの管継手56の各々はカソード電極41の回転中心Pに対して点対称な位置に取り付けられる。これにより、カソード電極41に作用する給水チューブ57からの張力の合力が軽減される。
実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置では、下側スペーサ51Bの水路51Cを介して、二つの給水チューブ57の一方から他方に向かって水が流れる。実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置は、当該水により半導体素子90からカソード電極41への放熱性を向上させる。実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置では、絶縁スペーサ52は、例えばポリエーテルエーテルケトンといった樹脂材で形成されている構成要素でなく、放熱絶縁シートであってもよい。
なお、給水チューブ57の本数及び接続位置は図14及び図15に示される例に限定されない。二つの給水チューブ57の接続位置の各々は、カソード電極41の回転中心Pに対して点対称な位置であればよい。これにより、カソード電極41は給水チューブ57から作用する張力によって半導体素子90に対する倣い動作を阻害されにくくなる。
図16は、実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置の上側電極4Bが有する下側スペーサ51Bの断面を示す図である。図16は、図14のXVI-XVI線における断面を示している。図16は、下側スペーサ51Bに穿通された水路51Cの形状を示している。図16には、カソード電極41、給電ケーブル42、半導体素子90、X軸、Y軸及びZ軸も示されている。図16は、給電ケーブル42からの発熱の影響を軽減する水路51Cの形状を示している。半導体素子90からあらかじめ決められた距離の範囲内のカソード電極41の温度が上昇することを軽減するため、給電ケーブル42の接続位置と半導体素子90の載置される位置との間に水路51Cが設けられている。
上述の通り、実施の形態4に係る半導体素子特性検査装置の上側電極4Bには、給電ケーブル42及び給水チューブ57が接続される。給電ケーブル42及び給水チューブ57から電極部に作用する張力についてのベクトルの関係において、給電ケーブル42は、電極部における力のつり合いと電極部が回転しない条件とが成り立つ位置に接続される。電極部が半導体素子90に倣う際、給電ケーブル42及び給水チューブ57からの張力によって倣い動作が阻害されにくくなる。
以上の実施の形態に示した構成は、一例を示すものであり、別の公知の技術と組み合わせることも可能であるし、実施の形態同士を組み合わせることも可能であるし、要旨を逸脱しない範囲で、構成の一部を省略又は変更することも可能である。
1,1A 半導体素子特性検査装置、2 下側電極、3 第1ステージ、4,4A,4B 上側電極、5 測定系、6 光学系、7 エアシリンダ、8 ワーク供給部、21 アノード電極、22 絶縁体ブロック、22A 逃げ、23 固定位置決めピン、24 可動位置決めピン、25 ねじ、26 位置決めピン挿入穴、41 カソード電極、42 給電ケーブル、43 球面軸受け、43A ボール、43B カップ、44 リニアブッシュ、45 シャフト、46 変位センサ、47 変位センサホルダ、48 圧縮バネ、49 引張バネ、50 上側スペーサ、51,51B 下側スペーサ、51C 水路、52 絶縁スペーサ、53 ゲージブロック、54 エアジャイロ、54A 固定部、54B 可動部、55 リニアガイド、56 管継手、57 給水チューブ、81 ワーク載置台、82 負圧発生器、83 吸着ヘッド、84 第2ステージ、85 載置台カメラ、86 載置台カメラホルダ、87 下側電極カメラ、88 下側電極カメラホルダ、90 半導体素子。

Claims (3)

  1. 半導体素子に給電して前記半導体素子の光学特性を検査する半導体素子特性検査装置であって、
    前記半導体素子が載置される下側電極と、
    前記下側電極の前記半導体素子が載置される面と対向していて鉛直方向に移動する上側電極とを備え、
    前記下側電極及び前記上側電極は、前記下側電極に載置される前記半導体素子を挟持し、
    前記上側電極は、
    電極面を前記半導体素子に対して平行に倣わせる球面軸受け又はエアジャイロと、
    倣い動作に必要な押付け荷重を発生させる圧縮バネと、
    前記上側電極の全体の自重をキャンセルする引張バネとを有し、
    前記上側電極には、給電ケーブル及び給水チューブが接続され、
    前記給電ケーブル及び前記給水チューブから電極部に作用する張力についてのベクトルの関係において、前記給電ケーブルは、前記電極部における力のつり合いと前記電極部が回転しない条件とが成り立つ位置に接続される
    ことを特徴とする半導体素子特性検査装置。
  2. 前記上側電極は、
    リニアブッシュと、
    前記上側電極と前記半導体素子との接触に伴い前記リニアブッシュの内部を鉛直方向に摺動するシャフトと、
    前記シャフトの変位量をセンシングする変位センサとを更に有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子特性検査装置。
  3. 前記下側電極は、
    アノード電極と、
    前記半導体素子の位置決め用の絶縁体ブロックと、
    すきまばめによって前記アノード電極に挿入される可動位置決めピンとを有し、
    前記絶縁体ブロックは、前記可動位置決めピンによって位置決めされた位置で前記アノード電極に固定される
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体素子特性検査装置。
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