JP7471188B2

JP7471188B2 - 繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤及び抗菌処理方法

Info

Publication number: JP7471188B2
Application number: JP2020162596A
Authority: JP
Inventors: 啓太向山; 純一斉藤
Original assignee: Lion Hygiene Co Ltd
Current assignee: Lion Hygiene Co Ltd
Priority date: 2020-09-28
Filing date: 2020-09-28
Publication date: 2024-04-19
Anticipated expiration: 2040-09-28
Also published as: JP2022055158A

Description

本発明は、濃縮液体抗菌処理剤及び抗菌処理方法に関する。

繊維製品などの洗浄の対象となる被洗物（以下、単に「被洗物」ともいう。）上に付着した菌を除去し、また洗濯後の臭いの発生やカビの発生を防止して、洗濯物を衛生的で清潔なものとするために、洗濯中に抗菌剤を添加して、被洗物を抗菌処理することがある。
従来、抗菌剤としては、殺菌力を有するアルキルジメチルベンジルアンモニウム塩（ベンザルコニウム塩）などが用いられている。
しかし、ベンザルコニウム塩は抗菌対象となる微生物の範囲が狭く、昨今の院内感染でも問題となっているセレウス菌等の芽胞形成菌には抗菌効果が充分に得られないなどの問題がある。

ウイルスに対して除去効果を有する基材として、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェートを配合した洗浄剤が提案されている（例えば特許文献１参照）。

特開２０１９－１８２９３６号公報

ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェートは水で希釈するとゲル化したり分離したりすることがあり、希釈安定性に劣るため、そのまま使用するのは困難である。特許文献１に記載の洗浄剤は、ノニオン界面活性剤を併用することで希釈安定性を高めている。特許文献１に記載のように、硬質表面の洗浄を主な目的として洗浄剤を使用する場合には、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート及びノニオン界面活性剤を含む洗浄剤を水で希釈しても、問題なく使用できる。
しかし、被洗物の洗濯中に前記洗浄剤を使用する場合、特に仕上げ工程で使用する場合は、洗浄剤にノニオン界面活性剤が含まれていると泡立ちや残留などの問題があり、被洗物の洗濯中に使用するには不向きとなることがある。
そこで、希釈安定性に優れ、仕上げ工程での使用にも適した抗菌剤が求められている。加えて、抗菌剤には保存安定性に優れることも求められている。

本発明は、抗菌性、保存安定性及び希釈安定性に優れる濃縮液体抗菌処理剤、及び抗菌処理方法を提供することを目的とする。

本発明は以下の態様を有する。
［１］（Ａ）成分：下記一般式（１）で表されるカチオン界面活性剤と、
（Ｂ）成分：下記一般式（２）で表されるカチオン界面活性剤及び下記一般式（３）で表されるカチオン界面活性剤からなる群より選ばれる１種以上と、
（Ｃ）成分：有機溶剤と、
（Ｄ）成分：水と、を含有し、
前記（Ａ）成分の含有量が、濃縮液体抗菌処理剤の総質量に対して、１０～８０質量％であり、
前記（Ｂ）成分／前記（Ａ）成分で表される質量比が０．１５～３．０である、濃縮液体抗菌処理剤。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は炭素数１０～１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ^３及びＲ^４は炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｘ_Ａ ^－はアルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンであり、Ｒ^１とＲ^２とは互いに同一であり、Ｒ^３とＲ^４とは互いに同一であっても異なっていてもよい。

一般式（２）中、Ｒ^５は炭素数８～２２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ^６～Ｒ^８は炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、又は炭素数７～９の芳香族アルキル基であり、Ｘ_Ｂ ^－は陰イオンであり、Ｒ^６～Ｒ^８のうちの１つは炭素数７～９の芳香族アルキル基であり、残りの２つは炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、残りの２つは互いに同一であっても異なっていてもよい。

一般式（３）中、Ｒ^９は炭素数８～１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２は炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｘ_Ｃ ^－は陰イオン（ただし、アルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンを除く。）であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２は互いに同一であっても異なっていてもよい。

［２］前記一般式（１）中のＸ_Ａ ^－がメチル硫酸イオンである、前記［１］の濃縮液体抗菌処理剤。
［３］前記（Ｂ）成分が、ベンザルコニウムクロリドを含む、前記［１］又は［２］の濃縮液体抗菌処理剤。
［４］前記（Ｂ）成分が、前記一般式（３）で表されるカチオン界面活性剤を含み、かつ前記一般式（３）中のＲ^１０～Ｒ^１２がいずれもメチル基である、前記［１］又は［２］の濃縮液体抗菌処理剤。
［５］前記（Ａ）成分が、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェートを含む、前記［１］～［４］のいずれかの濃縮液体抗菌処理剤。
［６］前記（Ｃ）成分が、プロピレングリコール、エタノール及びブチルジグリコールからなる群より選ばれる１種以上を含む、前記［１］～［５］のいずれかの濃縮液体抗菌処理剤。
［７］前記（Ｂ）成分の含有量が、濃縮液体抗菌処理剤の総質量に対して、５～５０質量％である、前記［１］～［６］のいずれかの濃縮液体抗菌処理剤。
［８］前記（Ｃ）成分の含有量が、濃縮液体抗菌処理剤の総質量に対して、２～１５質量％である、前記［１］～［７］のいずれかの濃縮液体抗菌処理剤。
［９］セレウス菌を抗菌対象とする、前記［１］～［８］のいずれかの濃縮液体抗菌処理剤。

［１０］被洗物を洗浄水で洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程を経た前記被洗物を濯ぎ水で濯ぐ濯ぎ工程と、
前記濯ぎ工程を経た前記被洗物を仕上げ水で処理する仕上げ工程と、を有し、
前記洗浄工程、前記濯ぎ工程及び前記仕上げ工程のうちの少なくとも１つの工程で、前記［１］～［８］のいずれかの濃縮液体抗菌処理剤を任意の濃度に希釈した後に、又は希釈しながら被洗物に添加する添加処理を行う、抗菌処理方法。
［１１］前記添加処理は前記仕上げ工程で行われる、前記［１０］の抗菌処理方法。
［１２］前記添加処理は自動投入装置を用いて行われる、前記［１０］又は［１１］の抗菌処理方法。
［１３］前記濃縮液体抗菌処理剤を２～１０倍に希釈する、前記［１０］～［１２］のいずれかの抗菌処理方法。

本発明によれば、抗菌性、保存安定性及び希釈安定性に優れる濃縮液体抗菌処理剤、及び抗菌処理方法を提供できる。

［濃縮液体抗菌処理剤］
本発明の濃縮液体抗菌処理剤（以下、単に「抗菌処理剤」ともいう。）は、以下に示す（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有する組成物である。抗菌処理剤は、必要に応じて（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分以外の任意成分をさらに含有してもよい。
なお、本発明において、「濃縮液体」とは、使用時に所望の濃度に希釈して希釈液として使用するものを意味する。

＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、下記一般式（１）で表されるカチオン界面活性剤（以下、「化合物（１）」ともいう。）である。
化合物（１）は、ジ長鎖アルキル型カチオン界面活性剤である。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２の炭素数は１０～１２であり、１０が好ましい。Ｒ^１及びＲ^２としては、炭素数１０～１２の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１０の直鎖のアルキル基（デシル基）がより好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^３及びＲ^４の炭素数は１～３であり、１～２が好ましく、１がより好ましい。Ｒ^３及びＲ^４としては、それぞれ独立して、炭素数１～３の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１～２のアルキル基がより好ましく、炭素数１のアルキル基（メチル基）がさらに好ましい。Ｒ^３及びＲ^４とは互いに同一であることが好ましい。

一般式（１）中、Ｘ_Ａ ^－はアルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンである。アルキル硫酸イオンのアルキル基の炭素数は１～５であり、１～３が好ましく、１～２がより好ましく、１がさらに好ましい。アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよく、直鎖が好ましい。Ｘ_Ａ ^－としては、抗菌処理剤の希釈安定性がより高まる観点から、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、ブチル硫酸イオンが好ましく、メチル硫酸イオンがより好ましい。

化合物（１）としては、例えばジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジデシルメチルエチルアンモニウムメチルサルフェート、ジデシルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、ジデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ジドデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジドデシルメチルエチルアンモニウムメチルサルフェート、ジドデシルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、ジドデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェートなどが挙げられる。
これらの中でも、本発明の効果が特に得られやすい観点から、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジデシルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、ジドデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジドデシルジメチルアンモニウムエチルサルフェートが好ましい。その中でも特に、市販品として入手しやすい観点から、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェートが好ましい。
化合物（１）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。

化合物（１）は、市販品を用いてもよいし、公知の方法で製造された合成品を用いてもよい。
化合物（１）の市販品や、公知の方法で製造された合成品には、製造時に混入した有機溶剤が含まれる場合がある。市販品や合成品中の有機溶剤は除去してもよいが、除去せずに、そのまま後述の（Ｃ）成分としてもよい。

（Ａ）成分の含有量は、抗菌処理剤の総質量に対して１０～８０質量％であり、１０～６５質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましく、１２～５５質量％がさらに好ましく、１２～５０質量％が特に好ましく、１５～４８質量％が最も好ましい。（Ａ）成分の含有量が上記下限値以上であれば、抗菌性を良好に維持できる。（Ａ）成分の含有量が上記上限値以下であれば、希釈安定性が向上する。

＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、下記一般式（２）で表されるカチオン界面活性剤（以下、「化合物（２）」ともいう。）及び下記一般式（３）で表されるカチオン界面活性剤（以下、「化合物（３）」ともいう。）からなる群より選ばれる１種以上である。
化合物（２）及び化合物（３）は、モノ長鎖アルキル型カチオン界面活性剤である。

一般式（２）中、Ｒ^５の炭素数は８～２２であり、８～１８が好ましい。Ｒ^５としては、炭素数８～２２の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数８～１８の直鎖のアルキル基がより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^６～Ｒ^８のうちの１つは炭素数７～９の芳香族アルキル基である。ここで、「芳香族アルキル基」とは、アルキル基の１つ以上の水素原子、好ましくは１つの水素原子が芳香族基に置換された基である。芳香族アルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、３－フェニルプロピル基が挙げられる。これらの中でも、ベンジル基が好ましい。
一般式（２）中、Ｒ^６～Ｒ^８のうちの残りの２つは、炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基である。このアルキル基の炭素数は１～３であり、１が特に好ましい。Ｒ^６～Ｒ^８のうちの残りの２つとしては、それぞれ独立して、炭素数１～３の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１のアルキル基（メチル基）が特に好ましい。Ｒ^６～Ｒ^８のうちの残りの２つは、互いに同一であることが好ましい。

一般式（２）中、Ｘ_Ｂ ^－は陰イオンである。陰イオンとしては、例えばハロゲン化物イオン、アルキル硫酸イオン、硫酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、アルキル炭酸イオン、炭酸イオンなどが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン化物イオン、アルキル硫酸イオンが好ましく、ハロゲン化物イオンがより好ましい。
ハロゲン化物イオンとしては、例えばフッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンなどが挙げられる。これらの中でも塩化物イオン、臭化物イオンが好ましい。
アルキル硫酸イオンとしては、一般式（１）におけるＸ_Ａ ^－の説明において先に例示したアルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンが挙げられ、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、ブチル硫酸イオンが好ましく、メチル硫酸イオンがより好ましい。

化合物（２）としては、例えばベンザルコニウムクロリド、ベンザルコニウムブロミド、ベンジルジメチルオクチルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルオクチルアンモニウムブロミド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムブロミド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムブロミド、ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、椰子アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、椰子アルキルジメチルベンジルアンモニウムブロミドなどが挙げられる。
これらの中でも、本発明の効果が特に得られやすい観点から、ベンザルコニウムクロリド、ベンザルコニウムブロミドが好ましい。
化合物（２）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
化合物（２）は、市販品を用いてもよいし、公知の方法で製造された合成品を用いてもよい。

一般式（３）中、Ｒ^９の炭素数は８～１２であり、１０～１２が好ましい。Ｒ^９としては、炭素数８～１２の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１０～１２の直鎖のアルキル基がより好ましい。

一般式（３）中、Ｒ^１０～Ｒ^１２の炭素数は１～３であり、１が特に好ましい。Ｒ^１０～Ｒ^１２としては、それぞれ独立して、炭素数１～３の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１のアルキル基（メチル基）が特に好ましい。Ｒ^１０～Ｒ^１２は、互いに同一であることが好ましい。

一般式（３）中、Ｘ_Ｃ ^－は陰イオン（ただし、アルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンを除く。）である。陰イオンとしては、例えばハロゲン化物イオン、硫酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、アルキル炭酸イオン、炭酸イオンなどが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン化物イオンが好ましい。
ハロゲン化物イオンとしては、一般式（２）におけるＸ_Ｂ ^－の説明において先に例示したハロゲン化物イオンが挙げられ、塩化物イオン、臭化物イオンが好ましい。

化合物（３）としては、例えばオクチルトリメチルアンモニウムクロリド、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、ノニルトリメチルアンモニウムクロリド、ノニルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、ウンデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ウンデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド等のアルキルトリメチルアンモニウム塩などが挙げられる。
これらの中でも、本発明の効果が特に得られやすい観点から、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、オクチルトリメチルアンモニウムブロミドが特に好ましい。
化合物（３）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。
化合物（３）は、市販品を用いてもよいし、公知の方法で製造された合成品を用いてもよい。

（Ｂ）成分の含有量は、抗菌処理剤の総質量に対して５～５０質量％が好ましく、１３～５０質量％がより好ましく、１７～５０質量％がさらに好ましく、１９～５０質量％が特に好ましく、２０～４５質量％が最も好ましい。（Ｂ）成分の含有量が上記下限値以上であれば、希釈安定性がより向上する。（Ｂ）成分の含有量が上記上限値以下であれば、希釈安定性及び保存安定性がより向上する。

また、（Ｂ）成分／（Ａ）成分で表される質量比（以下、「Ｂ／Ａ比率」ともいう。）は、０．１５～３．０であり、０．２３～３．０が好ましく、０．３５～３．０がより好ましく、０．４～３．０がさらに好ましく、０．４～２．５が特に好ましい。Ｂ／Ａ比率が上記範囲内であれば、希釈安定性及び保存安定性が向上する。加えて、抗菌性をより良好に維持できる。特に、Ｂ／Ａ比率が上記下限値以上であれば、希釈安定性がより向上する。Ｂ／Ａ比率が上記上限値以下であれば、希釈安定性及び保存安定性がより向上する。

＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、有機溶剤である。
有機溶剤としては、例えばエタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール等の炭素数２～４の一価アルコール；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、平均分子量約２００～５０００のポリエチレングリコール、メトキシポリエチレングリコール、グリセリン等の炭素数２～４の多価アルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ブチルジグリコール（ジエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶剤などが挙げられる。
これらの中でも、本発明の効果が特に得られやすい観点から、プロピレングリコール、エタノール、ブチルジグリコールが好ましい。
有機溶剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。

（Ｃ）成分の含有量は、抗菌処理剤の総質量に対して２～１５質量％が好ましく、２～１１質量％がより好ましく、２～１０質量％がさらに好ましく、２～９質量％が特に好ましい。（Ｃ）成分の含有量が上記下限値以上であれば、希釈安定性及び保存安定性がより向上する。（Ｃ）成分の含有量が上記上限値以下であれば、溶剤臭が抑制でき作業性が向上する。

＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、水である。
水としては、例えば精製水、イオン交換水、蒸留水、水道水などが挙げられる。
（Ｄ）成分の含有量は、抗菌処理剤の総質量に対して５～５０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましく、１０～４５質量％がさらに好ましい。（Ｄ）成分の含有量が上記下限値以上であれば、希釈安定性及び保存安定性がより向上する。（Ｄ）成分の含有量が上記上限値以下であれば、高度に濃縮された抗菌処理剤としやすい。
なお、抗菌処理剤に含まれる全ての成分の含有量の合計は、１００質量％である。

＜任意成分＞
任意成分としては、例えば（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外のカチオン界面活性剤（他のカチオン界面活性剤）、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤等のその他の界面活性剤；パラトルエンスルホン酸、炭素数１～３の１級アルコール等のハイドロトロープ剤；クエン酸塩、メチルグリシン二酢酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩等の金属封鎖剤；色素；特開２００２－１７３６９８号公報の表３～４記載の香料組成物Ａ～Ｆ、特開２００３－８２３９８号公報の表５～１３記載の香料組成物Ｘ１～Ｐ２、特開２００４－３２２０７８号公報の表１～２記載の香料組成物ａ～ｆ、特開２００５－１８７６３８号公報の表３記載の香料組成物ａ～ｃ、特開２００６－１５１９０７号公報の表３記載の香料組成物Ａ～Ｄ、特開２０１５－１２４３６３号公報の表４記載の香料組成物Ａ～Ｄ、特開２０１５－２１０７６号公報の表２記載の香料組成物Ｄ－１～Ｄ－２ならびにＤ’－１等の香料；ｐＨ調整剤；防腐剤；酸化防止剤；増粘剤；紫外線吸収剤などが挙げられる。

抗菌処理剤を洗濯の仕上げ工程で用いる場合、泡立ちや被洗物への残留を抑制する観点から、抗菌処理剤はノニオン界面活性剤を実質的に含まないことが好ましく、その他の界面活性剤を実質的に含まないことがより好ましい。
本明細書において、「実質的に含まない」とは、意図せずして含有するものを除き、ノニオン界面活性剤又はその他の界面活性剤を積極的に配合しないことを意味する。

＜製造方法＞
抗菌処理剤は、例えば、上述した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分と、必要に応じて任意成分とを混合することによって製造できる。より具体的には、（Ｄ）成分の一部に、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分と、必要に応じて任意成分とを加えて混合した後、（Ｄ）成分の残部を加えて全体量を１００質量％として、抗菌処理剤とする。また、全体量が１００質量％となるように、（Ｄ）成分の全部に、残りの成分を全て加えて混合して、抗菌処理剤を製造してもよい。

なお、上述したように、（Ａ）成分として市販品又は合成品を用いる場合、これらには有機溶剤が含まれる場合があり、市販品又は合成品中の有機溶剤を除去せずに、そのまま（Ｃ）成分として用いてもよい。すなわち、（Ａ）成分の市販品又は合成品、（Ｂ）成分及び（Ｄ）成分と、必要に応じて任意成分とを混合することによって、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分と、必要に応じて任意成分とを含む抗菌処理剤が得られる。また、必要に応じて、後から（Ｃ）成分をさらに添加してもよい。

＜使用方法＞
本発明の抗菌処理剤は、被洗物を抗菌処理する際に用いる抗菌剤として好適である。本発明の抗菌処理剤を使用する際には、抗菌処理剤を水で所望の濃度に希釈して希釈液として、被洗物の洗濯に用いることが好ましい。
抗菌対象となる微生物としては、大腸菌等のグラム陰性菌；黄色ブドウ球菌、芽胞形成菌等のグラム陽性菌などが挙げられる。特に、従来の抗菌剤として一般的に使用されているベンザルコニウム塩では充分な抗菌効果が得られないとされている芽胞形成菌に対しても、本発明の抗菌処理剤であれば充分な抗菌効果が得られる。芽胞形成菌の中でも特に、本発明の抗菌処理剤は、セレウス菌（バチルスセレウス）に対して良好な抗菌効果を示す。
抗菌処理方法の一例については、後述する。

＜作用効果＞
以上説明した本発明の抗菌処理剤においては、特定量の（Ａ）成分と、（Ｂ）成分とを特定の比率で含有し、かつ（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有するので、抗菌性、保存安定性及び希釈安定性に優れる。
本発明の抗菌処理剤は希釈性安定性に優れるので、抗菌処理剤を使用する際に自動投入装置を用いても自動投入装置が目詰まりしにくい。よって、本発明の抗菌処理剤であれば、自動投入装置での使用に適している。

［抗菌処理方法］
本発明の抗菌処理方法は、被洗物の洗濯中に本発明の抗菌処理剤を添加して、被洗物を抗菌処理する方法である。
本発明の抗菌処理方法は、以下に示す洗浄工程と、濯ぎ工程と、仕上げ工程とを有し、洗浄工程、濯ぎ工程及び仕上げ工程のうちの少なくとも１つの工程で、本発明の抗菌処理剤を任意の濃度に希釈した後に、又は希釈しながら被洗物に添加する添加処理を行う。
被洗物としては特に限定されないが、例えば衣類（衣料）、布巾、タオル類、シーツ、カーテン、枕カバー等の繊維製品などが挙げられる。

＜添加処理＞
添加処理は、通常２段階の抗菌処理剤の希釈を行い、被洗物に添加する処理のことである。１段階目は、本発明の抗菌処理剤を任意の濃度に事前に希釈すること、又は送液しながら希釈することであり、２段階目は、洗濯工程にて被洗物に添加するためのさらなる希釈をすることである。
抗菌処理剤は希釈を行い２段階目の希釈濃度に希釈して希釈液とした状態で被洗物に添加してもよいし、抗菌処理剤を１段階目の濃度に希釈した液を２段階目の希釈濃度に希釈しながら被洗物に添加してもよい。
本発明の抗菌処理剤であれば、ゲル化や分離が起こりやすい希釈倍率が２～５倍に達したときでも、抗菌処理剤がゲル化したり分離したりせず、水に均一に溶解できる。
なお、均一とは、抗菌処理剤を水で希釈した際に、白濁、分離、ゲル化及び固化を発生しないことをいう。
抗菌処理剤の希釈倍率は特に制限されないが、１段階目は通常は２～１０倍であり、２段階目は通常は本発明の抗菌処理剤の原液の１０，０００～１００，０００倍である。

添加処理は、自動投入装置を用いて行われてもよい。自動投入装置を用いて添加処理を行えば、容易に希釈液等を被洗物に添加でき、作業性に優れる。しかも、少量の抗菌処理剤や希釈液でも正確に計量でき、抗菌処理剤の使い過ぎによる無駄も回避できる。

添加処理は、少なくとも仕上げ工程で行われることが好ましい。添加処理を仕上げ工程で行えば、洗濯後の被洗物に抗菌処理剤が残存しやすく、抗菌効果の持続性に優れる。

＜洗浄工程＞
洗浄工程は、被洗物を洗浄水で洗浄する工程である。
洗浄水は洗浄剤を含む。洗浄剤としては、界面活性剤を含むものが挙げられる。界面活性剤としては、従来公知のアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤などが挙げられる。
洗浄剤は、必要に応じてアルカリ剤、過酸化水素などを含んでいてもよい。
洗浄剤としては、市販品を使用できる。

洗浄工程の回数は、１回でもよいし、２回以上でもよい。洗浄工程を２回以上行う場合、１回目の洗浄工程を「予洗工程」ともいい、２回目以降の洗浄工程を「本洗工程」ともいう。予洗工程及び本洗工程で使用する洗浄剤は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。

洗浄工程で添加処理を行う場合、洗浄剤及び抗菌処理剤を含む洗浄水で被洗物を洗浄する。洗浄工程を２回以上行う場合は、本洗工程で添加処理を行うことが好ましい。
抗菌処理剤は予め水で任意の濃度に希釈して希釈液とした状態で洗浄水に投入してもよいし、抗菌処理剤を水で任意の濃度に希釈しながら洗浄水に投入してもよい。また、抗菌処理剤を希釈せずに原液のまま洗浄水に投入して、洗浄水中で任意の濃度に希釈してもよい。

＜濯ぎ工程＞
濯ぎ工程は、洗浄工程を経た被洗物を濯ぎ水で濯ぐ工程である。
濯ぎ工程を行うことで、被洗物に残留している洗浄剤を除去する。濯ぎ工程に使用される濯ぎ水としては、洗浄剤を含有しない水を使用することが好ましい。また、濯ぎ水としては、節水の観点から濯ぎ工程以降の洗濯槽の水の余剰分を使用してもよい。

濯ぎ工程で添加処理を行う場合、抗菌処理剤を含む濯ぎ水で被洗物を濯ぐ。
抗菌処理剤は希釈液とした状態で濯ぎ水に投入してもよいし、抗菌処理剤を水で任意の濃度に希釈しながら濯ぎ水に投入してもよい。また、抗菌処理剤を原液のまま濯ぎ水に投入して、濯ぎ水中で任意の濃度に希釈してもよい。

＜仕上げ工程＞
仕上げ工程は、濯ぎ工程を経た被洗物を仕上げ水で処理する工程である。
仕上げ水は、被洗物を仕上げるための仕上げ剤を含む。仕上げ剤としては、例えば柔軟剤などが挙げられる。洗浄工程でアルカリ剤や過酸化水素を含む洗浄剤を用いた場合、仕上げ剤として中和剤を使用してもよい。
柔軟剤としては、市販品を使用できる。
中和剤としては、サワー剤、過酸化水素還元剤を含むものが挙げられる。
サワー剤はアルカリ剤を中和する酸性物質であり、例えばクエン酸、リンゴ酸、コハク酸、シュウ酸、グリコール酸、酒石酸、イソクエン酸、マロン酸、酢酸、乳酸、アスコルビン酸、フィチン酸等の有機酸；リン酸等の無機酸などが挙げられる。
過酸化水素還元剤は過酸化水素を還元する還元剤であり、例えばチオ硫酸塩、亜ジチオン酸塩、亜硫酸塩、アスコルビン酸塩、重亜硫酸ナトリウム（亜硫酸水素ナトリウム）、二酸化チオ尿素、スルホキシルナトリウムなどが挙げられる。
仕上げ剤には、例えば界面活性剤、キレート剤、分散剤、水溶性溶剤、シリコーン、蛍光増白剤、抗菌剤（ただし、本発明の抗菌処理剤を除く）、消臭剤、香料、防腐剤、紫外線吸収剤、平滑剤、縮み防止剤、洗濯じわ防止剤、ドレープ性保持剤、アイロン性向上剤、増白剤、白化剤、布地柔軟化クレイ、帯電防止剤、移染防止剤、高分子分散剤、汚れ剥離剤、スカム分散剤、染料固定剤、退色防止剤、染み抜き剤、繊維表面改質剤、カタラーゼ等の酵素、抑泡剤、汚染防止剤、非イオン性高分子化合物等の任意成分が含まれていてもよい。

仕上げ工程で添加処理を行う場合、仕上げ剤及び抗菌処理剤を含む仕上げ水で被洗物を処理する。
抗菌処理剤は希釈液とした状態で仕上げ水に投入してもよいし、抗菌処理剤を水で任意の濃度に希釈しながら仕上げ水に投入してもよい。また、抗菌処理剤を原液のまま仕上げ水に投入して、仕上げ水中で任意の濃度に希釈してもよい。

仕上げ工程を経た被洗物は、脱水工程において脱水処理が施された後、乾燥工程において乾燥処理が施される。

上述した洗濯工程、濯ぎ工程、仕上げ工程及び脱水工程は、家庭用の洗濯機、リネンサプライ業やクリーニング業等で使用される業務用の洗濯機（例えばバッチワッシャー、連続式洗濯機等）を用いて行われる。乾燥機能が搭載された洗濯機を用いれば、乾燥工程も行うことができる。

＜作用効果＞
以上説明した本発明の抗菌処理方法においては、本発明の抗菌処理剤を用いて被洗物に対して抗菌処理を施すので、被洗物に抗菌性を付与できる。

以下、実施例を示して本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の記載によって限定されるものではない。

「使用原料」
（Ａ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・Ａ－１：ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート（上記一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が炭素数１０の直鎖のアルキル基（デシル基）であり、Ｒ^３及びＲ^４がメチル基であり、Ｘ_Ａ ^－がメチル硫酸イオンである化合物（１））。

（Ｂ）成分及びその代替品（（Ｂ’）成分）として、以下に示す化合物を用いた。
・Ｂ－１：ベンザルコニウムクロリド（上記一般式（２）中、Ｒ^５が炭素数８～１８の直鎖のアルキル基であり、Ｒ^６がベンジル基であり、Ｒ^７及びＲ^８がメチル基であり、Ｘ_Ｂ ^－が塩化物イオンである化合物（２））。
・Ｂ－２：ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド（上記一般式（３）中、Ｒ^９が炭素数１２の直鎖のアルキル基（ドデシル基）であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２がメチル基であり、Ｘ_Ｃ ^－が塩化物イオンである化合物（３））。
・Ｂ－３：デシルトリメチルアンモニウムブロミド（上記一般式（３）中、Ｒ^９が炭素数１０の直鎖のアルキル基（デシル基）であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２がメチル基であり、Ｘ_Ｃ ^－が臭化物イオンである化合物（３））。
・Ｂ－４：オクチルトリメチルアンモニウムクロリド（上記一般式（３）中、Ｒ^９が炭素数８の直鎖のアルキル基（オクチル基）であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２がメチル基であり、Ｘ_Ｃ ^－が塩化物イオンである化合物（３））。
・Ｂ’－５：ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド（上記一般式（３）中、Ｒ^９が炭素数１６の直鎖のアルキル基（ヘキサデシル基）であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２がメチル基であり、Ｘ_Ｃ ^－が塩化物イオンである化合物（３’））。
・Ｂ’－６：アルキル（Ｃ１４～１８）トリメチルアンモニウムクロリド（上記一般式（３）中、Ｒ^９が炭素数１４～１８の直鎖のアルキル基であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２がメチル基であり、Ｘ_Ｃ ^－が塩化物イオンである化合物（３’））。

（Ｃ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・Ｃ－１：プロピレングリコール。
・Ｃ－２：エタノール。

「実施例１～１３、比較例１～８」
＜抗菌処理剤の調製＞
表１～３に示す配合組成の抗菌処理剤を以下の手順にて調製した。
１Ｌビーカーに（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分としてイオン交換水の一部とを加えて混合した後、全体量が１００質量％となるように残りの（Ｄ）成分を添加して充分に撹拌し、抗菌処理剤を得た。
得られた各例の抗菌処理剤について、以下のようにして、抗菌性、保存安定性及び希釈安定性を評価した。結果を表１～３に示す。

＜評価＞
（黄色ブドウ球菌に対する抗菌性の評価）
黄色ブドウ球菌に対する抗菌性の評価方法はＪＩＳＬ１９０２の繊維の抗菌試験方法に準じて行った。
具体的には、布（金巾３号綿布）を５ｃｍ各に切断し、水を浴比１０倍、抗菌処理剤を布当たり０．００５質量％投入し、３分間撹拌し、脱水・自然乾燥を行い、抗菌処理を行った。
抗菌処理した布０．４ｇをバイアル瓶に入れ、黄色ブドウ球菌の菌液（１～３×１０^５ＣＦＵ／ｍＬ）０．２ｍＬ滴下し、３７℃で１８時間静置して、試験布とした。
試験布をＳＣＤＬＰ（Ｓｏｙｂｅａｎ－ＣａｓｅｉｎＤｉｇｅｓｔＢｒｏｔｈｗｉｔｈＬｅｃｉｔｈｉｎ＆Ｐｏｌｙｓｏｒｂａｔｅ８０）培地２０ｍＬ中に入れ、撹拌し、ＳＣＤＬＰ培地に１０倍段階希釈を行った。この段階希釈液各１ｍｌもしくは０．１ｍＬをＳＣＤＬＰ寒天培地平板に混釈し、３５℃で２４時間培養した。
培養後、ＳＣＤＬＰ培地上に発育したコロニー数を測定し、抗菌処理剤にて抗菌処理した試験布に存在する生菌数（Ｖ１１）を算出した。対照として、抗菌処理を行っていない試験布を用い、同様に処理して生菌数（Ｖ１２）を算出し、下記式（ｉ）より抗菌活性値を求めた。抗菌活性値が２．２以上の場合を「〇」とし、抗菌活性値が２．２未満の場合を「×」とし、「〇」を合格とした。
除菌活性値（Δｌｏｇ_１０ＣＦＵ／試験布）＝ｌｏｇ_１０（Ｖ１２）－ｌｏｇ_１０（Ｖ１１）・・・（ｉ）

（セレウス菌に対する抗菌性の評価）
セレウス菌に対する抗菌性の評価方法はＪＩＳＬ１９０２の繊維の抗菌試験方法に準じて行った。
具体的には、布（金巾３号綿布）を５ｃｍ各に切断し、水を浴比１０倍、抗菌処理剤を布当たり０．０２質量％投入し、３分間撹拌し、脱水・自然乾燥を行い、抗菌処理を行った。
抗菌処理した布０．４ｇをバイアル瓶に入れ、セレウス菌の菌液（１～３×１０^５ＣＦＵ／ｍＬ）０．２ｍＬ滴下し、３７℃で１８時間静置して、試験布とした。
試験布をＳＣＤＬＰ培地２０ｍＬ中に入れ、撹拌し、ＳＣＤＬＰ培地に１０倍段階希釈を行った。この段階希釈液各１ｍｌもしくは０．１ｍＬをＳＣＤＬＰ寒天培地平板に混釈し、３５℃で２４時間培養した。
培養後、ＳＣＤＬＰ培地上に発育したコロニー数を測定し、抗菌処理剤にて抗菌処理した試験布に存在する生菌数（Ｖ２１）を算出した。対照として、抗菌処理を行っていない試験布を用い、同様に処理して生菌数（Ｖ２２）を算出し、下記式（ii）より抗菌活性値を求めた。抗菌活性値が２．２以上の場合を「〇」とし、抗菌活性値が２．２未満の場合を「×」とし、「〇」を合格とした。
除菌活性値（Δｌｏｇ_１０ＣＦＵ／試験布）＝ｌｏｇ_１０（Ｖ２２）－ｌｏｇ_１０（Ｖ２１）・・・（ii）

（保存安定性の評価）
５０ｍＬのキャップ付きの瓶に抗菌処理剤１０ｇを投入し、－５℃、常温（２５℃）、５０℃で保管した。１４日経過後の抗菌処理剤の外観を目視にて確認した。以下の評価基準にて保存安定性を評価した。
〇：－５℃、常温（２５℃）、５０℃のいずれで保管しても、変化が認められない。
×：－５℃、常温（２５℃）、５０℃のいずれで保管した場合に、分離、ゲル化又は固化が認められた。

（希釈安定性の評価）
５０ｍＬのキャップ付きの瓶に抗菌処理剤１０ｇを投入し、原液の状態と、水で２倍、３倍又は５倍に希釈した状態で、常温（２５℃）で２４時間静置した。静置後の抗菌処理剤又はその希釈液の外観（白濁、ゲル化、固化の有無）を目視にて確認した。５倍希釈しても外観に問題がない場合は、５倍希釈液について、５℃又は－５℃で２４時間静置し、静置後の希釈液の外観を目視にて確認した。以下の評価基準にて希釈安定性を評価した。２点以上を合格とする。
１点：常温で、原液又は２倍希釈液を静置すると、白濁、分離、ゲル化及び固化のいずれかが生じた。
２点：２倍希釈までは常温で静置しても外観に問題ない。
３点：５倍希釈までは常温で静置しても外観に問題ない。
４点：５倍希釈液を５℃で静置しても外観に問題はない。
５点：－５倍希釈液を５℃で静置しても外観に問題はない。

表１～３中、「バランス」とは、抗菌処理剤全体で１００質量％とするのに必要な（Ｄ）成分の配合量（質量％）である。また、表中に配合量が記載されていない成分は、配合されていない。
また、「Ｂ／Ａ比」は、（Ｂ）成分／（Ａ）成分で表される質量比である。「Ｂ’／Ａ比」は、（Ｂ’）成分／（Ａ）成分で表される質量比である。

表１、２から明らかなように、各実施例の抗菌処理剤は、抗菌性、保存安定性及び希釈安定性に優れていた。
一方、表３から明らかなように、（Ｂ）成分を含まない比較例１の抗菌処理剤は、希釈安定性に劣っていた。
Ｂ／Ａ比が０．１５～３．０の範囲外である比較例２～４の抗菌処理剤は、希釈安定性に劣っていた。特に、Ｂ／Ａ比が３．１５０である比較例４の抗菌処理剤は、保存安定性にも劣っていた。
（Ｂ）成分の代わりに（Ｂ’）成分を用いた比較例５、６の抗菌処理剤は、保存安定性及び希釈安定性に劣っていた。
（Ａ）成分を含まない比較例７、８の抗菌処理剤は、抗菌性に劣っていた。

Claims

（Ａ）成分：下記一般式（１）で表されるカチオン界面活性剤と、
（Ｂ）成分：下記一般式（２）で表されるカチオン界面活性剤及び下記一般式（３）で表されるカチオン界面活性剤からなる群より選ばれる１種以上と、
（Ｃ）成分：有機溶剤と、
（Ｄ）成分：水と、を含有し、
前記（Ａ）成分の含有量が、濃縮液体抗菌処理剤の総質量に対して、１０～８０質量％であり、
前記（Ｂ）成分／前記（Ａ）成分で表される質量比が０．１５～３．０である、繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。

（一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は炭素数１０～１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ^３及びＲ^４は炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｘ_Ａ ^－はアルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンであり、Ｒ^１とＲ^２とは互いに同一であり、Ｒ^３とＲ^４とは互いに同一であっても異なっていてもよい。）

（一般式（２）中、Ｒ^５は炭素数８～２２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ^６～Ｒ^８は炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、又は炭素数７～９の芳香族アルキル基であり、Ｘ_Ｂ ^－は陰イオンであり、Ｒ^６～Ｒ^８のうちの１つは炭素数７～９の芳香族アルキル基であり、残りの２つは炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、残りの２つは互いに同一であっても異なっていてもよい。）

（一般式（３）中、Ｒ^９は炭素数８～１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２は炭素数１～３の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基であり、Ｘ_Ｃ ^－は陰イオン（ただし、アルキル基の炭素数が１～５のアルキル硫酸イオンを除く。）であり、Ｒ^１０～Ｒ^１２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
前記一般式（１）中のＸ_Ａ ^－がメチル硫酸イオンである、請求項１に記載の繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。
前記（Ｂ）成分が、ベンザルコニウムクロリドを含む、請求項１又は２に記載の繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。
前記（Ｂ）成分が、前記一般式（３）で表されるカチオン界面活性剤を含み、かつ前記一般式（３）中のＲ^１０～Ｒ^１２がいずれもメチル基である、請求項１又は２に記載の繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。
前記（Ａ）成分が、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェートを含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。
前記（Ｃ）成分が、プロピレングリコール、エタノール及びブチルジグリコールからなる群より選ばれる１種以上を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。
セレウス菌を抗菌対象とする、請求項１～６のいずれか一項に記載の繊維製品用の濃縮液体抗菌処理剤。
被洗物を洗浄水で洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程を経た前記被洗物を濯ぎ水で濯ぐ濯ぎ工程と、
前記濯ぎ工程を経た前記被洗物を仕上げ水で処理する仕上げ工程と、を有し、
前記洗浄工程、前記濯ぎ工程及び前記仕上げ工程のうちの少なくとも１つの工程で、請求項１～７のいずれか一項に記載の濃縮液体抗菌処理剤を任意の濃度に希釈した後に、又は希釈しながら被洗物に添加する添加処理を行う、抗菌処理方法。
前記添加処理は前記仕上げ工程で行われる、請求項８に記載の抗菌処理方法。
前記添加処理は自動投入装置を用いて行われる、請求項８又は９に記載の抗菌処理方法。