JP7456903B2 - 受発光装置 - Google Patents
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Description
光源装置と、前記光源装置から放出される光を受光する受光部と、前記光源装置と前記受光部の間に気体を導入することが可能な筐体とを備え、
前記光源装置は、
電流を流すことでジュール熱を発生する電熱変換部と、
前記電熱変換部上に直接又は薄膜を介して配置され、前記電熱変換部の熱を受けて赤外線を外界に向けて放出する、少なくとも100nmより大きい厚さを有し、外界との界面の全体又は一部が露出している放射部と、を備え、
前記放射部の主成分が酸化物又は酸窒化物であり、前記放射部が2μm以上20μm以下の波長領域において放射率が60%以上である波長を有することを特徴とする。
電流を流すことでジュール熱を発生する電熱変換部と、前記電熱変換部上に直接又は薄膜を介して配置され、前記電熱変換部の熱を受けて赤外線を外界に向けて放出する放射部と、を備え、前記放射部の主成分が酸化物又は酸窒化物であり、前記放射部が2μm以上20μm以下の波長領域において放射率が60%以上である波長を有することを特徴とする。
光源装置と、前記光源装置から放出される光を受光する受光部と、
前記光源装置と前記受光部の間に気体を導入することが可能な筐体とを備え、
前記光源装置は電流を流すことでジュール熱を発生する電熱変換部と、
前記電熱変換部上に配置された上部保護膜と、
前記電熱変換部上に、前記上部保護膜とは反対の面に配置された下部保護膜を有し、
赤外線を前記上部保護膜と接する外界から照射したとき、前記上部保護膜と前記電熱変換部からなる領域における吸収率Aと、前記電熱変換部と前記下部保護膜からなる領域における反射率Rの比A/Rが、2μm以上20μm以下の波長領域において1より大きい波長領域を有し、前記受光部に到達する光は前記上部保護膜から放出されることを特徴とする。
本実施形態のガスセンサは、光源装置と、光源装置から放出される光を受光する受光部と、光源装置と受光部の間に気体を導入することが可能な筐体とを備える。
第1の様態のガスセンサにおける光源装置及び第2の様態の光源装置は、電流を流すことでジュール熱を発生する電熱変換部と、電熱変換部上に直接又は薄膜を介して配置され、電熱変換部の熱を受けて赤外線を外界に向けて放出する放射部とを有する。放射部の主成分は酸化物又は酸窒化物である。放射部は2μm以上20μm以下の波長領域において放射率が60%以上である波長を有する。本実施形態の光源装置は、ガスセンサの用途に好適に用いることができる。また、本実施形態の光源装置は、ガスセンサ以外の用途に用いることもできる。特に制限はないが、例えば液中成分濃度センサ、寸法測定器としても使用できる。
電熱変換部の全体としての形状は特に制限されないが、電流を流すことでジュール熱を発生する膜状、板状、棒状又は線状の形状となり得る。
第1の様態のガスセンサにおける光源装置及び第2の様態の光源装置の放射部の主成分は酸化物又は酸窒化物である。ここで放射部とは、電熱変換部上に配置され、電熱変換部の熱を直接的又は間接的に受け、少なくとも100nmの厚さを有し、外界に赤外線を直接放出し、外界との界面の全体又は一部が露出している。ここで、外界との界面が露出しているとは、他の薄膜、構造体などの部材によって覆われないことを意味する。電熱変換部上に配置されるとは、電熱変換部上に直接又は薄膜等を介して間接的に配置されることを意味する。本開示において、薄膜とは厚さ2μm以下の膜を指す。主成分とは、放射部を構成する元素の物質量の50%以上、好ましくは80%以上を占める成分であることとして定義される。放射部の主成分としては、中赤外領域及び遠赤外領域の放射率を効率よく向上できることから、二酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、五酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化鉄、三酸化鉄、酸化銅(II)、酸化銅(I)、酸化インジウム(III)又は酸化マグネシウムであることが好ましい。放射部の主成分は、電子エネルギー損失分光法(EELS)などで分析することができる。電熱変換部の熱を直接的又は間接的に受けるとは、電熱変換部の熱を、電熱変換部と接することで直接受けることを意味してよいし、電熱変換部との間に存在する固体を介して受けることを意味してよい。
第1の様態のガスセンサにおける光源装置及び第2の様態の光源装置は、電熱変換部上に保護層を備えることが好ましい。保護層の材料は特に限定されない。ただし、耐酸化性、耐薬品性、耐摩耗性及びガスバリア性向上の観点から、保護層は、Si、O、N、Ti、Al及びCeのうち少なくとも1つの元素を含むことが好ましい。さらに耐酸化性、耐薬品性、耐摩耗性、ガスバリア性を向上する観点から、保護層は、酸化セリウム、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタンであることがより好ましい。
第1の様態のガスセンサにおける光源装置及び第2の様態の光源装置は、電熱変換部を支持する基板を更に備えることが好ましい。電熱変換部の急峻な温度変化を実現するための観点から、基板は貫通部又はキャビティを有することが好ましい。基板の材料に特に制限はないが、高温動作時の耐久性の観点から、シリコン、ガリウムひ素、アルミナ、サファイア、酸化アルミニウムのいずれかであることが好ましい。
本実施形態の光源装置は、電熱変換部に電気的に接続する電極部を更に備えることが好ましい。電極部の材料に特に制限はないが、コンタクト抵抗抑制の観点から、Au、Cu、Ti、Ag、Al、Ni、W、V及びPtのうち少なくとも1つの元素を含むことが好ましく、Ni/V合金、Au、Cu、Ti、W、Ptのうち2元素以上からなる積層構造がより好ましい。
図1から図3は、第1の実施形態の光源装置の構成を説明するための模式図である。本実施形態の光源装置は、特にガスセンサで用いられるガスセンサ用光源装置である。
図2は第2の実施形態の光源装置の構成を説明するための模式図である。第2の実施形態の光源装置では、電熱変換部30上に保護層40aが配置されている。これによって、高温動作時の電熱変換部30の化学的耐性が向上する。
図3は第3の実施形態の光源装置の構成を説明するための模式図である。第3の光源装置では、電熱変換部30上に配置された保護層40aの上に、電熱変換部30より広い面積に放射部20が配置されている。これにより、放射部20が電熱変換部30から保護層40aを介して受けた熱を、赤外線としてより効率よく外界に放出することができる。また、放射部20は保護層40aを介して電熱変換部30の両側に放射部20が配置されている。これにより、光源装置の両側から、高い放射強度を持つ赤外線を外界に放出することが可能となる。
図4は第4の実施形態の光源装置の構成を説明するための模式図である。第4の実施形態では、電熱変換部30上に上部保護膜71と下部保護膜72が接しており、上部保護膜71と下部保護膜72は電熱変換部30の熱を直接受けて赤外線を外界に放出する。
図面を用いて、本実施形態の光源装置の第1の製造方法が説明される。図5から図9は第1の製造方法を説明するための模式図である。まず、基板50の上にLP-CVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)、PE-CVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)又はスパッタリング法などの公知の方法で保護層40bが形成される。次に、保護層40bの上に電熱変換部30の材料がスパッタリング法などの公知の方法で蒸着される(図5参照)。次に、電熱変換部30の一部がエッチング等の公知の方法で除去される(図6参照)。次に、電熱変換部30の周囲に保護層40aがLP-CVD、PE-CVD又はスパッタリング法などの公知の方法で形成される。さらに、放射部20がLP-CVD、PE-CVD又はスパッタリング法などの公知の方法で形成される(図7参照)。次に、放射部20と保護層40aの一部がエッチング等の公知の方法で除去され、電極部60の材料が蒸着される(図8参照)。最後に、必要に応じて基板50の一部がエッチングされて、本実施形態の光源装置を得ることが出来る(図9参照)。
図10は、本実施形態のガスセンサ100を説明するための模式図である。ガスセンサ100は、筐体110と、熱輻射光源120と、受光部130と、を備える。筐体110は、気体を筐体110の内部に導入する導入ポート111と、気体を筐体110の外部に排出する排出ポート112と、を有する。
30 電熱変換部
40a (上面側の)保護層
40b (下面側の)保護層
50 基板
60 電極部
71 上部保護膜
72 下部保護膜
100 ガスセンサ
110 筐体
111 導入ポート
112 排出ポート
120 熱輻射光源
130 受光部
Claims (8)
- 光源装置と、前記光源装置から放出される光を受光する受光部と、
前記光源装置と前記受光部の間に気体を導入することが可能な筐体とを備え、
前記光源装置は電流を流すことでジュール熱を発生する電熱変換部と、
前記電熱変換部上に配置された上部保護膜と、
前記電熱変換部上に、前記上部保護膜とは反対の面に配置された下部保護膜を有し、
赤外線を前記上部保護膜と接する外界から照射したとき、前記上部保護膜と前記電熱変換部からなる領域における吸収率Aと、前記電熱変換部と前記下部保護膜からなる領域における反射率Rの比A/Rが、2μm以上20μm以下の波長領域において1より大きい波長領域を有し、前記受光部に到達する光は前記上部保護膜から放出されることを特徴とする受発光装置。 - 前記上部保護膜から放出される9.5μmにおける放射率が60%以上である、請求項1に記載の受発光装置。
- 前記電熱変換部を支持する基板を更に備える請求項1又は2に記載の受発光装置。
- 前記基板が貫通部又はキャビティを有する請求項3に記載の受発光装置。
- 前記電熱変換部に電気的に接続する電極部を更に備える請求項1から4のいずれか一項に記載の受発光装置。
- 前記電熱変換部がMo、Si、C、Ti、Ge、Al、Cu、Au、Cr、Pt、W、Hf、及びNのうち、少なくとも1つの元素を含む請求項1から5のいずれか一項に記載の受発光装置。
- 前記基板がシリコン、ガリウムひ素、アルミナ、サファイア、酸化アルミニウムのいずれかである請求項3又は4に記載の受発光装置。
- 前記電極部がAu、Cu、Ti、Ag、Al、Ni、W、V及びPtのうち少なくとも1つの元素を含む請求項5に記載の受発光装置。
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