JP7449948B2 - ゼオライトの中の焼結抵抗性金属種 - Google Patents

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本出願は、欧州特許出願第１９３８２０２４．８号（出願日：２０１９年１月１６日）に対する利益及び優先権を主張するものであり、それにおける開示のすべてを、本明細書に取り入れたものとする。

本発明は、触媒金属及びアルカリ金属を含む中細孔又は大細孔の合成ゼオライト、そのような合成ゼオライトを製造するための方法（プロセス）、並びに、それらの合成ゼオライトを含む触媒を使用して炭化水素供給原料を転化させることを含む方法に関する。

ゼオライトは、明確な細孔及びキャビティを有する、結晶質のマイクロポ－ラスの酸化物物質の一つのタイプである。それらの化学的組成は、当初は、アルミノシリケートの多形体に限定されていたが、現在では、Ｓｉ及びＡｌに加えて、さらに多くのヘテロ原子、とりわけたとえば、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｇａ、Ｂｅ及びＺｎを、ゼオライト骨格の中に導入することが可能となっている。

天然及び合成、いずれのゼオライトも、これまでに、吸着剤として有用であること、及び各種の炭化水素の転化反応で触媒的性能を有していることを示してきた。ゼオライトは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）で測定して定まった結晶構造を有する、規則性のある、多孔質で結晶質の物質である。結晶質のゼオライト物質の内部には、数多くのキャビティが存在し、それらが、数多くのチャネル又は細孔によって相互に結合されていてよい。特定のゼオライト物質の内部では、それらのキャビティ及び細孔のサイズは均質である。これらの細孔の寸法は、ある種の寸法の吸着分子を受容する一方で、より大きな寸法のものは退けるので、これらの物質が、各種の工業的方法で使用されている。

ゼオライトは、ＴＯ_４四面体（Ｔ＝Ｓｉ、Ａｌ、Ｐ、Ｔｉなど）の剛直な三次元骨格として記述することができる。それらの四面体が、酸素原子を共有することによって架橋されており、三価元素（たとえば、アルミニウム又はホウ素）又は二価元素（たとえば、Ｂｅ又はＺｎ）を含むその四面体のイオン原子価が、その結晶の中で、カチオン、たとえば、プロトン、アルカリ金属又はアルカリ金属のカチオンを含むことで、バランスがとられている。このことは、第１３族の元素（たとえば、アルミニウム、又はホウ素）の、各種のカチオンたとえば、Ｈ^＋、Ｃａ^２＋＊２、Ｓｒ^２＋＊２、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、又はＬｉ^＋の数に対する比率が１に等しいとして、表すことができる。

触媒作用の用途を見出したゼオライトとしては、任意の天然産又は合成の結晶質のゼオライトが挙げられる。それらのゼオライトの例としては、大細孔ゼオライト、中細孔径ゼオライト、及び小細孔ゼオライトが挙げられる。これらのゼオライト及びそれらのアイソタイプは、”Ａｔｌａｓ ｏｆ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｆｒａｍｅｗｏｒｋ Ｔｙｐｅｓ”，ｅｄｓ，Ｃｈ．Ｂａｅｒｌｏｃｈｅｒ，Ｌ．Ｂ．ＭｃＣｕｓｋｅｒ，Ｄ．Ｈ．Ｏｌｓｏｎ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ｓｉｘｔｈ Ｒｅｖｉｓｅｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００７（非特許文献１）に記載されている（この文献を、参照することにより本明細書に取り入れたものとする）。大細孔ゼオライトは、一般的には、少なくとも約７．０Åの細孔径を有し、そしてＬＴＬ、ＭＡＺ、ＦＡＵ、ＯＦＦ、^＊ＢＥＡ、及びＭＯＲの骨格タイプのゼオライトが含まれる（ＩＵＰＡＣ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅ）。大細孔ゼオライトの例としては、マザイト、オフレタイト、ゼオライトＬ、ゼオライトＹ、ゼオライトＸ、ゼオライトオメガ、及びゼオライトベータが挙げられる。中細孔径ゼオライトは、一般的には、５．０Åから約７．０Å未満までの細孔径を有し、たとえば、ＭＦＩ、ＭＥＬ、ＥＵＯ、ＭＴＴ、ＭＦＳ、ＡＥＬ、ＡＦＯ、ＨＥＵ、ＦＥＲ、ＭＷＷ、及びＴＯＮの骨格タイプのゼオライトが含まれる（ＩＵＰＡＣ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅ）。中細孔径ゼオライトの例としては、ＺＳＭ－５、ＺＳＭ－１１、ＺＳＭ－２２、ＭＣＭ－２２、シリカライト１、及びシリカライト２が挙げられる。小細孔径ゼオライトは、約３Åから約５．０Å未満までの細孔径を有し、たとえば、ＣＨＡ、ＥＲＩ、ＫＦＩ、ＬＥＶ、ＳＯＤ、及びＬＴＡの骨格タイプのゼオライトが含まれる（ＩＵＰＡＣ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｎｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅ）。小細孔ゼオライトの例としては、ＺＫ－４、ＳＡＰＯ－３４、ＳＡＰＯ－３５、ＺＫ－１４、ＳＡＰＯ－４２、ＺＫ－２１、ＺＫ－２２、ＺＫ－５、ＺＫ－２０、ゼオライトＡ、チャバザイト、ゼオライトＴ、及びＡＬＰＯ－１７が挙げられる。

ゼオライトの合成には、典型的には、そのゼオライトの中に存在させるすべての元素の供給源が、多くの場合、ｐＨを調節するための水酸化物イオンの供給源と共に含まれる合成混合物を調製する工程が含まれる。多くの場合において、構造指向剤（ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｄｉｒｅｃｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ＝ＳＤＡ）も存在させる。構造指向剤は、ゼオライト骨格の形成を促進すると考えられている化合物であり、そしてそれが、テンプレートとして機能して、その周りに、ある種のゼオライト構造が形成されることが可能であり、それによって所望のゼオライトの形成が促進されると考えられている。各種のタイプの四級アンモニウムカチオンを含め、各種の化合物が、構造指向剤として使用されてきた。

ゼオライトの合成は、複雑なプロセスである。製造されるゼオライトの純度、収率、及び品質に関連して、その合成を最適化するために制御する必要がある変動要素の数は多い。特に重要な変動要素は、合成テンプレート（構造指向剤）の選択であって、通常これが、合成から得られる骨格のタイプを決定する。ゼオライト触媒の調製においては、典型的には、四級アンモニウムイオンが構造指向剤として使用される。たとえば、米国特許第６，０４９，０１８号明細書（特許文献１）に記載されているように、ゼオライトＭＣＭ－６８は、四級アンモニウムイオンから製造することができる。典型的に、四級アンモニウムイオンを使用して製造されるその他の公知のゼオライトとしては、ＺＳＭ－２５、ＺＳＭ－４８、ＺＳＭ－５７、ＺＳＭ－５８、及びＥＣＲ－３４が挙げられるが、それらは、以下の特許に記載されている：米国特許第４，２４７，４１６号明細書（特許文献２）、米国特許第４，５８５，７４７号明細書（特許文献３）、米国特許第４，６４０，８２９号明細書（特許文献４）、米国特許第４，６９８，２１８号明細書（特許文献５）、及び米国特許第５，４５５，０２０号明細書（特許文献６）。

「合成したままの（ａｓ－ｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅｄ）」ゼオライトには、その細孔の中に構造指向剤が含まれているであろうから、通常は、それを焼成ステップ（工程）にかけて、構造指向剤を燃え尽きさせて、細孔を空にする。多くの触媒用途においては、そのゼオライト構造の中に、金属カチオン、たとえば元素周期律表の第２族～第１５族の金属のカチオンを含んでいるのが、さらに好ましい。これは、典型的には、イオン交換処理によって達成される。

ゼオライトは、工業的触媒の中で、触媒金属の担体として使用されることが多い。そのような触媒金属、たとえば白金及びロジウムは、石油精製用触媒のキーとなる成分であるが、その理由は、それらが、とりわけ、Ｃ－Ｈ、Ｈ－Ｈ、及びＣ＝Ｃ結合を活性化させることができるからである。金属はさらに、酸触媒を用いた方法における炭化による触媒の失活を軽減させるという重要な役割も果たし、水素を使用して重質の炭化水素を除去して、その触媒の表面をクリーンに維持する。これらの変換反応の操作温度が高いこと、及び水素のような強力な還元体の存在下で実施されることから、その金属が、より大きな（熱力学的には、より安定な）金属粒子の形態へと徐々に再組織化される（これは、触媒作用に利用可能なサイトの有効数が失われるということを意味している）ことにより重大な問題が生じる。さらに、そのような触媒は、多くの場合、その触媒表面から、付着している重質炭化水素を、空気及び高温を使用して、燃焼プロセスを完結させて、除去するという、定期的な再生手順が必要とされる。触媒寿命にわたってＨ_２／Ｏ_２のサイクルを使用することによって、金属の焼結という問題が、ますます大きくなる。

現在では、ゼオライトの上に担持させた金属触媒を製造するのに、多くの方法が利用可能となっている。今日では、ほとんどの担持金属触媒が、担体のイオン交換法又は初期湿潤含浸法（ｉｎｃｉｐｉｅｎｔ ｗｅｔｎｅｓｓ ｉｍｐｒｅｇｎａｔｉｏｎ）によって調製されている。それぞれの場合においても、その目的は、担体の外側表面の上に金属粒子のアグロメレーションを起こさせることなく、担体の細孔の内側に金属を配置することである。金属は、典型的には、カチオン前駆体として導入されるので、それらは、イオン骨格に関わるカチオン、具体的には、三価元素たとえばアルミノシリケート物質の場合におけるＡｌ、又は四価元素たとえばシリコアルミノホスフェート物質の場合におけるＳｉと、イオン交換することができる。正電荷の金属カチオンと、ゼオライトの細孔及び／又はキャビティの中の負電荷のアニオン性サイトが結合することによって、金属の初期分散性を高めることができる。

米国特許第６，０４９，０１８号明細書 米国特許第４，２４７，４１６号明細書 米国特許第４，５８５，７４７号明細書 米国特許第４，６４０，８２９号明細書 米国特許第４，６９８，２１８号明細書 米国特許第５，４５５，０２０号明細書

"Ａｔｌａｓ ｏｆ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｆｒａｍｅｗｏｒｋ Ｔｙｐｅｓ"，ｅｄｓ，Ｃｈ．Ｂａｅｒｌｏｃｈｅｒ，Ｌ．Ｂ．ＭｃＣｕｓｋｅｒ，Ｄ．Ｈ．Ｏｌｓｏｎ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ｓｉｘｔｈ Ｒｅｖｉｓｅｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００７

しかしながら、いくつかの用途では、アニオン性の三価の骨格ヘテロ原子、たとえばＡｌが原因の、ブレンステッド酸性度を最小化又は消失させる必要があるが、このことが、骨格外（ｅｘｔｒａ－ｆｒａｍｅｗｏｒｋ）金属カチオンの取込み及び安定化を困難にする。その骨格外金属の担持量が高く、そしてその金属が、複数の電荷を有している場合には、これは特に大きな問題である。したがって、三価元素たとえばＡｌの含量が極めて低いゼオライト、特には、シリカ質が高いゼオライトの内側に、金属を組み入れられれば、望ましいであろう。

一つの態様において、本発明は、以下のものを含む、中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを提供するが、
ａ．ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．０２重量％の、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｃｕ、及びそれらの組合せからなる群より選択される少なくとも１種の触媒金属（このものは、触媒金属粒子として存在し、上記触媒金属粒子の数にして少なくとも６０％が、２．０ｎｍ以下の粒径を有している）、及び
ｂ．ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．００５重量％の、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ、並びにそれらの混合物からなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属、
ここで、そのゼオライトが、その骨格の中に、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せから選択される、三価の金属元素Ｙを含んでいる場合には、そのＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３の比率が、２００：１より大、場合によっては３００：１より大、場合によっては５００：１より大、場合によっては１０００：１より大である。

なおもさらなる態様においては、本発明は、本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライト、及び触媒の重量を基準にして、少なくとも０．１重量％のバインダーを含む触媒を提供する。

また別の態様においては、本発明は、中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを調製するための方法（プロセス）を提供するが、それに含まれるのは、
中細孔又は大細孔の合成ゼオライト骨格を形成することが可能な合成混合物を備える工程であって、その合成混合物が、少なくとも１種のＳｉの供給源、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｃｕ、及びそれらの組合せからなる群より選択される触媒金属の供給源を含む少なくとも１種の触媒金属前駆体、並びにＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ、並びにそれらの混合物からなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の供給源を含み、そしてここで、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せから選択される三価の金属元素Ｙが存在するのなら、そのＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３の比率が、２００：１より大、場合によっては３００：１より大、場合によっては５００：１より大、場合によっては１０００：１より大である、工程、
ａ．上記合成混合物を結晶化条件下で加熱して、上記合成ゼオライトの結晶を形成させる工程、及び
ｂ．その合成混合物から上記中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの結晶を回収する工程。

本発明はさらに、なおもさらなる態様において、本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの吸着剤又は触媒としての使用も提供する。

本発明はさらに、なおもさらなる態様において、有機化合物を含む供給原料を転化させて転化反応生成物とするための方法も提供するが、それには、上記供給原料を、本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを含む触媒と接触させる工程が含まれる。

その合成混合物が、構造指向剤（ＳＤＡ）を含んでいる場合には、その合成混合物から回収された中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの結晶には、そのゼオライトの細孔及びキャビティの中にＳＤＡが含まれているであろう（すなわち、「合成したままの（ａｓ ｍａｄｅ）」形態である）。本発明の合成ゼオライトを調製するための方法にはさらに、その合成混合物から回収された合成ゼオライトを焼成工程にかける工程が含まれていてもよい。その焼成工程では、構造指向剤が除去され、焼成された形態のゼオライトが得られる。その焼成工程ではさらに、結晶化工程の際に金属を安定化させるために使用された各種の配位子もまた除去される。

実施例１～４からのＰｔ－ゼオライトのサンプルのＸＲＤパターンを示す図である。 実施例１～４からのＰｔ－ゼオライト物質のＳＴＥＭ画像及び相当する粒径分布を示す図である。（ａ，ｅ）Ｐｔ＠ＭＦＩ、（ｂ，ｆ）ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ、（ｃ，ｇ）Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩ、及び（ｄ，ｈ）Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ。 実施例１～４からのＰｔ－ゼオライトのサンプルのＸＡＮＥＳスペクトルを示す図であって、それらは、スペクトルを測定する前に６００℃で、Ｈ_２により還元したものである。Ｐｔ及びＰｔＯ_２の参照サンプルは、直接測定した。 実施例１～４からのＰｔ－ゼオライトのサンプル及び参照サンプルの、Ｐｔ Ｌ_３エッジでのＥＸＡＦＳスペクトルを示す図である。 ６００℃でＨ_２により「その場還元」（ｉｎ ｓｉｔｕ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）させた後の、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルのＸＡＮＥＳスペクトルを、直接測定した参照サンプルと共に示す図である。 Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプル及びいくつかの参照サンプルのＳｎ ＫエッジでのＥＸＡＦＳスペクトルを示す図である。 Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩゼオライトの高分解能ＳＴＥＭ画像を示す図であり、［０１０］配向にあるＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの同一の領域内の、ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ画像及びそれに相当するｉＤＰＣ画像が含まれている。 傾斜［０１０］配向にあるＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの同一の領域内の、ＳＴＥＭ－ＨＡＡＤＦ画像及びそれに相当するｉＤＰＣ画像を示す図である。ＨＡＡＤＦ画像においては、１ナノメートル未満の（ｓｕｂｎａｎｏｍｅｔｒｉｃ）Ｐｔのクラスター（約０．５ｎｍ）が明確に認められる。それに相当するｉＤＰＣ画像においては、ＭＦＩゼオライトの原子構造が、同様に、明確に認められる。これら二つのモデルで得られた画像を組み合わせると、ＭＦＩゼオライトの中のＰｔ種の正確な位置を特定することが可能となり、それらは、シヌソイダルチャネル（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ ｃｈａｎｎｅｌ）である。 実施例５及び６の、Ｋ－ＰｔＧａ＠ＭＦＩ及びＫ－ＰｔＺｎ＠ＭＦＩのサンプルのＸＲＤパターンを示す図である。 実施例５のＫ－ＰｔＺｎ＠ＭＦＩのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図であり、１ナノメートル未満のＰｔＺｎクラスター及びいくつかのＰｔＺｎナノ粒子（１～２ｎｍ）の存在を示している。このサンプルにおいては、２ｎｍ未満の金属粒子のパーセントは、約７０％である。 実施例６のＫ－ＰｔＧａ＠ＭＦＩのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図であり、１ナノメートル未満のＰｔＧａクラスター及びいくつかのＰｔＧａナノ粒子の存在を示している。このサンプルにおいては、２ｎｍ未満の金属粒子のパーセントは、約８０％である。 実施例７のＮａ－Ｐｔ＠ＭＷＷのサンプルのＸＲＤパターンを示す図である。 ６５０℃でのＨ_２による還元をした後の、実施例７のＮａ－Ｐｔ＠ＭＷＷのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図であり、純粋なシリカ質のＭＷＷゼオライトのクリスタリットの中に分散した、１ナノメートル未満のＰｔのクラスター（０．６－０．９ｎｍ）の存在を示している。２ｎｍ未満のＰｔナノ粒子のパーセントは、９８％より大である。 ６００℃でのプロパンの脱水素の場合の、実施例１のＰｔ＠ＭＦＩ触媒（１．４重量％のＰｔ）の触媒性能（プロパンの転化率及びプロピレンへの選択率）を示す図である。反応条件：１００ｍｇのＰｔ＠ＭＦＩ触媒、プロパン／Ｎ_２（５ｍＬのプロパン及び１６ｍＬのＮ_２）。６００℃でＨ_２により触媒を還元してから、雰囲気を反応フィードガスに切り替えた。失活した触媒は、空気中、６００℃で２時間焼成することにより再生し、次いでＨ_２により、６００℃で１時間かけて還元した。（ａ）第一サイクル、（ｂ）第二サイクル、及び（ｃ）第三サイクル。 ６００℃でのプロパンの脱水素の場合の、実施例２のＰｔＳｎ＠ＭＦＩ触媒（１．３７重量％のＰｔ、０．７３重量％のＳｎ）の触媒性能（プロパンの転化率及びプロピレンへの選択率）を示す図である。反応条件：１００ｍｇのＰｔＳｎ＠ＭＦＩ触媒、プロパン／Ｎ_２（５ｍＬのプロパン及び１６ｍＬのＮ_２）。６００℃でＨ_２により触媒を還元してから、雰囲気を反応フィードガスに切り替えた。失活した触媒は、空気中、６００℃で２時間焼成することにより再生し、次いでＨ_２により、６００℃で１時間かけて還元した。（ａ）第一サイクル、（ｂ）第二サイクル、及び（ｃ）第三サイクル。 ６００℃でのプロパンの脱水素の場合の、実施例３のＫ－Ｐｔ＠ＭＦＩ触媒（１．４３重量％のＰｔ及び０．７重量％のＫ）の触媒性能（プロパンの転化率（三角）及びプロピレンへの選択率（四角））を示す図である。反応条件：１００ｍｇのＫ－Ｐｔ＠ＭＦＩ触媒、プロパン／Ｎ_２（５ｍＬのプロパン及び１６ｍＬのＮ_２）。６００℃でＨ_２により触媒を還元してから、雰囲気を反応フィードガスに切り替えた。失活した触媒は、空気中、６００℃で２時間焼成することにより再生し、次いでＨ_２により、６００℃で１時間かけて還元した。（ａ）第一サイクル、及び（ｂ）第二サイクル、及び（ｃ）第三サイクル。 ６００℃でのプロパンの脱水素の場合の、実施例４のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ触媒（１．４８重量％のＰｔ、０．６２重量％のＳｎ、及び０．６４重量％のＫ）の触媒性能（プロパンの転化率及びプロピレンへの選択率）を示す図である。反応条件：１００ｍｇのＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ触媒、プロパン／Ｎ_２（５ｍＬのプロパン及び１６ｍＬのＮ_２）。６００℃でＨ_２により触媒を還元してから、雰囲気を反応フィードガスに切り替えた。失活した触媒は、空気中、６００℃で２時間焼成することにより再生し、次いでＨ_２により、６００℃で１時間かけて還元した。（ａ）第一サイクル、（ｂ）第二サイクル、及び（ｃ）第三サイクル。 プロパンの脱水素を３サイクルさせた後の、実施例１のＰｔ＠ＭＦＩのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図である。この画像から、Ｐｔのナノ粒子のアグロメレーションが起きて、より大きなものになっていることを見ることができる。 プロパンの脱水素を３サイクルさせた後の、実施例２のＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図である。この画像から、Ｐｔのナノ粒子のアグロメレーションが起きて、より大きなものになっていることを見ることができる。 プロパンの脱水素反応を３サイクルさせた後の、実施例３のＫ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図である。そのサンプルの中には、数多くの１ナノメートル未満のＰｔのクラスター、さらには幾分かのＰｔナノ粒子が、依然として存在している。プロパンの脱水素反応を３サイクルさせた後では、Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルの中のＰｔ粒子の約９０％が、２ｎｍ未満である。 プロパンの脱水素反応を３サイクルさせた後の、実施例４のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルのＳＴＥＭ画像を示す図である。上述の画像は、粉末試料を用いて得たものである。いくつかの領域では、Ｐｔが焼結されてナノ粒子になっていることが観察できる。プロパンの脱水素反応を３サイクルさせた後では、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの中のＰｔ粒子の９０％を越えるものが、２ｎｍ未満である。 プロパンの脱水素反応の前（Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩと名付けた）及び後（Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ－ＡＲと名付けた）での、実施例４のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの、ＰｔエッジでのＥＸＡＦＳスペクトルを示す図である。 プロパンの脱水素反応の前及び後での、実施例４のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの、ＳｎエッジでのＥＸＡＦＳスペクトルを示す図である。Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルのスペクトルはすべて、６００℃でのＨ_２によるその場還元の後で記録した。参照サンプルは、直接測定した。プロパンの脱水素反応の後の、使用したＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩについてのフィッティング結果を、表２及び表３に示している。 ６００℃でのプロパンの脱水素の場合の、初期湿潤含浸法によって調製したＫ－ＰｔＳｎ／ＭＦＩ触媒（実施例８ａ）の、触媒性能（プロパンの転化率（三角）及びプロピレンへの選択率（四角））を示す図である。反応条件：１００ｍｇのＫ－ＰｔＳｎ／ＭＦＩ触媒、プロパン／Ｎ_２（５ｍＬのプロパン及び１６ｍＬのＮ_２）。６００℃でＨ_２により触媒を還元してから、雰囲気を反応フィードガスに切り替えた。失活した触媒は、空気中、６００℃で２時間焼成することにより再生し、次いでＨ_２により、６００℃で１時間かけて還元した。（ａ）第一サイクル、及び（ｂ）第二サイクル、及び（ｃ）第三サイクル。 慣用される初期湿潤法により調製されたＫ－ＰｔＳｎ／ＭＦＩ触媒（実施例８ａ）の、３サイクルのプロパンの脱水素反応をさせた後でのＳＴＥＭ画像を示す図であり、ＭＦＩゼオライトの表面上に、アグロメレート化されたＰｔナノ粒子が存在していることを示している。粒径分布のヒストグラムによれば、プロパンの脱水素反応を３サイクルさせた後の、使用後のＫ－ＰｔＳｎ／ＭＦＩ触媒においては、Ｐｔナノ粒子の約５０％が、２ｎｍより大きい。 空気中で焼成し、６００℃でＨ_２により還元させた後の、０．４重量％のＰｔを含むＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプル（実施例９）のＳＴＥＭ画像を示す図である。これらの画像においては、１ナノメートル未満のＰｔ種が良好な分散をしていることが観察できる。 実施例９のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩの、ニトロベンゼン及び３－ニトロトルエンを水素化する場合の形状選択的触媒性能を示す図である。反応条件：１０ｍｇの、６００℃でＨ_２により還元させた後のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ触媒（０．４重量％のＰｔ、０．８重量％のＳｎ、及び０．６重量％のＫを含む）、１ｍｍｏｌのニトロアレーン、２ｍＬの溶媒としてのエタノール、１００℃、そして１０ｂａｒのＨ_２。初期反応速度は、転化率が１０％未満のときに計算した。 ＲＯＲ処理をした後の、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ（１．４重量％のＰｔを含む、実施例４から）のＳＴＥＭ画像を示す図である。フレッシュなＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルを、最初に、６００℃で２時間かけて、Ｈ_２により還元した。次いで、そのサンプルを、６５０℃で２時間かけて空気中で、焼成した。空気中での焼成処理の後、そのサンプルをもう一度、６００℃で２時間かけて、Ｈ_２により還元した。

本願発明者らが見出したところでは、そのゼオライトの細孔及び／又はキャビティの内側にカプセル化された形態で存在している触媒金属を含み、さらにはアルカリ金属又はアルカリ土類金属が存在している、中細孔及び大細孔ゼオライト、特にはシリケートゼオライトを合成することが可能である。理論に束縛されることなく言えば、本願発明者らの信ずるところでは、中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの内部、特には、合成ゼオライトの細孔及び／又はキャビティの内部で、触媒金属及びアルカリ金属をカプセル化させることによって、その触媒金属種が成長を抑制して小粒子とすること、たとえば、２．０ｎｍ未満の最大寸法、たとえば０．２～２．０ｎｍの間、たとえば０．５～１．０ｎｍの間の最大寸法を有する触媒金属粒子とし、そして、それらの粒子の顕著な成長を妨げて、それにより、三価の骨格のヘテロ原子、たとえばＡｌが存在しない場合でさえも、焼結に対する改良された抵抗性が得られる。本明細書で使用するとき、「金属粒子」という用語には、金属原子のクラスター又は単一の金属原子、さらには、より大きな金属粒子が含まれていると理解されたい。慣用されるゼオライト又はシリカ担体の上の貴金属種は、それとは対照的に、一般的には還元及び酸化の高温サイクル下では、焼結、従って金属粒子の成長を示し、それによって、触媒のサイトの数の減少、そして触媒の活性の低下がもたらされる。それに加えて、本発明のゼオライトは、有機転化反応における選択率、及び触媒毒に対する抵抗性（その触媒毒が、中細孔又は大細孔のゼオライトの細孔で拡散して、その触媒金属の機能に影響することがないくらい大きい分子の形態にある場合）の面で利点を有している可能性がある。

「合成ゼオライト」という用語は、自然の環境から採鉱、採石、又は同様の方法で得られた天然由来のゼオライトであることとは対照的に、合成混合物から調製されたゼオライトを指していると理解するべきである。

「小細孔径の合成ゼオライト」という用語は、本明細書で使用するとき、そのゼオライトの細孔が、３．０Åから５．０Å未満までの範囲のサイズを有している、合成ゼオライトを指している。小細孔径の合成ゼオライトは、一般的には、８員環の骨格構造を有しているであろうが、３．０～５．０Åの範囲のサイズを有する歪んだ環を有し、そして本明細書で使用するときの「小細孔径の合成ゼオライト」という用語の範疇に入るいくつかの９員若しくは１０員環のゼオライトも公知である。「中細孔径の合成ゼオライト」という用語は、本明細書で使用するとき、そのゼオライトが、５．０Åから７．０Å未満まで、場合によっては、５．１Åから７．０Å未満まで、場合によっては、５．２Åから７．０Å未満までの範囲のサイズの細孔を有する、合成ゼオライトを指している。その中細孔径の合成ゼオライトは、一般的には、１０員以上の環の骨格構造を有している。その中細孔径の合成ゼオライトが、場合によっては、１０員環のゼオライトである。「大細孔径の合成ゼオライト」という用語は、本明細書で使用するとき、そのゼオライトの細孔が、少なくとも７．０Å、たとえば７．０Å～９．０Åのサイズを有する、合成ゼオライトを指している。その大細孔径の合成ゼオライトは、一般的には、１０員又は１２員の環の骨格構造を有している。場合によっては、その大細孔径の合成ゼオライトが、１２員環のゼオライトである。いくつかのゼオライトは、２種以上の異なったサイズの細孔を有している。そのような場合には、小細孔、中細孔又は大細孔であるゼオライトの名称は、そのゼオライト骨格の中の最大の細孔サイズを基準にする。たとえば、ゼオライトが、３．０Åから５．０Å未満までの範囲のサイズを有する８員環の細孔と、５．０Åから７．０Å未満までの範囲のサイズの１０員環の細孔との両方を有している場合には、それは、中細孔径のゼオライトとみなされるであろう。本発明の目的のためには、そのゼオライト構造の中で、最大の細孔タイプが５．０Åから７．０Å未満までの範囲に入るサイズを有するような各種のゼオライトは、中細孔径のゼオライトではあるが、そのゼオライトが、その範囲内の細孔のみを有しているものが好ましい。本発明の目的のためには、そのゼオライト構造の中で、最大の細孔タイプが、少なくとも７．０Åのサイズを有するような各種のゼオライトが、大細孔径のゼオライトではあるが、ゼオライトが、その範囲内の細孔のみを有しているものが好ましい。

数多くのゼオライトが、次の文献の中に記載されている：「Ａｔｌａｓ ｏｆ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｆｒａｍｅｗｏｒｋ Ｔｙｐｅｓ」，ｅｄｓ，Ｃｈ．Ｂａｅｒｌｏｃｈｅｒ，Ｌ．Ｂ．ＭｃＣｕｓｋｅｒ，Ｄ．Ｈ．Ｏｌｓｏｎ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，Ｓｉｘｔｈ Ｒｅｖｉｓｅｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，２００７。

場合によっては、本発明の中細孔又は大細孔の径の合成ゼオライトが、次の骨格タイプの中細孔ゼオライトである：ＭＷＷ、ＴＯＮ、ＭＴＴ、ＤＯＮ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＭＦＩ、ＭＥＬ、ＭＲＥ、ＭＴＷ、ＦＥＲ、ＥＵＯ、ＡＦＩ、ＢＯＸ、ＣＯＮ、ＩＳＶ、ＩＴＮ、ＧＯＮ、ＩＦＲ、ＩＦＷ、ＩＷＶ、ＩＴＨ、ＭＥＩ、ＩＷＷ、ＮＥＳ、ＲＲＯ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＧ、ＳＦＦ、ＳＦＮ、ＳＦＨ、ＳＳＹ、ＳＳＦ、ＳＦＳ、ＳＶＲ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、ＳＴＦ、ＥＷＴ、ＵＯＶ、ＴＯＮ、又はＳＦＶ。本発明の中細孔又は大細孔の径の合成ゼオライトが、ＭＦＩ、ＥＵＯ、ＭＴＴ、ＡＦＯ、ＭＥＬ、ＭＦＳ、ＦＥＲ、ＴＯＮ、若しくはＭＷＷの骨格タイプの中細孔ゼオライトであるか、又は、ＦＡＵ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＭＯＲ、及びＬＴＬの骨格タイプの大細孔ゼオライトであれば、有利である。その中細孔又は大細孔のゼオライトが、ＭＦＩ、ＭＷＷ、ＢＥＡ、又はＦＥＲの骨格タイプのものであれば、好ましい。ＭＦＩが特に好ましい。そのゼオライトの骨格タイプが、場合によっては、構造指向剤の存在を要することなく合成することが可能な、骨格タイプであってもよい。また別の実施形態においては、その合成ゼオライトが、その合成混合物の中に構造指向剤の存在を要するような骨格タイプであってもよい。

本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトが、シリケートゼオライトであれば好ましい。本発明のゼオライトは、その骨格の中に、その合成混合物の成分の中の不純物に起因する、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せから選択される、１種又は複数の三価元素のＹを低レベルで含んでいてもよい。たとえば、シリカのいくつかの供給源には、不純物として、酸化アルミニウムが含まれている可能性がある。その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトが、純粋なシリケートである場合には、それは、ゼロである（Ｙ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２）のモル比を有するか、或いは、無限大である（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）のモル比を有している（すなわち、Ｙ_２Ｏ_３が存在しない）。その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの中に１種又は複数の三価元素のＹが存在している場合には、そのゼオライトは、（２００：１）より大、好ましくは（３００：１）より大、より好ましくは（４００：１）より大、最も好ましくは（５００：１）より大、特には（１０００：１）より大の、（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）のモル比を有している。本発明を定義する目的では、そのゼオライト骨格が、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、及びＦｅから選択される２種以上の三価の金属Ｙを含んでいるような場合には、比率（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）は、その骨格の中で最大のモル濃度を有する金属Ｙを基準にする。場合によっては、そのゼオライト骨格の中にＡｌが存在している場合には、そのゼオライトは、（２５０：１）より大、好ましくは（３００：１）より大、より好ましくは（４００：１）より大、最も好ましくは（５００：１）より大、特には（１０００：１）より大の、（ＳｉＯ_２：Ａｌ_２Ｏ_３）のモル比を有している。場合によっては、そのゼオライト骨格の中にＢが存在している場合には、そのゼオライトは、（２５０：１）より大、好ましくは（３００：１）より大、より好ましくは（４００：１）より大、最も好ましくは（５００：１）より大、特には（１０００：１）より大の、（ＳｉＯ_２：Ｂ_２Ｏ_３）のモル比を有している。場合によっては、そのゼオライト骨格の中にＧａが存在している場合には、そのゼオライトは、（２５０：１）より大、好ましくは（３００：１）より大、より好ましくは（４００：１）より大、最も好ましくは（５００：１）より大、特には（１０００：１）より大の、（ＳｉＯ_２：Ｇａ_２Ｏ_３）のモル比を有している。場合によっては、そのゼオライト骨格の中にＦｅが存在している場合には、そのゼオライトは、（２５０：１）より大、好ましくは（３００：１）より大、より好ましくは（４００：１）より大、最も好ましくは（５００：１）より大、特には（１０００：１）より大の、（ＳｉＯ_２：Ｆｅ_２Ｏ_３）のモル比を有している。ゼオライト骨格構造の内部にアルミニウムのような三価の金属が存在していると、その触媒に対する酸性点に寄与するが、それはさらに、ゼオライトの熱安定性の低下にも関連し、そしてそれらの酸性点は、使用の際に生じるコーキングのレベルを上げる可能性もある。

その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトは、場合によっては、少なくとも７５％、場合によっては８０％、場合によっては少なくとも９０％、好ましくは少なくとも９５％、最も好ましくは少なくとも９８％の結晶化度を有している。一つの実施形態においては、その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトが、実質的に純粋な結晶質の物質である。結晶化度は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）により、初期湿潤法により調製された、同一の骨格タイプ、同一の組成、同一又は類似の粒径、並びに同一の量の金属を含む、公知の１００％結晶度の物質の標準物質と比較することにより、計算することができる。触媒金属は、主として骨格外の金属であり、金属粒子の形態にあるので、Ｘ線を散乱させる傾向を有するであろう。したがって、結晶化度を計算して、完全に比較可能な結果を得るためには、その標準物質が、その中細孔又は大細孔の径の合成ゼオライトの中に存在しているのと、同一の金属を同一の量で含んでいるということが重要である。

中細孔又は大細孔の合成ゼオライトには、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｃｕ、及びそれらの組合せからなる群より選択される、触媒金属が含まれる。しかし本発明を定義する目的では、本発明のゼオライトが、触媒金属を含んでいると考えられ、典型的には、その触媒金属が骨格外金属である、すなわち、その触媒金属が、一般的には、その合成ゼオライトの骨格、すなわち、その合成ゼオライトの四面体の三次元骨格の一部を形成していない。金属の量は、蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）又は高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）によって求められ、全サンプルの中の、（たとえば酸化物の形としてではなく、金属の元素の形を基準としての）金属の重量％として表される。場合によっては、中細孔又は大細孔径の合成ゼオライトは、少なくとも０．０２重量％、場合によっては少なくとも０．０５重量％、好ましくは０．０５～５．０重量％、好ましくは０．１～３．０重量％、より好ましくは０．２～２．５重量％、最も好ましくは０．２～２．０重量％の触媒金属を含んでいる。

触媒金属は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、及びそれらの組合せからなる群より；より好ましくはＲｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｅ、及びそれらの組合せからなる群より；最も好ましくはＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、及びＡｕ、並びにそれらの組合せからなる群より；特にはＰｔ、Ｐｄ、及び／又はＲｈから選択するのがよい。Ｐｔ及びＲｈが特に好ましい触媒金属であり、そして特にはＰｔである。

典型的には、その触媒金属は、金属粒子の形態で存在するであろうが、それには、金属クラスター、さらにはサイト単離された（ｓｉｔｅ－ｉｓｏｌａｔｅｄ）単一の金属原子が含まれる（その触媒金属は、粒子及び／又はクラスターの中に、金属元素として、又は金属酸化物として存在することができる）。本発明のゼオライトにおいては、その触媒金属が、粒子の形態で存在し、そこでは、上記触媒金属粒子の、数にして少なくとも６０％、場合によっては少なくとも７０％、場合によっては少なくとも８０％、場合によっては少なくとも９０％、そしていくつかの場合においては少なくとも９５％が、２．０ｎｍ以下の粒径を有している。本発明を定義する目的において、触媒金属の粒子の「サイズ」という表現は、電子顕微鏡法で測定したときの、最大寸法の粒子を指していると理解されたい。透過型電子顕微鏡法（Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ＝ＴＥＭ）及び透過型走査電子顕微鏡法（ＳＴＥＭ）などの、一連の電子顕微鏡法を使用して、最大寸法を測定するが、本明細書においては、ＴＥＭと言った場合には、ＳＴＥＭも含まれていると理解されたい。上記触媒金属粒子の、数にして、好ましくは少なくとも６０％、場合によっては少なくとも７０％、場合によっては少なくとも８０％、場合によっては少なくとも９０％、そしていくつかの場合においては少なくとも９５％が、０．２～２．０ｎｍの範囲、たとえば０．５～１ｎｍの範囲のサイズを有している。本出願の文脈においては、「数にして、粒子のパーセント」という表現は、１００個の粒子の中で、要求される特性を有する粒子の数の算術平均を指していて、この値は、少なくとも１０００個の粒子の母集団に基づいて求められる。その母集団には、その画像の中に存在している全ての粒子が含まれているのが好ましく、その画像は、全体としてそのサンプルを代表するように選択されるであろう。本出願においては、金属の粒径を論じている場合の、「最大寸法」という表現は、ＴＥＭで測定した場合の最大寸法を意味している。実質的に球形の粒子の場合においては、粒子の最大寸法は、その直径に相当するであろう。不規則な形状の粒子の場合においては、粒子の最大寸法は、その粒子を完全に包み込むことが可能な最小の球の直径に相当するであろう。

特に好ましい実施形態においては、本発明の中細孔又は大細孔の径の合成ゼオライトを、空気中６００℃で２時間焼成し、そしてＨ_２で、６００℃で２時間処理する熱処理の後では、その触媒金属は、依然として粒子の形態で存在するであろうが、ここで、その粒子の、数にして、少なくとも６０％、場合によっては少なくとも７０％、場合によっては少なくとも８０％、場合によっては少なくとも９０％、そしていくつかの場合においては少なくとも９５％が、ＴＥＭで測定して、２．０ｎｍ未満の最大寸法を有し；特にはその粒子の、数にして、少なくとも６０％、場合によっては少なくとも７０％、場合によっては少なくとも８０％、場合によっては少なくとも９０％、いくつかの場合においては少なくとも９５％が、ＴＥＭで測定して、好ましくは、０．２～２．０ｎｍ、たとえば０．５～１．０ｎｍの範囲にある最大寸法を依然として有しているであろう。

透過型走査電子顕微鏡法（ＳＴＥＭ）により測定した、触媒金属の粒子の数平均粒径は、好ましくは１．５ｎｍ以下、より好ましくは１．０ｎｍ以下、場合によっては０．８ｎｍ以下である。Ｘ線吸収微細構造分光法（ＥＸＡＦＳ）は、金属原子の配位数の定量を可能とすることによって、触媒金属の粒子の平均粒径を測定するまた別の手段を提供する。Ｘ線吸収微細構造分光法（ＥＸＡＦＳ）により測定した、触媒金属の粒子の数平均粒径は、好ましくは２ｎｍ以下、より好ましくは１．０ｎｍ以下、場合によっては０．８ｎｍ以下である。

場合によっては、触媒金属の分散度は、少なくとも３０％、場合によっては少なくとも４０％、場合によっては少なくとも５０％、たとえば少なくとも６０％、そしていくつかの場合においては少なくとも７０％である。分散度（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）は、触媒作用の分野では周知のパラメーターであって、通常は、吸着質／金属の化学量論が既知で、そしてそのサンプルの中の金属の量が既知であると、特定のガスが、サンプルの金属の表面上にどの程度まで吸着させることができるかを定量化することによって求められる。たとえば、Ｐｔの場合、Ｐｔ粒子の外側表面の上のＰｔのそれぞれの原子において、Ｈ_２がＰｔの上に、（１：１）の化学量論で吸着される。吸着されたＨ_２の量を測定し、存在しているＰｔの既知の量と比較することによって、どれくらいのＰｔが外側にあるかを計算することができる。ゼオライトの表面上にあるものとは対照的に、ゼオライトの内側に位置している触媒金属粒子は、ゼオライトの中に「カプセル化されている」と考えることができ、そのため、ゼオライトの細孔を通過するには大きすぎる供給原料の成分からは遮蔽されている。そのようになっているので、供給原料の中に存在している、ゼオライトの細孔を通過するには十分の小ささを有している化合物と、ゼオライトの細孔を通過するには大きすぎる、化学的に同様の化合物との、触媒の反応速度を比較することによって、触媒金属のカプセル化の程度の尺度を得ることが可能である。一つの好ましい実施形態においては、ゼオライトの中にカプセル化されている触媒金属のパーセント（α）が、次式によって求められる：

ここで、αは、ゼオライトの中にカプセル化されている触媒金属のパーセントであり、ＬＲは、１秒あたり触媒金属１モルあたり転化される大きい供給原料のモルとして表した大きい供給原料の反応速度であり、ＳＲは、１秒あたり触媒金属１モルあたり転化される小さい供給原料のモルとして表した小さい供給原料の反応速度である。「ＬＲ ゼオライト」及び「ＳＲ ゼオライト」は、試験される触媒の、大きい供給原料及び小さい供給原料の速度と理解するべきであり、そして「ＬＲ ＳｉＯ_２」及び「ＳＲ ＳｉＯ_２」は、同等の金属担持量（その金属は、非晶質シリカの上に担持されている）を有する触媒の、３－メチルニトロベンゼン及びニトロベンゼンの速度と理解するべきである。αが、（それが、ゼオライトの中に存在しているか、或いはゼオライトの表面上に存在するかには関係なく）触媒金属の全量を基準としての、ゼオライトの中にカプセル化されている触媒金属のパーセントであるので、αは、ゼオライトの中又はゼオライトの表面上の金属の量が、重量で表されるか、モルで表されるかに関係なく、絶対的なパーセント数である。中細孔径のゼオライトたとえば、ＭＦＩ（これは、１０ＭＲチャネルを有している）を含む水素化触媒の場合、ニトロベンゼンが、好適な小さい供給原料化合物であり、そして３－メチルニトロベンゼンが、好適な大きい供給原料化合物である。場合によってはゼオライトによってカプセル化された触媒金属のパーセントである、αは、少なくとも５０％、場合によっては少なくとも６０％、場合によっては少なくとも７０％、場合によっては少なくとも９０％、そして場合によっては少なくとも９５％である。

いくつかの場合においては、たとえば、積算型微分位相コントラストイメージング（ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｐｈａｓｅ Ｃｏｎｔｒａｓｔ ｉｍａｇｉｎｇ＝ｉＤＰＣ）と、高角環状暗視野イメージング（Ｈｉｇｈ－Ａｎｇｌｅ Ａｎｎｕｌａｒ Ｄａｒｋ Ｆｉｅｌｄ ｉｍａｇｉｎｇ＝ＨＡＡＤＦ）とを組み合わせて使用することによって、ゼオライト構造の中での触媒金属の粒子の位置を、より明確とすることが可能である。ＭＦＩについて説明すれば、その触媒金属が、ストレートチャネル（ｓｔｒａｉｇｈｔ ｃｈａｎｎｅｌ）又はインターセクショナルボイド（ｉｎｔｅｒｓｅｃｔｉｏｎａｌ ｖｏｉｄ）とは対照的に、シヌソイダルチャネル（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ ｃｈａｎｎｅｌ）の中に存在しているかどうかを測定することが可能である。場合によっては、そのゼオライトがＭＦＩである場合には、ストレートＭＦＩチャネルとは交差しない位置にあるそのシヌソイダルチャネルの中にある触媒金属のパーセントが、少なくとも６０％、場合によっては少なくとも７０％、場合によっては少なくとも９０％、場合によっては少なくとも９５％である。

本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトにはさらに、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒからなる群より選択される、少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属が含まれる。そのアルカリ金属又はアルカリ土類金属は、好ましくはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、及びＣｓからなる群より選択されるアルカリ金属、特にはＮａ又はＫ、好ましくはＫである。本発明のゼオライトには、場合によっては、ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．０１重量％、場合によっては少なくとも０．０５重量％、場合によっては少なくとも０．１重量％、場合によっては少なくとも０．３重量％の、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が含まれる。場合によっては、本発明のゼオライトには、ゼオライトの重量を基準にして、０．０１重量％～５．０重量％、場合によっては０．１重量％～３．０重量％、場合によっては０．２～１．５重量％の、アルカリ金属又はアルカリ土類金属が含まれる。場合によっては、その少なくとも１種の触媒金属の、その少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属に対するモル比が、０．２～１０の間、場合によっては１．０～８の間である。

本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトには、触媒金属及び少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属以外に、１種又は複数の追加の金属がさらに含まれていてもよい。場合によっては、その合成ゼオライトには、少なくとも０．０１重量％、場合によっては０．０５～５．０重量％、たとえば０．１～５．０重量％の、Ｇａ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｍｏ、及びそれらの組合せからなる群より選択される、追加の骨格外金属が含まれる。Ｓｎは、好適な追加の骨格外金属である。たとえば、本発明のゼオライトには、触媒金属としてのＰｔと、追加の骨格外遷移金属としてのＳｎとが含まれていてもよい。場合によっては、そのような骨格外金属が合計して、ゼオライトの１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、好ましくは２重量％以下の量で存在している。場合によっては、そのゼオライトには、その骨格の中に、同型のＳｉ－置換基として、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｈｆ、及びそれらの組合せからなる群より選択される追加の金属がさらに含まれていてもよい。場合によっては、そのような同型のＳｉ－置換基が合計して、ゼオライトの１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、好ましくは２重量％以下の量で存在している。

本発明のゼオライトの中には、触媒金属、アルカリ金属又はアルカリ土類金属、及び追加の金属（存在させるのなら）は、各種の適切な形態、たとえば、金属元素の形態、酸化物として、又は塩として存在させてよい。本明細書において、触媒金属、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属、又は追加の金属に関連して使用される重量パーセントはすべて、金属の酸化物又は金属の各種他の化合物の形態の重量を基準にするのではなく、金属そのものを基準にしたものであるということは理解されたい。

一つの実施形態においては、その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトが、シリケートであって、その触媒金属が、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、及びＡｕ、並びにそれらの組合せ、特にはＰｔ、Ｐｄ、及び／又はＲｈからなる群より選択され、そしてそのゼオライトが、骨格タイプのＭＦＩであるシリケートである。

一つの実施形態においては、その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトが、合成したままの形態にあり、その細孔の中に、構造指向剤（ＳＤＡ）、特には有機構造指向剤（ＯＳＤＡ）を含んでいる。

それに代わる実施形態においては、その中細孔又は大細孔の合成ゼオライトには、構造指向剤が含まれない。たとえば、その合成ゼオライトが、焼成された形態にあってもよい。

本願発明者らの見出したところでは、合成方法を注意深く設計することによって、そのゼオライトの中で、触媒金属がかなりの量でカプセル化されている、本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを製造することが可能である。一つの態様においては、本発明は、本発明の合成ゼオライトを調製するための方法を提供し、それには、以下の工程が含まれる：
ａ．中細孔又は大細孔の合成ゼオライト骨格を形成することが可能な合成混合物を備える工程であって、その合成混合物が、少なくとも１種のＳｉの供給源、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｃｕ、及びそれらの組合せからなる群より選択される触媒金属の供給源を含む少なくとも１種の触媒金属前駆体、並びにＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ、並びにそれらの混合物からなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の供給源を含み、そしてここで、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せから選択される三価の金属元素Ｙが存在するのなら、その（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）の比率が、（２００：１）より大である、工程、
ｂ．上記合成混合物を結晶化条件下で加熱して、上記合成ゼオライトの結晶を形成させる工程、及び
ｃ．その合成混合物から上記中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの結晶を回収する工程。

その少なくとも１種の触媒金属前駆体には、Ｎ含有配位子、Ｏ含有配位子、Ｓ含有配位子、及びＰ含有配位子からなる群より選択される配位子によって安定化された、金属錯体が含まれているのが好ましい。中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを調製するための方法のこの実施形態においては、理論に束縛されることなく言えば、一般的にはアルカリ度が高く、そのためにゼオライト骨格の一部とはならないか、或いは溶液から沈殿して、カプセル化され得ない大きな粒子を形成する合成混合物の中で、それらの配位子が金属錯体を安定化させていると、本願発明者らは信じている。

その配位子が、Ｏ含有配位子たとえば、オキサレートイオン又はアセチルアセトネートイオンであってもよい。それに代わる方法においては、その配位子Ｌが、Ｓ含有配位子、たとえば、構造ＨＳ－（ＣＨ_２）_ｘ－Ｓｉ－（ＯＲ）_３（ここで、ｘ＝１～５、そしてＲ＝Ｃ_１～Ｃ_４アルキル、好ましくはメチル、エチル、プロピル、又はブチルであるが、最も好ましくはｘ＝３そしてＲ＝メチル又はエチルである）のチオールであってもよく、或いは、Ｓ含有配位子が、アルキルチオールであってもよい。それに代わる方法においては、その配位子が、Ｐ含有配位子たとえば、ホスフィン、たとえばトリフェニルホスフィンであってもよい。好ましくは、その配位子が、Ｎ含有配位子、特には、アミンたとえばＮＨ_３、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、又はテトラエチレンペンタミンであり、好ましくはＮＨ_３及び二座アミンたとえばエチレンジアミン並びにそれらの組合せからなる群より選択される。その触媒金属前駆体が、合成混合物の高アルカリ条件下、又はフッ化物媒体の中で安定となるように、その配位子を選択するべきである。具体的には、触媒金属前駆体は、中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを形成するために使用される条件下で、その合成混合物のｐＨでは沈殿を起こさない程度に、安定であるべきである。

場合によっては、その触媒金属前駆体が、以下のものからなる群より選択される：［Ｐｔ（ＮＨ_３）_４］Ｃｌ_２、［Ｐｔ（ＮＨ_３）_４］（ＮＯ_３）_２、［Ｐｄ（ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）_２］Ｃｌ_２、［Ｒｈ（ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）_３］Ｃｌ_３、［Ｉｒ（ＮＨ_３）_５Ｃｌ］Ｃｌ_２、［Ｒｅ（ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）_２Ｏ_２］Ｃｌ、［Ａｇ（ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）］ＮＯ_３、［Ｒｕ（ＮＨ_３）_６］Ｃｌ_３、［Ｉｒ（ＮＨ_３）_６］Ｃｌ_３、［Ｉｒ（ＮＨ_３）_６］（ＮＯ_３）_３、［Ｐｔ（ＮＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２）_２］Ｃｌ_２、及び［Ｉｒ（ＮＨ_３）_５ＮＯ_３］（ＮＯ_３）_２。

合成混合物の中での、［触媒金属前駆体（金属として）：ＳｉＯ_２］のモル比は、０．００００１～０．０３０、好ましくは０．０００１～０．０１０、より好ましくは０．０００３～０．００８、の範囲である。場合によっては、［触媒金属前駆体（金属として）：ＳｉＯ_２］のモル比が、０．０００１～０．００１、好ましくは０．０００２から０．００１未満まで、より好ましくは０．０００２～０．０００５である。場合によっては、その触媒金属前駆体が、以下のものからなる群より選択される：Ｈ_２ＰｔＣｌ_６、Ｈ_２ＰｔＢｒ_６、Ｐｔ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２、Ｐｔ（ＮＨ_３）_４（ＮＯ_３）_２、ＲｕＣｌ_３・ｘＨ_２Ｏ、ＲｕＢｒ_３・ｘＨ_２Ｏ、ＲＨＣｌ_３・ｘＨ_２Ｏ、Ｒｈ（ＮＯ_３）_３・２Ｈ_２Ｏ、ＲｈＢｒ_３・ｘＨ_２Ｏ、ＰｄＣｌ_２・ｘＨ_２Ｏ、Ｐｄ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２、Ｐｄ（ＮＨ_３）_４Ｂ_２、Ｐｄ（ＮＨ_３）（ＮＯ_３）_２、ＡｕＣｌ_３、ＨＡｕＢｒ_４・ｘＨ_２Ｏ、ＨＡｕＣｌ_４、ＨＡｕ（ＮＯ_３）_４・ｘＨ_２Ｏ、Ａｇ（ＮＯ_３）_２、ＲｅＣｌ_３、Ｒｅ_２Ｏ_７、ＯｓＣｌ_３、ＯｓＯ_４、ＩｒＢｒ３・４Ｈ_２Ｏ、ＩｒＣｌ_２、ＩｒＣｌ_４、ＩｒＣｌ_３・ｘＨ_２Ｏ、及びＩｒＢｒ_４（ここで、ｘは、１～１８、好ましくは１～６である）。

一つの実施形態においては、その中細孔又は大細孔の合成ゼオライト骨格を形成することが可能な合成混合物には、以下のものが含まれる：Ｓｉの供給源、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ、並びにそれらの混合物からなる群より選択されるアルカリ金属又はアルカリ土類金属の供給源、場合によっては水酸化物イオンの供給源及び／又はハロゲン化物イオン、特にフッ化物イオンの供給源、場合によっては構造指向剤（ＳＤＡ）の供給源（特には有機構造指向剤（ＯＳＤＡ）の供給源）、及び水。

合成混合物を調製するのに使用可能なケイ素（Ｓｉ）の好適な供給源としては、以下のものが挙げられる：シリカ；シリカのコロイダルサスペンションたとえば、Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ ＮｅｍｏｕｒｓからＬｕｄｏｘ（登録商標）の商品名で販売されているもの；沈降シリカ；アルカリ金属のケイ酸塩たとえば、ケイ酸カリウム及びケイ酸ナトリウム；テトラアルキルオルトシリケート；及びヒュームドシリカたとえば、Ａｅｒｏｓｉｌ及びＣａｂｏｓｉｌ。

場合によっては、その合成混合物にはさらにハロゲン化物イオンの供給源が含まれ、それらは、以下のものからなる群より選択することができる：塩化物、臭化物、ヨウ化物、又はフッ化物、好ましくはフッ化物。ハロゲン化物イオンの供給源は、モレキュラーシーブの合成混合物の中でハロゲン化物イオンを放出することが可能な化合物であれば、いかなるものであってもよい。ハロゲン化物イオンの供給源の例としては、以下のものが挙げられるが、これらに限定される訳ではない：フッ化水素；１個又は数個のハロゲン化物イオンを含む塩たとえば、金属のハロゲン化物、好ましくはその金属が、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、又はバリウムであるもの；フッ化アンモニウム；又はフッ化テトラアルキルアンモニウムたとえば、フッ化テトラメチルアンモニウム、又はフッ化テトラエチルアンモニウム。そのハロゲン化物イオンがフッ化物である場合には、ハロゲン化物イオンの都合のよい供給源は、ＨＦ又はＮＨ_４Ｆである。

その合成混合物にはさらに、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチウム（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ）及びそれらの混合物からなる群より選択される、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の供給源も含まれる。アルカリ金属又はアルカリ土類金属は、好ましくはＮａ又はＫ、さらに好ましくはＫである。それらのアルカリ金属は、アルカリ金属カチオンのＭ^＋、又はアルカリ土類金属カチオンのＭ^２＋を含む塩の形態で添加してもよい。好適なナトリウム供給源としては、以下のものが挙げられる：ナトリウム塩たとえばＮａＣｌ、ＮａＢｒ、又はＮａＮＯ_３；水酸化ナトリウム又はアルミン酸ナトリウム。好適なカリウム供給源としては、以下のものが挙げられる：水酸化カリウム、又はハロゲン化カリウムたとえばＫＣｌ若しくはＮａＢｒ、又は硝酸カリウム。アルカリ金属又はアルカリ土類金属を存在させることによって、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含まない同様の合成混合物に比較して、形成される触媒金属の粒子のサイズが縮小され、それによって、触媒金属の触媒活性の増大がもたらされると考えられる。アルカリ金属又はアルカリ土類金属を存在させることによって、さらに、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含まない同様のゼオライトに比較して、触媒として使用したときのゼオライトの安定性が向上され、そして、ゼオライトの１回又は複数回の再生サイクルでの触媒活性の保持率が向上される、と考えられる。

場合によっては、その合成混合物にはさらに、水酸化物イオンの供給源、たとえば、アルカリ金属水酸化物たとえば、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムも含まれる。水酸化物はさらに、（有機）構造指向剤の対イオンとして、或いは、Ｘの供給源としてケイ酸ナトリウム又はケイ酸カリウムを使用することによって、存在させることもできる。ケイ酸ナトリウム又はケイ酸カリウムは、アルカリ金属のＭ^＋又はアルカリ土類金属のＭ^＋２の供給源としても使用することができる。

合成混合物には、場合によっては、構造指向剤（ＳＤＡ）、特に有機構造指向剤（ＯＳＤＡ）がさらに含まれる。ＳＤＡ（又はＯＳＤＡ）の性質は、所望される骨格タイプに依存するであろう。多くのそのような構造指向剤が、当業者には公知である。構造指向剤は、各種の適切な形態で、たとえば、ハロゲン化物たとえば塩化物、ヨウ化物若しくは臭化物の塩として、水酸化物として、又は硝酸塩として、存在させることができる。構造指向剤は、一般的には、カチオン性、好ましくは有機構造指向剤、たとえば、窒素含有カチオンたとえば、四級アンモニウムカチオンであるであろう。たとえば、ＯＳＤＡは、場合によっては、Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチル－１－アダマントアンモニウムの水酸化物又はヨウ化物（ＴＭＡｄＡ）（ＣＨＡの骨格タイプのゼオライトを製造したいとき）、又は１，１’－（ヘキサン－１，６－ジイル）ビス（１－メチルピペリジニウム）（ＡＦＸの骨格タイプのゼオライトを製造したいとき）であってよい。ＭＦＩ骨格のための、典型的なＯＳＤＡは、水酸化テトラプロピルアンモニウムである。

合成混合物は、所望のゼオライト骨格を調製するのに適した、各種の組成を有することができる。合成混合物におけるそれぞれの成分のペアのための、望ましく且つ好ましい範囲の例としては、以下のような範囲が挙げられる。合成混合物に三価元素Ｙのいかなる供給源も含まれていないのが好都合ではあるが、１種又は複数の三価元素のＹが、不純物として存在することは可能であり、その場合、その合成混合物の中の（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）のモル比が、２００から、好ましくは５００から、そしていくつかの場合においては１０００から、無限大（すなわち、Ｙが存在しない）まで、の範囲であるのがよい。場合によっては、その合成混合物の中の、（ＳＤＡ：ＳｉＯ_２）のモル比は、０～１．０、場合によっては０．０４～０．５、好ましくは０．０８～０．６、たとえば０．０８～０．５の範囲である。場合によっては、その合成混合物の中の、（Ｈ_２Ｏ：ＳｉＯ_２）のモル比は、１～１００、好ましくは１０～６０の範囲である。場合によっては、その合成混合物の中の、（Ｍ^＋／Ｍ^２＋：ＳｉＯ_２）のモル比は、０．４５以下、好ましくは０．００２～０．２０、場合によっては０．０１～０．１０の範囲である。場合によっては、その合成混合物の中の、（ＯＨ^－：ＳｉＯ_２）のモル比は、０～１．０、好ましくは０．０８～０．７、たとえば、０．０８～０．５の範囲である。場合によっては、その合成混合物の中の、（ハライド^－：ＳｉＯ_２）のモル比は、０～１、好ましくは０～０．５の範囲である。合成混合物は、たとえば、次の表に示したような、モル比として表した組成を有していてよい。

合成は、添加した核形成シードの存在下、又は非存在下で実施することができる。合成混合物に対して核形成シードを添加するのなら、そのシードは、合成混合物を基準にして、約０．０１重量ｐｐｍ～約１０，０００重量ｐｐｍ、たとえば合成混合物の約１００重量ｐｐｍ～約５，０００重量ｐｐｍの量で存在させるのが好適である。そのシードは、各種好適なゼオライト、特には、得ようとしているゼオライトと同じ骨格を有しているゼオライトであってよい。

結晶化は、適切な反応容器、たとえばポリプロピレンのジャー、又はＴｅｆｌｏｎ（登録商標）ライニング若しくはステンレス鋼製のオートクレーブの中で、静的な条件下又は撹拌条件下のいずれかで実施することができる。結晶化は、典型的には、約１００℃～約２００℃、たとえば約１５０℃～約１７０℃の温度で、使用した温度で結晶化を起こさせるに十分な時間、たとえば約１日～約１００日、特には１～５０日、たとえば約２日～約４０日かけて実施する。その後で、合成した結晶を母液から分離し、回収する。

合成したままの結晶質のゼオライトには、その細孔構造の中に構造指向剤が含まれているので、典型的には、その反応生成物を使用する前に、その構造指向剤の有機部分をそのゼオライトから少なくとも部分的に除去して、活性化させる。その活性化プロセスは、典型的には、焼成することによって、より具体的には、そのゼオライトを、少なくとも約２００℃、好ましくは少なくとも約３００℃、より好ましくは少なくとも約３７０℃の温度で、少なくとも１分間、一般的には２０時間以下加熱することによって達成される。その加熱処理には、大気圧未満の圧力を採用することも可能ではあるが、利便性の理由から、大気圧が通常望ましい。その加熱処理は、約９２５℃までの温度で実施することができる。たとえば、加熱処理は、酸素含有ガスの存在下、たとえば空気中で、４００～６００℃、たとえば５００～５５０℃の温度で実施することができる。

本発明の合成ゼオライト、又は本発明の方法によって製造された合成ゼオライトは、吸着剤としても使用できるし、或いは、現在の商業的／工業的重要性を多く含む、広く各種の有機化合物の転化プロセスでの触媒作用を与える触媒として使用することもできる。本発明のゼオライト、又は本発明の方法によって製造されたゼオライト、それ自体で、又は他の結晶質触媒も含めて触媒活性を有する１種又は複数の物質との組み合わせで、効果的な触媒作用を受けることが可能な、好ましい化学的転化プロセスの例としては、酸活性又は水素化活性を有する触媒を必要としているものが挙げられる。本発明のゼオライト、又は本発明の方法によって製造されたゼオライトによって、触媒作用を受けることが可能な有機転化プロセスの例としては、以下のものが挙げられる：クラッキング、ハイドロクラッキング、異性化、重合、リホーミング、水素化、脱水素化、脱ろう、水素化脱ろう、吸着、アルキル化、アルキル交換反応、脱アルキル化、水素化開環（ｈｙｄｒｏｄｅｃｙｌｉｚａｔｉｏｎ）、不均化、オリゴマー化、脱水素環化、及びそれらの組合せ。水素化及び脱水素化が、好ましい方法である。炭化水素フィードの転化は、望まれる方法のタイプに応じて、たとえば流動層、移動層、又は固定層の反応器など、各種利便性の良い方法で起こさせることができる。

本開示のゼオライトは、吸着剤として、或いは有機化合物の転化プロセスにおける触媒としての、いずれで採用するにしても、少なくとも部分的には脱水させておくべきである。このことは、たとえば空気、窒素などの雰囲気下、そして、大気圧、大気圧未満、又は大気圧超の圧力で、３０分～４８時間の時間をかけて、約１００℃～約５００℃、たとえば約２００℃～約３７０℃の範囲の温度に加熱することにより実施できる。脱水は、モレキュラーシーブを室温で、真空中に単に置いておくことでも実施可能ではあるが、十分なレベルの脱水を得るには、かなり長い時間が必要となる。

ゼオライトが合成できたら、それを、他の物質、たとえばバインダー及び／又はマトリックス物質（これらは、最終の触媒の、硬度や触媒活性を上げる）と組み合わせることによって触媒組成物として配合することができる。これらの他の物質は、不活性であってもよいし、或いは触媒活性物質であってもよい。したがって、本発明は、本発明の中細孔又は大細孔の合成ゼオライト及び触媒の重量を基準にして、少なくとも０．１重量％、好ましくは１～９０重量％のバインダーを含む触媒、たとえば水素化／脱水素用触媒も提供する。ゼオライト対無機酸化物マトリックスの相対的な比率は、極めて広く変化させることが可能であって、ゼオライト含量が、触媒の約１～約９０重量パーセントの範囲、通常は、特にその触媒がビーズの形態で調製された場合には、約２～約８０重量パーセントの範囲である。

特には、本発明のゼオライト、又は本発明の方法によって製造されたゼオライトに、有機転化プロセスにおいて採用される温度その他の条件に抵抗性のあるバインダーを組み入れるのが望ましい。そのような物質としては、活性及び不活性物質で、合成又は天然由来のゼオライト、さらには無機物質たとえば、クレー、シリカ及び／又は金属酸化物たとえばアルミナが挙げられる。後者は、天然由来であるか、又はシリカと金属酸化物との混合物を含む、ゼラチン状の沈殿物又はゲルの形態のいずれであってもよい。使用可能な天然由来のクレーとしては、モンモリロナイト及びカオリン類が挙げられ、その類には、サブベントナイト類及びカオリン類、並びにＤｉｘｉｅ、ＭｃＮａｍｅｅ、Ｇｅｏｒｇｉａ及びＦｌｏｒｉｄａクレーとして一般に知られているもの、又はその中の主な鉱物成分が、ハロイサイト、カオリナイト、ディッカイト、ナクライト、又はアノーキサイトであるその他のものが含まれる。そのようなクレーは、元々採鉱されたままの未精製の状態でも、或いは焼成、酸処理、又は化学変性にかけた後の状態でも、使用することができる。それらのバインダー物質は、温度及びその他の条件、たとえば、各種の炭化水素転化プロセスで起きる機械的摩砕に対する抵抗性を有している。したがって、本発明のゼオライト、又は本発明の方法によって製造されたゼオライトは、バインダーを用いた押出成形品の形態で使用してもよい。それらは、典型的には、小球、球、又は押出成形品に成形することによって、結合されている。その押出成形品は、通常、ゼオライトを、場合によってはバインダーの存在下で押出成形し、そのようにして得られた押出成形品を乾燥及び焼成することによって、成形される。

本発明のゼオライト、又は本発明の方法によって製造されたゼオライトと組み合わせた、すなわちそれと組み合わせるか、又は新しい結晶の合成の際に存在させた、活性を有する物質を使用すると、ある種の有機転化プロセスにおいては、その触媒の転化率及び／又は選択率を変化させる傾向がある。不活性な物質は、所定の方法における転化率の大きさを制御する希釈剤として好適に機能して、それにより、反応速度を調節するための他の手段を採用しなくても、反応生成物を、経済的且つ規則的に得ることができる。それらの物質を、天然由来のクレー、たとえば、ベントナイト及びカオリンの中に組み入れて、商業的な操作条件下での触媒の破砕強度を改良することができる。

前述の物質に加えて、ゼオライトは、以下のものとの複合材料とすることもできる：多孔質マトリックス物質たとえば、シリカ－アルミナ、シリカ－マグネシア、シリカ－ジルコニア、シリカ－トリア、シリカ－ベリリア、シリカ－チタニア、さらには三元組成物たとえば、シリカアルミナ－トリア、シリカアルミナ－ジルコニア、シリカアルミナ－マグネシア、及びシリカ－マグネシア－ジルコニア。

ある種の実施形態において、本発明は、以下の実施形態も提供する。

実施形態１．
中細孔又は大細孔の合成ゼオライトであって、
ａ．ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．０２重量％の、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｃｕ、及びそれらの組合せからなる群より選択される触媒金属（触媒金属粒子として存在し、上記触媒金属粒子の数にして少なくとも６０％が、２．０ｎｍ以下の粒径を有している）、及び
ｂ．ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．００５重量％の、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ、並びにそれらの組合せからなる群より選択されるアルカリ金属又はアルカリ土類金属、
を含み、
ゼオライトが、そのゼオライト骨格の中に、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せからなる群より選択される三価元素Ｙを含んでいる場合には、ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３の比率が２００：１より大である、
中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態２．
上記触媒金属粒子の、数にして、少なくとも７０％が、２．０ｎｍ以下の粒径を有する、実施形態１において具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態３．
１０員環又は１２員環のゼオライトである、実施形態１又は２において具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態４．
ＭＦＩ、ＥＵＯ、ＭＴＴ、ＡＦＯ、ＭＥＬ、ＭＦＳ、ＦＥＲ、ＴＯＮ、若しくはＭＷＷの骨格タイプの中細孔ゼオライトであるか、又はＦＡＵ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＭＯＲ、若しくはＬＴＬの骨格タイプの大細孔ゼオライトである、実施形態１～３のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態５．
触媒金属が、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｒｅ、及びそれらの組合せからなる群より選択される、実施形態１～４のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態６．
触媒金属がＰｔである、実施形態１～５のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態７．
アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、ゼオライトの重量を基準にして、０．１～５．０重量％で存在する、実施形態１～６のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態８．
アルカリ金属が、Ｎａ又はＫである、実施形態１～７のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態９．
少なくとも１種の触媒金属の、少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属に対するモル比が、０．２～１０の範囲である、実施形態１～８のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態１０．
少なくとも０．０１重量％の、Ｇａ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｍｏ、及びそれらの組合せからなる群より選択される、さらなる骨格外金属をさらに含む、実施形態１～９のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態１１．
さらなる骨格外金属として、Ｓｎを含む、実施形態１０に記載の、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態１２．
合成したままの形態にあり、そして構造指向剤（ＳＤＡ）、特には有機構造指向剤（ＯＳＤＡ）をさらに含む、実施形態１～１１のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライト。

実施形態１３．
ゼオライトを焼成工程にかけることにより調製された、焼成された形態にある、実施形態１～１２のいずれかにおいて具体化される、合成ゼオライト。

実施形態１４．
水素化／脱水素化触媒であって、実施形態１～１３のいずれかの中細孔又は大細孔の合成ゼオライト、及び触媒の重量を基準にして、少なくとも０．１重量％のバインダーを含む、水素化／脱水素化触媒。

実施形態１５．
中細孔又は大細孔の合成ゼオライトを調製するための方法（プロセス）であって、
ａ．中細孔又は大細孔の合成ゼオライト骨格を形成することが可能な合成混合物を備える工程であって、合成混合物が、少なくとも１種のＳｉの供給源、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｃｕ、及びそれらの組合せからなる群より選択される触媒金属の供給源を含む少なくとも１種の触媒金属前駆体、並びにＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｓｒ、及びそれらの組合せからなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の供給源を含み、そしてここで、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せから選択される三価の金属元素Ｙが存在するのなら、ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３の比率が、２００：１より大である、工程、
ｂ．上記合成混合物を結晶化条件下で加熱して、上記合成ゼオライトの結晶を形成させる工程、及び
ｃ．合成混合物から上記中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの結晶を回収する工程、
を含む方法。

実施形態１６．
合成混合物が、５００：１より大のＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３のモル比を有する、実施形態１５に記載の方法。

実施形態１７．
合成混合物が、水酸化物イオン及び／又はフッ化物イオンの供給源、有機ＳＤＡの供給源、並びに水をさらに含む、実施形態１５又は１６のいずれかに記載の方法。

実施形態１８．
少なくとも１種の触媒金属前駆体が、Ｎ含有配位子、Ｏ含有配位子、Ｓ含有配位子、及びＰ含有配位子からなる群より選択される配位子によって安定化された金属錯体を含む、実施形態１５～１７のいずれかに記載の方法。

実施形態１９．
合成混合物が、四級アンモニウムカチオンである、有機構造指向剤を含む、実施形態１５～１８のいずれかに記載の方法。

実施形態２０．
工程ｃにおいて回収される中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの結晶が、実施形態１～１１のいずれかにおいて具体化される、中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの結晶である、実施形態１５～１９のいずれかに記載の方法。

実施形態２１．
実施形態１～１３のいずれかに記載の中細孔又は大細孔の合成ゼオライトの、吸着剤又は触媒としての使用。

実施形態２２．
有機化合物を含む供給原料を、転化反応生成物へと転化させるための方法であって、上記供給原料を、実施形態１～１３のいずれかにおいて具体化される合成ゼオライトを含む触媒と接触させる工程を含む、方法。

実施形態２３．
水素化法又は脱水素化法である、実施形態２２において具体化される方法。

実施形態２４．
ハイドロプロセシングプロセス（又は水素化処理法）である、実施形態２２において具体化される方法。

実施形態２５．
触媒のリホーミングプロセス（又は改質法）である、実施形態２２において具体化された方法。

比較例１．Ｐｔ＠ＭＦＩ物質（純粋なシリカ質のＭＦＩの中にカプセル化されたＰｔナノ粒子）の合成
ＭＦＩゼオライトの中にカプセル化されたＰｔナノ粒子を、ワンポット合成法により調製した。最初に、８．１２ｇのＫフリーのＴＰＡＯＨの溶液（４０重量％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製（製品コード：１７４５６．２２））と２０．１ｇの蒸留水とを室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、２３３μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）及び１５０μＬのエチレンジアミンを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。最終反応生成物の中のＰｔの量は、１．４重量％である。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて焼成すると、ＫフリーのＰｔ＠ＭＦＩのサンプルが得られた。ＳＥＭ（図２）は、金属粒子の５％以下が、２ｎｍよりも小さいことを示した。

比較例２．ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ物質の合成
ＭＦＩゼオライトの中にカプセル化された、二金属ＰｔＳｎクラスターを、ワンポット合成法により調製した。最初に、８．１２ｇのＫフリーのＴＰＡＯＨ（４０重量％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製、製品コード：１７４５６．２２）と２０．１ｇの蒸留水とを室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、２３３μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）、２４ｍｇのＳｎＣｌ_４・５Ｈ_２Ｏ、及び１５０μＬのエチレンジアミンを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。最終反応生成物の中のＰｔの量が１．３７重量％、そして最終反応生成物の中のＳｎの量が、０．７３重量％であった。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて焼成すると、ＫフリーのＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルが得られた。ＳＥＭ（図２）は、金属粒子の５％以下が、２ｎｍよりも小さいことを示した。

実施例３．Ｋで促進されたＰｔ＠ＭＦＩ（純粋なシリカ質ＭＦＩの中にカプセル化されたＰｔのクラスター）の合成
ＭＦＩゼオライトの中にカプセル化された、Ｋで促進された（Ｋ－ｐｒｏｍｏｔｅｄ）Ｐｔクラスターを、ワンポット合成法により調製した。最初に、５．０ｇのＫフリーのＴＰＡＯＨ溶液（４０重量％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製、製品コード：１７４５６．２２）及び６．２４ｇのＴＰＡＯＨ溶液（２０重量％、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ製、約０．６重量％のＫを含む、製品コード：２５４５３３－１００Ｇ）及び１７．０ｇの蒸留水を室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、２３３μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）及び１５０μＬのエチレンジアミンを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。最終反応生成物の中のＰｔ及びＫの量は、１．４３重量％及び０．７重量％であった。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて、焼成した。その固体のゼオライトにおける（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）の比率は、２００より大であった。ＳＥＭ（図２）は、金属粒子の約９０％が、２ｎｍよりも小さいことを示した。

実施例４．Ｋで促進されたＰｔＳｎ＠ＭＦＩ（純粋なシリカ質ＭＦＩの中にカプセル化されたＰｔＳｎ二金属クラスター）の合成
ＭＦＩゼオライトの中にカプセル化された、Ｋで促進されたＰｔＳｎ二金属クラスターを、ワンポット合成法により調製した。最初に、５．０ｇのＫフリーのＴＰＡＯＨ溶液（４０重量％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製、Ｋなし、製品コード：１７４５６．２２）及び６．２４ｇのＴＰＡＯＨ（２０重量％、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ製、約０．６重量％のＫを含む、製品コード：２５４５３３－１００Ｇ）及び１７．０ｇの蒸留水を室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、２３３μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）、４０ｍｇのＳｎＣｌ_４・５Ｈ_２Ｏ、及び１５０μＬのエチレンジアミンを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。最終反応生成物の中の、Ｐｔ、Ｓｎ、及びＫの量は、１．４８重量％、０．６２重量％、及び０．６４重量％であった。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて、焼成した。その固体のゼオライトにおける（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）の比率は、２００より大であった。ＳＥＭ（図２）は、金属粒子の約９３％が、２ｎｍよりも小さいことを示した。

^ａそれらのサンプルは、Ｈ_２により、６００℃でその場還元してから、冷却して室温とし、その後でＸＡＳスペクトルを記録した。フィッティングは、Δｋ＝３．６～１６．７Å^－１間隔で実施したｋ^１ｋ^２ｋ^３－加重χ（ｋ）関数のＦＴにわたって、第一配位殻（ΔＲ＝２．０～３．０Å）について実施し、その結果、２ΔＲΔｋ／π＝２３．８（Ｐｔフォイルでは７．９）の独立パラメーター数が得られた。標準のＰｔフォイルには独立してフィッティングし、それに対して、３種のサンプルには、共精密化アプローチ法を使用してフィッティングした結果、それぞれのサンプルについて、一つのＮ_{Ｐｔ－Ｐｔ}、Ｒ、及びσ^２、並びに全部のサンプルに共通の一つのΔＥ_０が得られた。相当するエラーバーが存在しないため、最適化パラメーターは、認識できない。Ｓ_０ ^２＝０．９５。

^ｂフィッティングは、Δｋ＝２．８～１１．０Å^－１間隔で実施したｋ^１ｋ^２ｋ^３－加重χ（ｋ）関数のＦＴにわたって、第一配位殻（ΔＲ＝１．０～２．０Å）について実施し、その結果、還元の前及び後の３種のサンプルのそれぞれのデータセットで、２ΔＲΔｋ／π＝１５．３（ＳｎＯ_２及びＳｎＯのいずれでも５）の独立パラメーター数が得られた。標準のＳｎＯ_２及びＳｎＯには独立してフィッティングし、それに対して、３種のサンプルには、共精密化アプローチ法を使用してフィッティングした結果、サンプルあたり、一つのＮ_Ｓｎ－Ｏ、Ｒ_Ｓｎ－Ｏ、σ^２、並びにそれぞれのシリーズ（フレッシュ、及びその場還元したもの）について一つのΔＥ_０が得られた。相当するエラーバーが存在しないため、最適化パラメーターは、認識できない。ＳｎＯ_２のＳ_０ ^２＝０．８９；ＳｎＯのＳ_０ ^２＝１．０。

上述のサンプルの中でのＰｔ及びＳｎの化学的状態及び配位環境を解明するために、Ｈ_２による６００℃でのその場還元の後で、Ｘ線吸収端構造（ＸＡＮＥＳ）及び広域Ｘ線吸着微細構造（ＥＸＡＦＳ）の両方を記録した。還元したままの（ａｓ－ｒｅｄｕｃｅｄ）サンプルのＰｔのＬ_ＩＩＩエッジでのＸＡＮＥＳ結果（図３ａ）を解析することによって、Ｐｔ－ゼオライトのサンプルのスペクトルが、振動の強度に違いがあるものの、Ｐｔのフォイルとまったく同様であることが見出されたが、このことは、金属のナノ粒子のＸＡＳスペクトルの中に存在している、よく知られている有限サイズ効果に関連している。さらには、ＰｔエッジにおよぼすいかなるＰｔ－Ｓｎ相互作用も確認することができないが、その理由は、Ｐｔのフォイルに関して、ｋ空間（図示せず）又は｜ＦＴ｜のいずれにおいても、位相ずれが存在しないからである（図３ｂ）。表１にも見られるように、Ｐｔ＠ＭＦＩ及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルにおける、Ｐｔ－Ｐｔの第一殻（Ｎ_{Ｐｔ－Ｐｔ}）の配位数は、それぞれ１０及び１１であり、これは、ＳＴＥＭ画像で観察される４～５ｎｍの粒径に相当する。Ｋ含有サンプルの場合における、約７のＮ_{Ｐｔ－Ｐｔ}は、約１ｎｍのＰｔの粒径に相当する。［ｄｅ Ｇｒａａｆ，Ｊ．，ｖａｎ Ｄｉｌｌｅｎ，Ａ．Ｊ．，ｄｅ Ｊｏｎｇ，Ｋ．Ｐ．，＆ Ｋｏｎｉｎｇｓｂｅｒｇｅｒ，Ｄ．Ｃ．「Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｈｉｇｈｌｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｐｔ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ ｉｎ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ｙ ｗｉｔｈ ａ Ｎａｒｒｏｗ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ：Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｂｙ Ｈｙｄｒｏｇｅｎ Ｃｈｅｍｉｓｏｒｐｔｉｏｎ，ＴＥＭ，ＥＸＡＦＳ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ，ａｎｄ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｍｏｄｅｌｉｎｇ」，Ｊ．Ｃａｔａｌ．，２０３，３０７～３２１（２００１）。］以下のことには注意するべきである、すなわち、ＥＸＡＦＳは、平均を測定する技法なので、ＭＦＩゼオライトのクリスタリットの表面上での少量のＰｔナノ粒子（＞２ｎｍ）が存在すると、高度にクラスター化されている系の場合においては、予想される平均配位数を増大させる可能性がある。したがって、ＳＴＥＭ画像とＥＸＡＦＳの結果を組み合わせることによって、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプル全体におけるＰｔ種の分布を、予測することが可能となるかもしれない。ＭＦＩゼオライトの内部空間におけるＰｔのクラスターの平均サイズが約０．５５ｎｍであり、その一方で、表面上のＰｔナノ粒子の平均サイズが約２．５ｎｍであるとすると、７０％を越えるＰｔ原子が、ＭＦＩゼオライトのクリスタリットの内部空間の中に、１ナノメートル未満のクラスターとして位置しており、その一方で３０％未満のＰｔ原子が、Ｐｔナノ粒子として存在しているべきである（次の単純な予測に従う：７０％×０．５５＋３０％×２．５≒１．１ｎｍ）。Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩの場合においては、そのＰｔナノ粒子のパーセントが、やや高く、その結果、Ｐｔ－Ｐｔ配位数がより大きくなり、そして平均粒径がより大きくなる。

さらには、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルのＳｎエッジもまた、未還元のサンプルと、Ｈ_２により６００℃で還元されたサンプルとの両方について検討した。ＸＡＮＥＳスペクトルにおける吸収端の形状及び位置（図３ｃ参照）を、ＳｎＯ及びＳｎＯ_２標準のそれらと比較すると、未還元のＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩサンプルの中のＳｎの酸化状態が、Ｓｎ（ＩＶ）であることが明らかである。未還元のサンプルの｜ＦＴ｜（図３ｄ）は、１．５Åに中心を有する実質的に１本のピークを呈し（位相補正なし）、これは、わずかにシフトしてＳｎＯ_２標準に関してより短い距離となっているＳｎ－Ｏの寄与に関連している。さらには、より高い殻がほとんど空であり、このことは、Ｓｎ種が、非晶質である（不規則構造である）か、又はＭＦＩゼオライトの中で、高度に分散された形態にあることを示唆している。Ｈ_２による還元プロセスの際に、温度を室温から６００℃に昇温させたときに、両方のサンプルにおいて、ホワイトライン強度の低下とスペクトルの赤方偏移とが観察されるが、このことは、Ｈ_２によるＳｎ種の還元を示唆している。図３ｃに見られるように、ＳｎＯと比較してエッジの位置は同じではあるが、ＸＡＮＥＳスペクトルの形状は、還元された状態にあるＳｎ（すなわち、Ｓｎ金属又はＳｎＯ）のいずれのスペクトルとも似ていないが、このことは、ＳｎＯ_４－ｘ相が形成された可能性を示している。このことは、還元前のサンプルでの約１０Å^－４から、還元後のサンプルでの約４．５Å^－４へと、｜ＦＴ｜の第一殻強度が低下している（図３ｄ）ことによっても支持することができるが、これは、第一の近傍配位子のロスと関連している。その物質の内部でＳｎ種がよく分散されているとの考えは、還元後のサンプルの｜ＦＴ｜によって支持されるが、その理由は、Ｈ_２中での加熱処理でも、追加の、より高い殻が形成されていないからである。Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルで観察された｜ＦＴ｜スペクトルが、文献で報告されたＳｎ－Ｂｅｔａに類似していることにも注目すべきであって、このことは、ＳｎＯ_ｘ種が主として、ＭＦＩゼオライトの骨格の中の酸素と相互作用していること、又はゼオライトのクリスタリットの中に高度に分散されたＳｎ（ＩＶ）酸化物種として存在していることのいずれかであるということをさらに確証している。［Ｂａｒｅ，Ｓ．Ｒ．，ｅｔ ａｌ．，「Ｕｎｉｆｏｒｍ ｃａｔａｌｙｔｉｃ ｓｉｔｅ ｉｎ Ｓｎ－ｂｅｔａ－ｚｅｏｌｉｔｅ ｄｅｔｅｒｍｉｎｅｄ ｕｓｉｎｇ Ｘ－ｒａｙ ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ ｆｉｎｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ」，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２７，１２９２４～１２９３２（２００５）］、［Ｈａｍｍｏｎｄ，Ｃ．，ｅｔ ａｌ．，「Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ Ａｃｔｉｖｅ ａｎｄ Ｓｐｅｃｔａｔｏｒ Ｓｎ Ｓｉｔｅｓ ｉｎ Ｓｎ－ｂｅｔａ Ｆｏｌｌｏｗｉｎｇ Ｓｏｌｉｄ－Ｓｔａｔｅ Ｓｔａｎｎａｔｉｏｎ，ａｎｄ Ｃｏｎｓｅｑｕｅｎｃｅｓ ｆｏｒ Ｌｅｗｉｓ Ａｃｉｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ」，ＣｈｅｍＣａｔＣｈｅｍ．，７，３３２２～３３３１（２０１５）。］

本明細書においては、（Ｈ_２により６００℃で還元した後の）Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの中の１ナノメートル未満のＰｔのクラスターの位置を確認する目的で、高角環状暗視野イメージング（ＨＡＡＤＦ）と積算型微分位相コントラスト（ｉＤＰＣ）イメージング技法との組合せを採用して、Ｐｔのクラスター及び原子レベルの分解能を用いたゼオライト構造を視覚化させた。図４ａ及び図４ｃに示したように、［０１０］方向に沿ったＨＡＡＤＦ画像において、０．４～０．７ｎｍのＰｔのクラスターを明らかに観察することができ、そしてそのＨＡＡＤＦ画像には、１０－ＭＲのストレートな細孔が、低コントラストの細孔として現れている。しかしながら、ゼオライト骨格のコントラストが弱いために、そのＨＡＡＤＦ画像では、ＭＦＩゼオライトの原子構造は見えない。新規に開発されたｉＤＰＣ技法を用いれば、ＭＦＩゼオライトの原子構造を、ＨＡＡＤＦ画像と共に同時に記録することができる。図４ｂ及び図４ｄに示したように、ＭＦＩゼオライトの詳しい構造を、骨格の中の５Ｒ単位までもｉＤＰＣ画像中で明瞭に確認することができる。ゼオライト骨格の構造に関する情報は、ｉＤＰＣイメージングモードで得ることができるのに対して、ＨＡＡＤＦイメージングは、重質の元素（この場合においては、Ｐｔ）で感度がより高いので、１ナノメートル未満のＰｔのクラスターの正確な位置を、ＨＡＡＤＦとｉＤＰＣイメージングの結果を関連させることによって特定することが可能であり、それによると、Ｐｔのクラスターが、シヌソイダルチャネルの中に位置しているということが示される。Ｐｔのクラスターの位置はさらに、異なった配向を有するゼオライトのクリスタリットについての、ＨＡＡＤＦ及びｉＤＰＣイメージングによって確認されてきた。図４ｅ～図４ｈに見ることができるように、１ナノメートル未満のＰｔのクラスターが、ＭＦＩゼオライトの、インターセクショナルボイド又はストレートチャネルではなく、シヌソイダルチャネルの中に位置していることが確認できる。上述のイメージングの結果に基づけば、ＨＡＡＤＦ－ｉＤＰＣが、複合材料の原子構造、特にビーム感度が高い（ｂｅａｍ－ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）物質の上に担持させた高度に分散された金属種についての研究には、強力なツールであることを見ることができる。

イメージング技法に関する参考文献：
［１］Ｅ．Ｙｕｃｅｌｅｎ，Ｉ．Ｌａｚｉｃ ａｎｄ Ｅ．Ｇ．Ｔ．Ｂｏｓｃｈ，Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｒｅｐｏｒｔｓ，２０１８，８，２６７６．
［２］Ｉ．Ｌａｚｉｃ，Ｅ．Ｇ．Ｔ．Ｂｏｓｃｈ ａｎｄ Ｓ．Ｌａｚａｒ，Ｕｌｔｒａｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ，２０１６，１６０，２６５－２８０．
［３］Ｉ．Ｌａｚｉｃ，Ｅ．Ｇ．Ｔ．Ｂｏｓｃｈ，Ｓ．Ｌａｚａｒ，Ｍ．Ｗｉｒｉｘ ａｎｄ Ｅ． Ｙｅｕｃｅｌｅｎ，Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ ａｎｄ Ｍｉｃｒｏａｎａｌｙｓｉｓ，２０１６，２２，３６－３７．

実施例５．Ｋで促進されたＰｔＺｎ＠ＭＦＩの合成
ＭＦＩゼオライトの中にカプセル化された、Ｋで促進されたＰｔＺｎナノ粒子を、ワンポット合成法により調製した。最初に、５．０ｇのＴＰＡＯＨ（４０％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製）、及び６．２４ｇのＴＰＡＯＨ（２０％、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ製）、及び１７．０ｇの蒸留水を室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、２３３μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）及び５６ｍｇのＺｎ（ＮＯ_３）_２・６Ｈ_２Ｏを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて、焼成した。その固体のゼオライトにおける（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）の比率は、２００より大であった。

実施例６．Ｋで促進されたＰｔＧａ＠ＭＦＩの合成
ＭＦＩゼオライトの中にカプセル化された、Ｋで促進されたＰｔＧａナノ粒子を、ワンポット合成法により調製した。最初に、５．０ｇのＴＰＡＯＨ（４０％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製）、及び６．２４ｇのＴＰＡＯＨ（２０％、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ製）、及び１７．０ｇの蒸留水を室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、２３３μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）及び５０ｍｇのＧａ（ＮＯ_３）_３・８Ｈ_２Ｏを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて、焼成した。その固体のゼオライトにおける（ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３）の比率は、２００より大であった。

実施例５及び６の構造的特性分析
Ｋ－ＰｔＺｎ＠ＭＦＩ及びＫ－ＰｔＧａ＠ＭＦＩのサンプルのＸＲＤパターンを図５に示すが、これは、ＭＦＩゼオライトの典型的な回折パターンに相当する。さらに、ＳＴＥＭ画像によれば（図６及び図７参照）、これら２種のサンプルでは、それぞれ、１ナノメートル未満のＰｔＺｎ及びＰｔＧａのクラスターを観察することができるが、このことは、上述の方法が、ＭＦＩゼオライトの中で二金属のＰｔベースのクラスターをカプセル化させるための、一般的な方法であるということを示唆している。

実施例７．純粋なシリカ質ＭＷＷゼオライトの中での、Ｎａで促進されたＰｔのクラスター
ワンポット合成手順を、純粋なシリカ質ＭＷＷゼオライトの中で、１ナノメートル未満のＰｔのクラスターをカプセル化させるために応用した。

その合成は、次のとおりである：０．２３７ｇのＮａＣｌを、３．３２ｇの水酸化Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチル－１－アダマンタンアンモニウムの溶液（０．８Ｍ）の中に溶解させた。次いで、この溶液に、１．３３ｇのヘキサメチレンイミン、１００μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８Ｍ）、及び１５０μＬのエチレンジアミンを添加した。上記の溶液を、室温で２～４時間、撹拌し続けた。次いで、連続的に撹拌しながら、１．２２ｇのヒュームドシリカ（Ａｅｒｏｓｉｌ ２００、Ｄｅｇｕｓｓａ）を添加した。２～４時間後、そのようにして得られた懸濁液を、Ｔｅｆｌｏｎライニングしたステンレス鋼製のオートクレーブに移してから、１５０℃で、６０ｒｐｍで回転させながら、１４４時間加熱した。濾過した後、得られた白色の固形物を、蒸留水を用いて、ｐＨが９未満になるまで洗浄した。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間かけて、焼成した。これは、純粋なシリカ質のゼオライトである。

その調製したままのＮａ－Ｐｔ＠ＭＷＷのＸＲＤパターン及び化学的組成を、図８及び表５に見ることができる。ＭＷＷゼオライトの中でのＰｔ種の安定性が高いことが、Ｈ_２による高温還元処理によって、確認された。図９に見られるように、６５０℃での還元処理の後でも、１ナノメートル未満のＰｔ種が安定に残っている。

実施例８．Ｋで促進されたＰｔ＠ＭＦＩ及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩの、プロパンの脱水素への適用
純粋なシリカＭＦＩゼオライトの中の、Ｐｔ粒子又はカプセル化されたクラスターの反応性及び安定性を試験するためのモデル反応として、プロパンからプロピレンへの脱水素を選択した。最初に、高いＰｔ担持量を有するＰｔ－ゼオライトのサンプルの触媒性能を試験した。図１０ａ及び図１１ａに見られるように、Ｐｔ＠ＭＦＩ（実施例１から）及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩ（実施例２から）のいずれもが、最初は活性があるが、反応条件では、安定ではない。いずれの触媒も、短時間（５時間未満）の内に、失活する。再生試験の後では、Ｐｔ＠ＭＦＩ及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩの反応性は、やはり、早々と失活を示す（図１０及び図１１参照）。注目するべきは、ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ触媒は、Ｐｔ＠ＭＦＩ触媒よりも、プロピレンへの高い選択率を示すが、その活性は、Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルよりは若干低いということである。図１４及び図１５に示されているように、３回の触媒サイクルの後では、Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプル及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルのいずれにおいても、Ｐｔナノ粒子のアグロメレーションが観察された。特に、Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルは、Ｐｔ＠ＭＦＩ及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩよりも顕著に高い反応性を示す（図１２ａ参照）。（実施例３からの）Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩの高い活性及びＭＦＩゼオライトの中での１ナノメートル未満のＰｔのクラスターの存在は、少なくとも３回の反応サイクルでも維持されている（図１２及び図１６参照）。Ｐｔのクラスターが、Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルの中で観察される一方で、Ｐｔ＠ＭＦＩ及びＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの中では、Ｐｔのナノ粒子のみが存在しているので、プロパンの脱水素における高い反応性は、Ｐｔのクラスターに関連しているものと思われる。それにも関わらず、Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルの場合のプロピレンへの選択率は、満足のいくものではないが、その原因は、大量のクラッキング反応生成物（ＣＨ_４、Ｃ_２Ｈ_４、及びＣ_２Ｈ_６）が発生するためである。

プロピレンへの選択率を改良し、高い反応性を維持するために、高度に分散されたＳｎ（約０．７重量％）が、助触媒として導入された。図１３ａに見られるように、５０％のプロパンの転化率のところでは、Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルのプロピレンへの選択率が８６％であるのに対して、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩの場合には、同じ転化率の場合で、プロピレンへの選択率は９３％である。さらには、４０時間を越えて運転した後でも、プロパンの転化率は依然として３０％よりも高く、且つプロピレンへの選択率は９５％よりも高い。プロパンの脱水素反応で３回の連続サイクルを行った後でも、活性のロスは観察されない（図１７参照）。ＥＸＡＦＳの結果も、プロパンの脱水素反応の３サイクルの後での、（実施例４からの）Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルにおけるＰｔ種及びＳｎ種の安定性を裏付けている（図１８参照）。使用したＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩの中のＰｔ－Ｐｔ配位数は、約７．０であり、これは、フレッシュな触媒とほぼ同じである（表２参照）。３回目の反応サイクルにおける活性を比較することによって、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの方が、Ｋ－Ｐｔ＠ＭＦＩのサンプルよりも活性が高いことが見られるが、このことは、Ｓｎの向上効果が、Ｋと相まって、安定性及び選択率を高めているということを示唆している。

比較例８ａ．Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルを調製するための、慣用される初期湿潤含浸法
０．７重量％のＫを有するＫ－ＭＦＩのサンプルを、先に記述したのと同じ手順で調製するが、ただし、その合成混合物の中へは、Ｐｔ前駆体は添加しない。水熱合成によってＫ－ＭＦＩのサンプルを得た後で、次いで空気中で焼成し、Ｐｔ（１．４重量％）及びＳｎ（０．７重量％）を、慣用される初期湿潤含浸法によって、Ｋ－ＭＦＩ担体の中に導入した。次いで、このサンプルの触媒性能を試験した。図１９に見られるように、初期活性は良好ではあるものの、反応条件下では急速に失活した。脱水素－再生のサイクルを３サイクル実施した後では、大量のアグロメレート化したＰｔナノ粒子が明らかであった（図２０参照）。

実施例９．ＭＦＩゼオライトにおけるＰｔ種のカプセル化効率の測定
Ｐｔ－ゼオライト物質の中におけるＰｔ種のカプセル化効率を示す目的で、０．４重量％のＰｔ、０．８重量％のＳｎ、及び０．６重量％のＫを含む、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルを調製した。最初に、５．０ｇのＫフリーのＴＰＡＯＨ溶液（４０重量％、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒ製、Ｋなし、製品コード：１７４５６．２２）、６．２４ｇのＴＰＡＯＨ（２０重量％、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ製、約０．６重量％のＫを含む、製品コード：２５４５３３－１００Ｇ）、及び１７．０ｇの蒸留水を室温で混合することにより、水酸化テトラプロピルアンモニウム（ＴＰＡＯＨ）溶液を調製した。次いで、水酸化テトラプロピルアンモニウム溶液（ＴＰＡＯＨ）を用い、室温で６時間、撹拌下（５００ｒｐｍ）に、８．２４ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解させた。そのようにして得られた溶液を、等重量の二つの部分に分けた。その溶液のそれぞれの部分について、８０μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）、５０ｍｇのＳｎＣｌ_４・５Ｈ_２Ｏ、及び１５０μＬのエチレンジアミンを上述の溶液に添加し、その混合溶液を、２０分間、撹拌し続けた。次いで、そのようにして得られた黄色の溶液をＴｅｆｌｏｎライニングしたオートクレーブに移し、電気炉の中で、静的な条件下に１７５℃で９６時間加熱した。最終反応生成物の中のＰｔ、Ｓｎ、及びＫの量は、０．４重量％、０．８重量％、及び０．６重量％であった。その水熱反応プロセスの後で、その固体の反応生成物を濾過により単離し、蒸留水及びアセトンを用いて洗浄し、次いで、６０℃で乾燥させた。次いで、その固体のサンプルを、空気流の中、５６０℃で８時間、次いで６００℃で２時間かけて、焼成した。空気中での焼成の後、そのサンプルを、６００℃で２時間かけて、Ｈ_２により還元した。

その構造的及びモルホロジー的な特性分析は、図２１に見出すことができる。ＳＴＥＭ画像によって１ナノメートル未満のＰｔ種を観察することができるが、それらのＰｔ種は、主として、ＭＦＩゼオライトのシヌソイダルチャネルの中に位置している。

ＭＦＩゼオライトの細孔構造を考えると、ニトロアレーンの水素化は、プローブ反応として選択された。ニトロベンゼンは、ＭＦＩゼオライトの１０Ｒチャネルを通って拡散することができるが、それに対して、３－メチルニトロベンゼンは拡散できない。したがって、（上述の手順で調製された）Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの初期反応速度を比較することによって、ＭＦＩゼオライトの中でカプセル化されたＰｔ種のパーセントを推定することができる。図２２に見ることができるように、ニトロベンゼンの水素化のための初期反応速度は、３－メチルニトロベンゼンを水素化する場合よりは、はるかに高く、Ｐｔ種のほとんどが１０Ｒチャネルの内部にあることを示唆している。

さらにＰｔ／ＳｉＯ_２の参照サンプルも、慣用される湿式含浸法により調製した。１．２５ｇのＳｉＯ_２（ヒュームドシリカ、Ａｅｒｏｓｉｌ ２００）を、３０ｍＬの蒸留水と混合した。その懸濁液に、１００μＬのＨ_２ＰｔＣｌ_６水溶液（０．３８ｍｏｌ／Ｌ）を添加した。室温で２時間撹拌を続けてから、シリコーン油浴中、１２０℃で加熱することによって、水を除去した。次いで、その固体の反応生成物を、空気流の中、４５０℃で４時間かけて焼成してから、Ｈ_２により４５０℃で３時間かけて還元した。その参照物質のＰｔ／ＳｉＯ_２サンプルについても、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプル（０．４重量％Ｐｔ）の場合と同じ条件下で、ニトロベンゼン及び３－メチルニトロベンゼンの水素化についての試験をした。

一つの特に好ましい実施形態においては、ゼオライトの中にカプセル化されている活性な触媒金属のパーセント（α）が、次式によって求められる：

ここで、αは、ゼオライトの中にカプセル化されている触媒金属のパーセントであり、ＬＲは、１秒あたり触媒金属１モルあたり転化される大きい供給原料のモルとして表した大きい供給原料の反応速度であり、ＳＲは、１秒あたり触媒金属１モルあたり転化されるニトロベンゼンのモルとして表したニトロベンゼンの反応速度であり、「ＬＲ ゼオライト」及び「ＳＲ ゼオライト」は、試験される触媒の、３－メチルニトロベンゼン及びニトロベンゼンの速度と理解するべきであり、そして「ＬＲ ＳｉＯ_２」及び「ＳＲ ＳｉＯ_２」は、同等の金属担持量（その金属は、非晶質シリカの上に担持されている）を有する触媒の、３－メチルニトロベンゼン及びニトロベンゼンの速度と理解するべきである。αが、（それが、ゼオライトの中に存在しているか、或いはゼオライトの表面上に存在しているかには関係なく）触媒金属の全量を基準としての、ゼオライトの中にカプセル化されている触媒金属のパーセントであるので、αは、ゼオライトの中又はゼオライトの表面上の金属の量が、重量で表されるか、モルで表されるかに関係なく、絶対的なパーセント数である。

ニトロベンゼン及び３－メチルニトロベンゼンの水素化のための触媒としてＰｔ／ＳｉＯ_２を使用した場合、これら二つの反応における初期反応速度の比率

は、０．７１であり、それに対して、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩは、０．０７６３の値を与える。したがって、それらの触媒の結果によれば、そのＫ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ（０．４重量％Ｐｔ）の中で、ＭＦＩ物質（α）の中にカプセル化されたＰｔ種のパーセントは、８９％である。

実施例１０．高温での還元－酸化－還元（ＲＯＲ）処理の際の、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの中のＰｔ種の安定性の測定
Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩ（１．４重量％Ｐｔ、実施例４から）の上で、６００℃での還元処理及び６５０℃での酸化処理を実施することにより、ＲＯＲ処理を実施した。図２３に示したＳＴＥＭ画像においては、依然として、多数の１ナノメートル未満のＰｔのクラスターを観察することができる。それにも関わらず、本願発明者らは、ＭＦＩゼオライトのクリスタリットの外側表面の上にいくつかのＰｔナノ粒子が形成されていることをも観察したが、これは、ＲＯＲ処理の際にＰｔ種、特に、ＭＦＩゼオライトのクリスタリットの表面又は表面直下に位置していたＰｔ種にわずかな焼結が起きたためであろう。高温の酸化－還元処理の際の、Ｋ－ＰｔＳｎ＠ＭＦＩのサンプルの中でカプセル化されたＰｔ種の高い安定性は、さらに、図１７に示した使用後の触媒のＳＴＥＭ画像、及び図１８に示したＥＸＡＦＳの結果にも反映されている。その触媒の試験をする前の、失活した触媒の再生では、空気中６００℃での焼成、次いでＨ_２による６００℃での還元が必要であり、３回の試験の後の、使用後の触媒は、類似のＰｔ－Ｐｔ配位数を示すが、このことは、Ｐｔ種の優れた安定性を示している。ＭＦＩゼオライトの中の１ナノメートル未満の種の大部分のカプセル化は、高温のＲＯＲ処理の際にも、安定に留まっていると結論づけることができる。

本明細書において引用された、すべての特許、試験手順、及びその他の文献は、優先権文書も含めて、そのような開示が、矛盾していない程度まで、そしてそのような取込みが許容されるすべての権限の範囲で、参照することによりそのすべてを本明細書に取込んだものとする。

本明細書において開示された説明のための形式では、特定のものについて記述してきたが、当業者であれば、本開示の精神と範囲から逸脱することなく、各種のその他の変更が明らかであり且つ容易に実施することが可能であることは、理解されたい。したがって、本明細書に添付の請求項の範囲が、本明細書において言及された実施例及び記述に限定されることが意図されている訳ではなく、むしろ、本開示が関連するものに対して、当業者によってその等価物として扱われるべきすべての特色を含めて、それらの請求項が、本明細書に含まれる特許可能な新規性の特徴をすべて包含すると解釈されるべきである。

本明細書において、数値の下限及び上限が記載されている場合には、あらゆる下限からあらゆる上限までの範囲が、考慮に入っている。

Claims (21)

1. ＭＦＩ骨格タイプの合成ゼオライトであって、
   ａ．前記ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．０２重量％のＰｔである触媒金属であって、触媒金属粒子として存在し、前記触媒金属粒子の数にして少なくとも６０％が、１．０ｎｍ以下の粒径を有している、触媒金属、及び
   ｂ．前記ゼオライトの重量を基準にして、少なくとも０．００５重量％の、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、及びＳｒ、並びにそれらの組合せからなる群より選択されるアルカリ金属又はアルカリ土類金属、
   を含み、
   前記ゼオライトが、そのゼオライト骨格の中に、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せからなる群より選択される三価元素Ｙを含んでいる場合には、ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３の比率が２００：１より大である、
   合成ゼオライト。
2. 前記触媒金属粒子の、数にして、少なくとも７０％が、２．０ｎｍ以下の粒径を有する、請求項１に記載の合成ゼオライト。
3. 前記アルカリ金属又はアルカリ土類金属が、前記ゼオライトの重量を基準にして、０．１～５．０重量％で存在する、請求項１に記載の合成ゼオライト。
4. 前記アルカリ金属が、Ｎａ又はＫである、請求項１に記載の合成ゼオライト。
5. 少なくとも１種の前記触媒金属の、前記少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属に対するモル比が、０．２～１０の範囲である、請求項１に記載の合成ゼオライト。
6. 少なくとも０．０１重量％の、Ｇａ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｍｏ、及びそれらの組合せからなる群より選択される、さらなる骨格外金属をさらに含む、請求項１に記載の合成ゼオライト。
7. さらなる骨格外金属として、Ｓｎを含む、請求項６に記載の合成ゼオライト。
8. 合成したままの形態にあり、そして構造指向剤（ＳＤＡ）をさらに含む、請求項１に記載の合成ゼオライト。
9. 水素化／脱水素化触媒であって、請求項１～８のいずれか一項に記載の合成ゼオライト、及び前記触媒の重量を基準にして、少なくとも０．１重量％のバインダーを含む、水素化／脱水素化触媒。
10. 請求項１～８のいずれか一項に記載のＭＦＩ骨格タイプの合成ゼオライトを調製するための方法であって、
    ａ．前記合成ゼオライト骨格を形成することが可能な合成混合物を備える工程であって、前記合成混合物が、少なくとも１種のＳｉの供給源、Ｐｔである触媒金属の供給源を含む少なくとも１種の触媒金属前駆体、並びにＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｓｒ、及びそれらの組合せからなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の供給源を含み、そしてここで、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｆｅ、及びそれらの組合せから選択される三価の金属元素Ｙが存在するのなら、ＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３の比率が、２００：１より大である、工程、
    ｂ．前記合成混合物を結晶化条件下で加熱して、前記合成ゼオライトの結晶を形成させる工程、及び
    ｃ．前記合成混合物から前記合成ゼオライトの結晶を回収する工程、を含む方法。
11. 工程ｃにおいて回収される前記合成ゼオライトの結晶を焼成する工程をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記合成混合物が、５００：１より大のＳｉＯ_２：Ｙ_２Ｏ_３のモル比を有する、請求項１０に記載の方法。
13. 前記合成混合物が、水酸化物イオン及び／又はフッ化物イオンの供給源、有機ＳＤＡの供給源、並びに水をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
14. 前記少なくとも１種の触媒金属前駆体が、Ｎ含有配位子、Ｏ含有配位子、Ｓ含有配位子、及びＰ含有配位子からなる群より選択される配位子によって安定化された金属錯体を含む、請求項１０に記載の方法。
15. 前記合成混合物が、四級アンモニウムカチオンである、有機構造指向剤を含む、請求項１０に記載の方法。
16. 工程ｃにおいて回収される前記合成ゼオライトの結晶が、請求項１～８のいずれかに記載の合成ゼオライトの結晶である、請求項１０に記載の方法。
17. 請求項１～８のいずれかに記載の合成ゼオライトの、吸着剤又は触媒としての使用。
18. 有機化合物を含む供給原料を、転化反応生成物へと転化させるための方法であって、前記供給原料を、請求項１～８のいずれかに記載の合成ゼオライトを含む触媒と接触させる工程を含む、方法。
19. 水素化法又は脱水素化法である、請求項１８に記載の方法。
20. ハイドロプロセシングプロセスである、請求項１８に記載の方法。
21. 触媒のリホーミングプロセスである、請求項１８に記載の方法。

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