JP7449085B2 - リニアモータ、ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態におけるリニアモータ100の構成を示す概略斜視図である。図2は、図1に示すリニアモータ100のYZ平面の断面図である。図2において、矢印は、磁石の磁化方向を示し、矢印の向きは、N極の向きを示している。
図13及び図14は、本発明の第2実施形態におけるリニアモータ200の構成を示す概略図である。図15は、図13及び図14に示すリニアモータ200のYZ平面の断面図である。図15において、矢印は、磁石の磁化方向を示し、矢印の向きは、N極の向きを示している。
本実施形態では、上述したリニアモータ100が適用されるステージ装置について説明する。図16は、本発明の一側面としてのステージ装置300の構成を示す概略図である。ステージ装置300は、定盤302の上に、2つのリニアモータ100を有する。可動天板301(ステージ)は、定盤302の上の2つのリニアモータ100と連結され、Y方向に駆動される。可動天板301と定盤302との間には静圧軸受(不図示)が設けられ、かかる静圧軸受によって、可動天板301は、X方向及びZ方向に非接触でガイドされた状態でY方向に移動することができる。また、可動天板301の側面にはミラー(不図示)が設けられ、レーザ干渉計(不図示)によって可動天板301(ミラー)の位置を計測することが可能である。電流ドライバ(不図示)からリニアモータ100(コイル121)に電流を流すことによって駆動力が発生し、可動天板301がY方向に移動する。このように、リニアモータ100は、可動天板301に推力を与える。
本実施形態では、上述したリニアモータ100、或いは、上述したステージ装置300が適用される露光装置について説明する。図17は、本発明の一側面としての露光装置505の構成を示す概略図である。露光装置505は、半導体素子や液晶表示素子などのデバイスの製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置505は、原版であるレチクル(マスク)を介して基板を露光して、レチクルのパターンを基板に転写する。露光装置505には、ステップ・アンド・スキャン方式、ステップ・アンド・リピート方式、その他の露光方式を採用することができる。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置505を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する(パターンを基板に形成する)工程と、露光された基板を現像する(基板を処理する)工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。なお、上述した物品の製造方法は、インプリント装置や描画装置などのリソグラフィ装置を用いて行ってもよい。
Claims (14)
- コイルと、
第1方向に配列された複数の磁石をそれぞれが含む第1磁石列及び第2磁石列と、
前記第1磁石列と前記第2磁石列とが互いに対向するように、前記第1磁石列及び前記第2磁石列を支持する支持部材と、を有し、
前記コイルに電流を流すことによって、前記第1磁石列と前記第2磁石列との間で、前記コイルと、前記第1磁石列及び前記第2磁石列とが相対的に前記第1方向に移動し、
前記複数の磁石のうちの少なくとも一部の磁石は、前記第1方向に直交する第2方向に配列された複数の部分磁石で構成され、
前記少なくとも一部の磁石は、前記第1方向において、前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置が他の磁石と異なる磁石を含むことを特徴とするリニアモータ。 - 前記少なくとも一部の磁石のうち、1つの磁石の前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置は、前記第1方向において、他の少なくとも2つの磁石の前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置のそれぞれと異なることを特徴とする請求項1に記載のリニアモータ。
- 前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置は、前記複数の磁石のそれぞれの前記第2方向における中点の位置にないことを特徴とする請求項1又は2に記載のリニアモータ。
- 前記支持部材は、前記第1磁石列及び前記第2磁石列を支持して互いに対向する第1面及び第2面と、前記第1面及び前記第2面に直交する第3面とを含むことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
- 前記支持部材は、前記第1面及び前記第2面に直交する第4面を更に含み、
前記第3面と前記第4面とは互いに対向していることを特徴とする請求項4に記載のリニアモータ。 - 前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置は、前記複数の磁石のうち隣接する磁石において、同一直線上にないことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
- 前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置は、前記第1方向において、同一直線上にないことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
- 前記第1磁石列及び前記第2磁石列のそれぞれの前記第2方向に配列された複数の部分磁石を繋ぐ位置は、前記第1方向及び前記第2方向に直交する第3方向において重ならないことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。
- 前記第1方向に配列された複数の磁石をそれぞれが含む第3磁石列及び第4磁石列を更に有し、
前記支持部材は、前記第3磁石列と前記第4磁石列とが互いに対向するように、前記第3磁石列及び前記第4磁石列を支持することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリニアモータ。 - コイルと、
第1方向に配列された複数の磁石をそれぞれが含む第1磁石列及び第2磁石列と、
前記第1磁石列と前記第2磁石列とが互いに対向するように、前記第1磁石列及び前記第2磁石列を支持する支持部材と、を有し、
前記コイルに電流を流すことによって、前記第1磁石列と前記第2磁石列との間で前記コイルと前記第1磁石列及び前記第2磁石列とが相対的に前記第1方向に移動し、
前記複数の磁石のそれぞれは、前記第1方向に直交する第2方向に配列された第1部分磁石及び第2部分磁石で構成され、
前記複数の磁石のうちの少なくとも1つは、前記第1部分磁石の前記第2方向の長さと前記第2部分磁石の前記第2方向の長さとが異なり、
前記第2方向に配列された前記第1部分磁石と前記第2部分磁石とを繋ぐ位置が異なる箇所が前記第1方向に2箇所以上あることを特徴とするリニアモータ。 - ステージを駆動するステージ装置であって、
前記ステージに推力を与えるリニアモータを有し、
前記リニアモータは、請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のリニアモータを含むことを特徴とするステージ装置。 - パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記ステージを駆動するステージ装置と、を有し、
前記ステージは、前記ステージに推力を与えるリニアモータを含み、
前記リニアモータは、請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のリニアモータを含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - レチクルのパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に有することを特徴とする請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項12又は13に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003116261A (ja) | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Canon Inc | リニアモータ、ステージ装置及び露光装置 |
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