JP7443618B2 - Memsガスセンサー、及びそのアレイ、製造方法 - Google Patents
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Description
各ガス検知アセンブリは、サポートアーム及び前記サポートアームに設置されるガス検知部を含み、前記ガス検知部は順に積層設置されるストリップ加熱電極部、絶縁層、ストリップ検知電極部及びガス感応材料部を含み、前記ストリップ検知電極部は第1検知電極部及び第2検知電極部を含み、前記第1検知電極部と第2検知電極部との間に第1開口が設置され、前記ガス感応材料部は前記第1開口の位置に設置され、前記ガス感応材料部の第1端は前記第1検知電極部に接続され、前記ガス感応材料部の第2端は前記第2検知電極部に接続され、
各の前記ガス検知アセンブリにおけるストリップ加熱電極部は順に接続され、1つのヒーターを構成する。
第1基板を用意することと、
第1基板の第1表面においてN個のガス検知アセンブリを製造し、N≧2であり、Nが正整数であり、前記ガス検知アセンブリは、サポートアーム及び前記サポートアームに設置されるガス検知部を含み、前記ガス検知部は順に積層設置されるストリップ加熱電極部、絶縁層、ストリップ検知電極部及びガス感応材料部を含み、前記ストリップ検知電極部は第1検知電極部及び第2検知電極部を含み、前記第1検知電極部と第2検知電極部との間に第1開口が設置され、前記ガス感応材料部は前記第1開口の位置に設置され、前記ガス感応材料部の第1端は前記第1検知電極部に接続され、前記ガス感応材料部の第2端は前記第2検知電極部に接続され、各の前記ガス検知アセンブリにおけるストリップ加熱電極部は順に接続され、1つのヒーターを構成することと、を含んでもよい。
各ガス検知アセンブリA3は、サポートアームA31及び前記サポートアームA31に設置されるガス検知部A32を含んでもよく、前記ガス検知部A32は順に積層設置されるストリップ加熱電極部A321、絶縁層A322、ストリップ検知電極部A323及びガス感応材料部A324を含んでもよく、前記ストリップ検知電極部A323は第1検知電極部A323-1及び第2検知電極部A323-2を含んでもよく、前記第1検知電極部A323-1と第2検知電極部A323-2との間に第1開口A325が設置され、前記ガス感応材料部A324は前記第1開口A325の位置に設置され、前記ガス感応材料部A324の第1端は前記第1検知電極部A323-1に接続され、前記ガス感応材料部A324の第2端は前記第2検知電極部A323-2に接続され、
各の前記ガス検知アセンブリA3におけるストリップ加熱電極部A321は順に接続され、1つのヒーターA8を構成する。
前記第1基板A2の第1表面には1つ又は複数のキャビティーが開設され、少なくとも1つのキャビティーは上記第1キャビティーA1であり、第1キャビティーA1におけるN個のガス検知アセンブリA3におけるストリップ加熱電極部A321は順に接続され、1つのヒーターA8を構成する。
前記第1基板A2の第1表面には複数の第1キャビティーA1が開設され、一部又は全部の第1キャビティーA1におけるすべてのガス検知アセンブリA3におけるストリップ加熱電極部A321は順に接続され、1つのヒーターA8を構成する。
前記第1加熱電極ピンA4は前記ヒーターA8の第1端に接続され、前記第2加熱電極ピンA5は前記ヒーターA8の第2端に接続され、それにより加熱回路を形成する。
第1検知電極部A323-1の第1端は前記ガス感応材料部A324の第1端に接続され、前記第1検知電極部A323-1の第2端は1つの第1検知電極ピンA6に接続され、第2検知電極部A323-2の第1端は前記ガス感応材料部A324の第2端に接続され、前記第2検知電極部A323-2の第2端は1つの第2検知電極ピンA7に接続され、それにより検知回路を形成する。即ち、1つの第1検知電極部の第1端は1つのガス感応材料部の第1端に接続され、該第1検知電極部の第2端は1つの第1検知電極ピンに接続され、1つの第2検知電極部の第1端は1つのガス感応材料部の第2端に接続され、該第2検知電極部の第2端は1つの第2検知電極ピンに接続される。
前記第1検知電極部A323-1には第1屈曲点X1が含まれてもよく、前記第1検知電極部A323-1は前記第1屈曲点X1において屈曲を有し、前記第1屈曲点X1により前記第1検知電極部A323-1は第1検知電極セグメントA323-1-1と第2検知電極セグメントA323-1-2に分けられ、
前記第2検知電極部A323-2には第2屈曲点X2が含まれてもよく、前記第2検知電極部A323-2は前記第2屈曲点X2において屈曲を有し、前記第2屈曲点X2により前記第2検知電極部A323-2は第3検知電極セグメントA323-2-1と第4検知電極セグメントA323-2-2に分けられ、
前記第1開口A325は、前記第1検知電極セグメントA323-1-1と前記第3検知電極セグメントA323-2-1との間に設置され、N個のガス検知アセンブリA3における前記第1検知電極セグメントA323-1-1と前記第3検知電極セグメントA323-2-1は一緒に第1形状を構成してもよく、前記第1形状は対称形状であり、図2に示すように、4つのガス検知アセンブリA3からなる第1形状は正方形であり、
各ガス検知アセンブリA3におけるストリップ加熱電極部A321は、第1検知電極セグメントA323-1-1と前記第3検知電極セグメントA323-2-1の対応位置に設置され、即ち、第1屈曲点X1と第2屈曲点X2との間の領域に設置される。
前記第1ウィンドウ32は、ヒーター41の加熱電極ピンを露出させることに用いられ、
前記第2ウィンドウ33はエッチングウィンドウであり、例えば第2形状に設置されてもよい。前記第2形状は複数(例えば、6つ)の等辺台形の中空部分が前記隔離膜層3に垂直投影することにより形成される形状であり、図19における6つの第2ウィンドウ33の間の領域のように、隔離膜層3に垂直投影される際に、該形状は第2ウィンドウ33を決定できる。
支持膜における1つ又は複数の第1領域に第3所定厚さの金属体を前記ストリップ加熱電極部として堆積して、前記第1領域以外の1つ又は複数の第2領域に第3所定厚さの金属体を第1加熱電極ピン及び第2加熱電極ピンとして堆積し、全部の前記ストリップ加熱電極部は順に接続されて、1つのヒーターを構成することを含んでもよい。
前記第1基板において、前記ストリップ加熱電極、前記第1加熱電極ピン及び第2加熱電極ピンの上層に第4所定厚さの第3ケイ素化合物を隔離膜として堆積することを含んでもよい。
前記絶縁層の第1部分に第5所定厚さの導体を前記第1ストリップ検知電極部として堆積し、前記絶縁層の第2部分に第5所定厚さの導体を前記第2ストリップ検知電極部として堆積し、選択肢として、第1ストリップ検知電極部と第2ストリップ検知電極部を同時に堆積してもよく、前記絶縁層は前記第1部分、前記第2部分及び第3部分を含み、前記第3部分は前記第1部分と前記第2部分との間に位置し、前記第1開口に対応することを含んでもよい。
Claims (13)
- 微小電気機械システム(MEMS)ガスセンサーであって、第1表面に第1キャビティーが開設される第1基板と、第1キャビティーの開口に設置されるN個のガス検知アセンブリと、を備え、N≧2であり、Nが正整数であり、
各ガス検知アセンブリは、サポートアーム及び前記サポートアームに設置されるガス検知部を含み、前記ガス検知部は順に積層設置されるストリップ加熱電極部、絶縁層、ストリップ検知電極部及びガス感応材料部を含み、前記ストリップ検知電極部は第1検知電極部及び第2検知電極部を含み、前記第1検知電極部と第2検知電極部との間に第1開口が設置され、前記ガス感応材料部は前記第1開口の位置に設置され、前記ガス感応材料部の第1端は前記第1検知電極部に接続され、前記ガス感応材料部の第2端は前記第2検知電極部に接続され、
各の前記ガス検知アセンブリにおけるストリップ加熱電極部は順に接続され、1つのヒーターを構成し、前記第1キャビティーは複数であり、複数の第1キャビティーに対応するヒーターは互いに接続される、微小電気機械システム(MEMS)ガスセンサー。 - 前記第1基板に設置される第1加熱電極ピン、第2加熱電極ピンを更に備え、
前記第1加熱電極ピンは前記ヒーターの第1端に接続され、前記第2加熱電極ピンは前記ヒーターの第2端に接続される、請求項1に記載のMEMSガスセンサー。 - 前記第1基板に設置される1つ又はN個の第1検知電極ピン及び1つ又はN個の第2検知電極ピンを更に備え、
1つの第1検知電極部の第1端は1つのガス感応材料部の第1端に接続され、前記第1検知電極部の第2端は1つの第1検知電極ピンに接続され、
1つの第2検知電極部の第1端は1つのガス感応材料部の第2端に接続され、前記第2検知電極部の第2端は1つの第2検知電極ピンに接続される、請求項1に記載のMEMSガスセンサー。 - N個のガス検知アセンブリはNペアの第1検知電極ピン及び第2検知電極ピンを含み、
前記Nペアの第1検知電極ピン及び第2検知電極ピンは、それぞれN個のガス検知アセンブリにおける第1検知電極部及び第2検知電極部に接続される、請求項3に記載のMEMSガスセンサー。 - 複数の第1検知電極部の第2端は1つの第1検知電極ピンに接続され、及び/又は、
複数の第2検知電極部の第2端は1つの第2検知電極ピンに接続される、請求項3に記載のMEMSガスセンサー。 - 前記第1検知電極部と前記第2検知電極部は互いに線対称であり、前記第1開口は前記第1検知電極部と前記第2検知電極部との対称軸の位置に位置する、請求項1に記載のMEMSガスセンサー。
- 各ガス検知アセンブリにおける前記第1検知電極部は第1屈曲点を備え、前記第1屈曲点により前記第1検知電極部は第1検知電極セグメントと第2検知電極セグメントに分けられ、
各ガス検知アセンブリにおける前記第2検知電極部は第2屈曲点を備え、前記第2屈曲点により前記第2検知電極部は第3検知電極セグメントと第4検知電極セグメントに分けられ、
前記ストリップ検知電極部は順に接続される第2検知電極セグメントと第1検知電極セグメント、並びに第1検知電極セグメントから第1開口を隔ててさらに順に接続される第3検知電極セグメント及び第4検知電極セグメントを含み、前記第1開口は前記第1検知電極セグメントと前記第3検知電極セグメントとの間に設置され、N個のガス検知アセンブリにおける前記第1検知電極セグメントと前記第3検知電極セグメントは一緒に第1形状を構成し、前記第1形状は線対称形状であり、
各ガス検知アセンブリにおける前記ストリップ加熱電極部は、前記ガス検知アセンブリにおける第1屈曲点と第2屈曲点との間の領域に設置される、請求項1に記載のMEMSガスセンサー。 - 前記第1形状は線対称ジオメトリ形状を含む、請求項7に記載のMEMSガスセンサー。
- 前記ヒーターの形状は前記第1形状と重なる、請求項7に記載のMEMSガスセンサー。
- 前記N個のガス検知アセンブリにおけるN個のガス感応材料部に採用されるガス感応材料はいずれも異なり、又は、少なくとも2つのガス感応材料部に採用されるガス感応材料は同じである、請求項1に記載のMEMSガスセンサー。
- 前記ヒーターの形状は線対称ジオメトリ形状である、請求項1に記載のMEMSガスセンサー。
- MEMSガスセンサーアレイであって、複数のセンサーを含み、前記センサーは請求項1~11のいずれか1項に記載のMEMSガスセンサーである、MEMSガスセンサーアレイ。
- MEMSガスセンサーの製造方法であって、前記MEMSガスセンサーは請求項1~11のいずれか1項に記載のMEMSガスセンサーであり、前記製造方法は、
第1基板を用意することと、
第1基板の第1表面においてN個のガス検知アセンブリを製造し、N≧2であり、Nが正整数であり、前記ガス検知アセンブリは、サポートアーム及び前記サポートアームに設置されるガス検知部を含み、前記ガス検知部は順に積層設置されるストリップ加熱電極部、絶縁層、ストリップ検知電極部及びガス感応材料部を含み、前記ストリップ検知電極部は第1検知電極部及び第2検知電極部を含み、前記第1検知電極部と第2検知電極部との間に第1開口が設置され、前記ガス感応材料部は前記第1開口の位置に設置され、前記ガス感応材料部の第1端は前記第1検知電極部に接続され、前記ガス感応材料部の第2端は前記第2検知電極部に接続され、各の前記ガス検知アセンブリにおけるストリップ加熱電極部は順に接続され、1つのヒーターを構成することと、を含むMEMSガスセンサーの製造方法。
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