JP7441799B2 - カーボンナノチューブの製造方法、カーボンナノチューブ集合線の製造方法、カーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法、カーボンナノチューブ製造装置、カーボンナノチューブ集合線製造装置及びカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置 - Google Patents
カーボンナノチューブの製造方法、カーボンナノチューブ集合線の製造方法、カーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法、カーボンナノチューブ製造装置、カーボンナノチューブ集合線製造装置及びカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置 Download PDFInfo
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Description
浮遊状態の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記触媒粒子からカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記カーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記カーボンナノチューブを伸長させる伸長工程とを含む、カーボンナノチューブの製造方法である。
浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させることにより、複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させてカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程とを含む、カーボンナノチューブ集合線の製造方法である。
浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させることにより、複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させて複数のカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程と、
前記複数のカーボンナノチューブ集合線を前記複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル工程とを含む、カーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法である。
管状のカーボンナノチューブ成長部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の一方の端部側から前記カーボンナノチューブ成長部内に炭素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部内に触媒粒子を供給する触媒供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の他方の端部側に配置され、前記カーボンナノチューブ成長部で得られたカーボンナノチューブを伸長するカーボンナノチューブ伸長部とを備える、カーボンナノチューブ製造装置である。
管状のカーボンナノチューブ成長部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の一方の端部から前記カーボンナノチューブ成長部に炭素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部内に触媒粒子を供給する触媒供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の他方の端部側に配置され、前記カーボンナノチューブ伸長部で得られた複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させるカーボンナノチューブ集合部と、を備える、カーボンナノチューブ集合線製造装置である。
上記のカーボンナノチューブ集合線製造装置と、
前記カーボンナノチューブ集合線製造装置により得られた複数のカーボンナノチューブ集合線を前記複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル部とを備える、カーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置である。
現在のカーボンナノチューブの作製技術で得られるカーボンナノチューブは、その径が約0.4nm~20nm、かつ、長さが最大55cmである。カーボンナノチューブを電線や高強度材として用いるためには、より長いカーボンナノチューブが必要であり、カーボンナノチューブを長尺化できる技術が検討されている。
[本開示の効果]
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
浮遊状態の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記触媒粒子からカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記カーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記カーボンナノチューブを伸長させる伸長工程とを含む、カーボンナノチューブの製造方法である。
(2)前記伸長工程において、前記カーボンナノチューブは、前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して伸長することが好ましい。これによると、カーボンナノチューブが曲がりにくく、チューブ部Tが六員環の炭素のみからなる直線状のカーボンナノチューブを得ることができる。六員環の炭素のみからなるカーボンナノチューブは、劣化が進みにくく、品質を維持することができる。
浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させることにより、複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させてカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程とを含む、カーボンナノチューブ集合線の製造方法である。
前記集合工程において、前記複数のカーボンナノチューブ及び前記炭素含有ガスは、前記第1流路より下流側に配置される1以上の第2流路を通過し、
前記第2流路のそれぞれの断面積は、前記第1流路の断面積よりも小さいことが好ましい。
前記第2流路内の下流側端部における前記炭素含有ガスの温度は、600℃以下であることが好ましい。
(19)前記第2流路内の下流側に、前記炭素含有ガスの温度が600℃以下である第1領域が存在し、該第1領域の前記第2流路の長手方向に沿う長さは1cm以上であることが好ましい。
(20)前記第2流路のそれぞれの断面積は0.01mm2以上4mm2以下であることが好ましい。これによると、CNTの径が縮小しやすい。
浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させることにより、複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させて複数のカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程と、
前記複数のカーボンナノチューブ集合線を前記複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル工程とを含む、カーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法である。
前記集合工程及び前記バンドル工程において、前記複数のカーボンナノチューブ及び前記炭素含有ガスは、前記第1流路よりも下流側に配置される1以上の第2流路を通過し、
前記第2流路のそれぞれの断面積は、前記第1流路の断面積よりも小さいことが好ましい。
前記第2流路間の最近接距離は、上流側よりも下流側の方が短いことが好ましい。これによると、CNT集合線同士が束ねられやすく、CNT集合線バンドルが形成されやすい。
管状のカーボンナノチューブ成長部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の一方の端部側から前記カーボンナノチューブ成長部内に炭素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部内に触媒粒子を供給する触媒供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の他方の端部側に配置され、前記カーボンナノチューブ成長部で得られたカーボンナノチューブを伸長するカーボンナノチューブ伸長部とを備える、カーボンナノチューブ製造装置である。
(36)本開示の一態様に係るカーボンナノチューブ集合線製造装置は、
管状のカーボンナノチューブ成長部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の一方の端部から前記カーボンナノチューブ成長部に炭素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部内に触媒粒子を供給する触媒供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の他方の端部側に配置され、前記カーボンナノチューブ成長部で得られた複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させるカーボンナノチューブ集合部と、を備える、カーボンナノチューブ集合線製造装置である。
前記カーボンナノチューブ集合部は、その内部に1以上の第2流路を有し、
前記第2流路のそれぞれの断面積は、前記第1流路の断面積よりも小さいことが好ましい。
前記第2流路のそれぞれの断面積は0.01mm2以上4mm2以下であることが好ましい。
これによると、CNTの径が縮小しやすい。
上記のカーボンナノチューブ集合線製造装置と、
前記カーボンナノチューブ集合線製造装置により得られた複数のカーボンナノチューブ集合線を前記複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル部とを備えることが好ましい。
これによると、高い密度を有するCNT集合線バンドルを提供することが可能となる。
前記第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有することが好ましい。
[本発明の実施形態の詳細]
本開示の一実施形態にかかるカーボンナノチューブ集合線及びカーボンナノチューブ集合線バンドルの具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。
実施の形態1に係るカーボンナノチューブの製造方法について説明する。カーボンナノチューブの製造方法は、浮遊状態の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、触媒粒子からカーボンナノチューブを成長させる成長工程(以下、成長工程とも記す)と、浮遊状態のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、カーボンナノチューブを伸長させる伸長工程(以下、伸長工程とも記す)とを含む。
成長工程において、浮遊状態の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、触媒粒子から、カーボンナノチューブを成長させる。本明細書において、成長工程では、CNTの長さは20μm以下である。
次に、成長工程で得られた浮遊状態のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、カーボンナノチューブを伸長させる。
実施の形態1に係るカーボンナノチューブの製造方法で作製されるカーボンナノチューブについて図6を用いて説明する。
カーボンナノチューブとしては、公知の構造のCNTを用いることができる。例えば、炭素の層(グラフェン)が1層だけ筒状になっている単層カーボンナノチューブや、炭素の層が複数層積層した状態で筒状になっている二層カーボンナノチューブ又は多層カーボンナノチューブ等を用いることができる。
カーボンナノチューブは、波長532nmのラマン分光分析におけるGバンドのピーク強度とDバンドのピーク強度との比であるD/G比が0.1以下であることが好ましい。
ラマン分光分析の測定条件
波長:532nm
レーザーパワー:17mW
露光時間:1秒
平均回数:3回
対物レンズ倍率:50倍
[実施の形態3:カーボンナノチューブ製造装置]
実施の形態1に係るカーボンナノチューブの製造方法に用いられるカーボンナノチューブ製造装置について図18を用いて説明する。図18に示されるカーボンナノチューブ製造装置10は、管状のカーボンナノチューブ成長部(以下、CNT成長部とも記す)21と、CNT成長部21の一方の端部(図18において右側の端部)側からCNT成長部21内に炭素含有ガスを供給するガス供給部22と、CNT成長部21内に触媒粒子Pを供給する触媒供給部23と、CNT成長部21の他方の端部側(図18において左側の端部)に配置され、CNT成長部21で得られたカーボンナノチューブを伸長するカーボンナノチューブ伸長部(以下、CNT伸長部とも記す)30とを備えることができる。CNT成長部21、CNT伸長部30及び触媒供給部23は、連続した反応管31を含み、反応管31の内部でCNTが製造される。
カーボンナノチューブ成長部21は、例えば石英管からなる管状の形状を有する。CNT成長部21において、炭素含有ガスを用いて、触媒粒子P上にカーボンナノチューブ2が形成される。
ガス供給部22は、カーボンナノチューブ成長部22の一方の端部(図18において右側の端部)からCNT成長部21に炭素含有ガスを供給する。ガス供給部22は、ガスボンベ(図示せず)と流量調節弁(図示せず)とを有する構成とすることができる。
触媒供給部23は、ガス供給部22とCNT成長部21との間に配置されることができる。触媒供給部23の内部には触媒27を保持する触媒保持具26が配置されている。触媒供給部23には、ヒーター25が付設されている。つまり、触媒供給部23は、ヒーターによって加熱される。
カーボンナノチューブ伸長部30は、CNT成長部21のガス供給部23側と反対側の端部に配置される。すなわち、CNT伸長部30は、CNT成長部21の炭素含有ガスの下流側に配置される。CNT伸長部30において、カーボンナノチューブが伸長される。
CNT製造装置は、上記の構成に加えて、磁場を発生させる磁場発生部を含むことができる。具体的には、CNT伸長部において、反応管の周囲にコイル状に電線を設置することができる。該電線を通電することで、反応管の内部に、反応管の中心軸に沿った方向の磁力線を発生させることにより、CNTに磁場に由来する引張力を加えることができる。
実施の形態4に係るカーボンナノチューブ集合線の製造方法について説明する。カーボンナノチューブ集合線の製造方法は、浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程(以下、成長工程とも記す)と、浮遊状態の複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程(以下、伸長工程とも記す)と、浮遊状態の複数のカーボンナノチューブを炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させてカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程(以下、集合工程とも記す)とを含むことができる。
成長工程において、浮遊状態の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、触媒粒子から、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させる。成長工程の内容は、実施の形態1に記載された成長工程と同一であるため、その説明は繰り返さない。
次に、成長工程で得られた浮遊状態の複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、複数のカーボンナノチューブを伸長させる。
次に、浮遊状態の複数のカーボンナノチューブを炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させてカーボンナノチューブ集合線を得る。集合工程は、CNT集合部24の内部で行われる。
カーボンナノチューブ集合線の製造方法のより好ましい実施の形態について、図14及び図20を用いて説明する。図14は、本開示の一実施形態に係るカーボンナノチューブ集合線製造装置を説明する図である。図20は、カーボンナノチューブ集合部の第2流路の拡大図である。図20では、右側が上流側であり、左側が下流側である。
実施の形態4のカーボンナノチューブ集合線の製造方法で作製されるカーボンナノチューブ集合線について説明する。図1は本開示の一実施形態に係るカーボンナノチューブ集合線(以下、CNT集合線とも記す)を説明する図である。図1に示されるように、本実施形態に係るカーボンナノチューブ集合線1は、複数のカーボンナノチューブ2を備える。該CNT集合線において、複数のカーボンナノチューブ2が0.9以上1.0以下の配向度で配向していることが好ましい。
本実施形態において、カーボンナノチューブ2としては、基本的に実施の形態2に記載のカーボンナノチューブを用いることができる。
ラマン分光分析の測定条件
波長:532nm
レーザーパワー:17mW
露光時間:1秒
平均回数:3回
対物レンズ倍率:50倍
本実施形態に係るCNT集合線中のCNTのD/G比を、CNT集合線のD/G比と同一と見做す理由は下記の通りである。
本明細書におけるCNTの配向度の算出方法について、図2~図5を用いて説明する。本明細書において、CNTの配向度とは下記(a1)~(a6)の手順により算出される値である。
なお、出願人が測定した限りでは、同一の試料において測定する限りにおいて、後述する配向度の測定結果を測定視野(サイズ:10nm×10nm)の選択個所を変更して複数回算出しても、測定結果のばらつきはほとんどないことが確認された。
下記の機器を用いて、下記の条件で、CNT集合線を撮像する。
撮像条件:倍率5万倍~120万倍、加速電圧60kV~200kV。
上記(a1)で撮像された画像に対して、下記の画像処理プログラムを用いて、下記の手順に従い二値化処理を施す。
処理手順:
1.ヒストグラム平均輝度補正
2.バックグラウンド除去
3.単一閾値による二値化
4.輝度反転。
(a3)二値化処理された画像のフーリエ変換
上記(a2)で得られた画像に対して、上記と同一の画像処理プログラム(非破壊による紙の表面繊維配向解析プログラム「FiberOri8single03」(http://www.enomae.com/FiberOri/index.htm))を用いてフーリエ変換を行う。
(a4)配向角度と配向強度の計算
フーリエ変換画像で、X軸正方向を0°として、反時計回りの角度(θ°)に対する平均振幅を計算する。
図5のグラフに基づき、半値全幅(FWHM:full width at half maximum)を測定する。
上記の半値全幅に基づき、下記式(1)により、配向度を算出する。
配向度が0の場合は、完全無配向を意味する。配向度が1の場合は完全配向を意味する。
カーボンナノチューブ集合線の形状は、複数のカーボンナノチューブがそれらの長手方向に配向して集合した糸形状である。
カーボンナノチューブ集合線は、鉄、ニッケル、コバルト、モリブデン、金、銀、銅、イットリウム、クロム、パラジウム、白金及びタングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含み、該金属元素は、前記カーボンナノチューブ集合線の長手方向に分散していることが好ましい。ここで、金属元素がCNT集合線の長手方向に分散しているとは、金属元素がCNT集合線の長手方向において偏在していないことを意味する。
実施の形態6に係るカーボンナノチューブ集合線の製造に用いられるカーボンナノチューブ集合線製造装置について図14を用いて説明する。
カーボンナノチューブ成長部21は、例えば石英管からなる管状の形状を有する。CNT成長部21において、炭素含有ガスを用いて、触媒粒子P上にカーボンナノチューブ2が形成される。
ガス供給部22は、実施の形態3のカーボンナノチューブ製造装置に記載したガス供給部と同一とすることができるため、その説明は繰り返さない。
触媒供給部23は、実施の形態3のカーボンナノチューブ製造装置に記載した触媒供給部と同一とすることができるため、その説明は繰り返さない。
カーボンナノチューブ集合部24は、CNT成長部21のガス供給部23側と反対側の端部に配置される。すなわち、CNT集合部24は、CNT成長部21の炭素含有ガスの下流側に配置される。CNT集合部24において、カーボンナノチューブ集合線が形成される。
図15に示されるように、CNT集合線製造装置20aは、上記の構成に加えて、磁場を発生させる磁場発生部24aを含むことができる。磁場発生部24aは、CNT成長部21又はCNT集合部24において、反応管31の周囲にコイル状に電線301を設置することにより構成される。電線301を通電することで、反応管31の内部に、反応管31の中心軸に沿った方向の磁力線32を発生させることにより、磁場を発生させることができる。これにより、CNTに磁場に由来する引張力を加えることができる。
カーボンナノチューブ集合線製造装置のより好ましい実施の形態について、下記に説明する。
実施の形態7に係るカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法は、浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程(以下、成長工程とも記す)と、浮遊状態の複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程(以下、伸長工程とも記す)と、浮遊状態の複数のカーボンナノチューブを炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させて複数のカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程(以下、集合工程とも記す)と、複数のカーボンナノチューブ集合線を複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル工程(以下、バンドル工程とも記す)とを含むことができる。
バンドル工程において、複数のカーボンナノチューブ集合線を複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得る。
バンドル工程は、複数のカーボンナノチューブ集合線に張力を加えながら行われることが好ましい。これによると、得られたCNT集合線バンドルの強度が向上する。
上記成長工程において、複数のカーボンナノチューブ及び炭素含有ガスは、第1流路を通過し、集合工程及びバンドル工程において、複数のカーボンナノチューブ及び炭素含有ガスは、第1流路よりも下流側に配置される1以上の第2流路を通過し、第2流路のそれぞれの断面積は、第1流路の断面積よりも小さいことが好ましい。これによると、カーボンナノチューブに対して、下流側に向かう引張力を加えることができる。
(I)第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有する。
(II)第2流路間の最近接距離は、上流側よりも下流側の方が短い。
(III)第2流路のそれぞれの断面積は、上流側よりも下流側の方が小さい。
実施の形態7に係るカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法で作製されるカーボンナノチューブ集合線バンドルについて説明する。図7は、本開示の一実施形態に係るカーボンナノチューブ集合線バンドルを説明する図である。図7に示されるように、本実施形態に係るカーボンナノチューブ集合線バンドル(以下、CNT集合線バンドルとも記す)3は、カーボンナノチューブ集合線1が0.8以上1以下の配向度で配向している配向領域を含むことが好ましい。
カーボンナノチューブ集合線バンドル3を構成するカーボンナノチューブ集合線1としては、実施の形態5のCNT集合線を用いることができる。また、該CNT集合線1を構成するカーボンナノチューブ2としては、実施の形態2に記載したカーボンナノチューブと同一のものを用いることができる。
カーボンナノチューブ集合線1において、カーボンナノチューブ2が0.9以上1以下の配向度で配向し、該カーボンナノチューブ集合線バンドル3において、カーボンナノチューブ集合線1が0.8以上1以下の配向度で配向している配向領域を含むことが好ましい。
撮像条件:倍率40倍~10万倍、加速電圧1kV~17k。
測定視野:30μm×30μm
上記(a3)の手順において、図9の二値化処理画像をフーリエ変換した画像を図10に示す。
上記(a6)の手順において、上記の半値全幅に基づき、下記式(1)により、配向度を算出する。
配向度が0の場合は、完全無配向を意味する。配向度が1の場合は完全配向を意味する。
カーボンナノチューブ集合線バンドルの形状は、複数のカーボンナノチューブ集合線がそれらの長手方向に配向して集合した紐形状である。CNT集合線バンドルが、複数のカーボンナノチューブ集合線がそれらの長手方向に配向して集合した紐形状であることは、光学顕微鏡又は走査型電子顕微鏡で観察することにより確認することができる。
図12は本開示の一実施形態に係るカーボンナノチューブ集合線バンドルのSEM画像である。図12に示されるように、カーボンナノチューブ集合線バンドルは、配向領域35と、カーボンナノチューブ集合線の配向度が0以上0.8未満である不定形領域36とを含むことができる。本明細書中、配向領域とは、CNT集合線バンドルにおけるCNT集合線の配向度が0.8以上1.0以下の領域を意味する。一方、不定形領域とは、CNT集合線バンドルにおけるCNT集合線の配向度が0以上0.8未満の領域を意味する。CNT集合線バンドルが配向領域と不定形領域とを含むことにより、近接するCNT集合線同士が接着することなく、曲げやひねりに対する緩衝作用を任意に付加することができる。
カーボンナノチューブ集合線バンドルの表面において、1mm×1mmの矩形の測定視野を10箇所以上無作為に選択する。
上記(b1)で設定した10箇所以上の測定視野のそれぞれについて、上記のCNT集合線バンドルにおけるCNT集合線の配向度の測定と同様の手順で、CNT集合線バンドルにおけるCNT集合線の配向度を算出する。
全測定視野のうち、配向度が0.8以上1.0以下(配向領域)の測定視野の数の割合を算出することにより、CNT集合線バンドルにおける配向領域の割合を得ることができる。また、全測定視野のうち、配向度が0以上0.8未満(不定形領域)の数の割合を算出することにより、CNT集合線バンドルにおける不定形領域の割合を得ることができる。
本実施形態のCNT集合線バンドルの配向領域の少なくとも一部において、近接する複数のカーボンナノチューブ集合線間の距離の最小値は、複数のカーボンナノチューブ集合線の平均径の10倍以上であることが好ましい。これによると、近接するカーボンナノチューブ集合線同士が接着することなく、曲げやひねりに対する緩衝作用を任意に付加することができる。
上記(b1)~(b3)で観察された配向領域のうち、一の配向領域を任意に選択し、該配向領域内で0.1mm×0.1mmの正方形の測定視野を設定する。測定視野を設定する際は、測定視野の外枠である正方形の少なくとも一辺が、カーボンナノチューブ集合線の少なくとも1本と略平行となるように設定する。例えば、図13では、カーボンナノチューブ集合線1aと正方形の一辺Wとが平行である。ここで略平行とは、特定のカーボンナノチューブ集合線と、矩形の一辺とのなす各が5°以下であることを意味する。
上記(c1)で設定した測定視野において、走査型電子顕微鏡で観察することにより、近接するカーボンナノチューブ集合線間の距離を測定する。ここで、近接するカーボンナノチューブ集合線間とは、特定の一のカーボンナノチューブ集合線と、該カーボンナノチューブ集合線の最も近くに存在するカーボンナノチューブ集合線との間を意味する。
上記d1、d2、d3のそれぞれの長さを測定し、これらのうちの最小値を決定する。該最小値と、複数のカーボンナノチューブ集合線の平均径とを比較することにより、CNT集合線バンドルの配向領域の少なくとも一部において、近接する複数のカーボンナノチューブ集合線間の距離の最小値は、複数のカーボンナノチューブ集合線の平均径の10倍以上であるかどうかを確認することができる。ここで、複数のカーボンナノチューブ集合線の平均径とは、上記(c1)で設定された測定視野に存在する複数のカーノンナノチューブ集合線の平均径を意味する。
本実施形態のCNT集合線バンドルの配向領域の少なくとも一部において、近接するカーボンナノチューブ集合線間の角度の最大値は10°以下であることが好ましい。これによると、近接するカーボンナノチューブ集合線同士が接着することなく、曲げやひねりに対する緩衝作用を任意に付加することができる。
上記(c1)と同様の方法で0.1mm×0.1mmの正方形の測定視野を決定する。
上記(d1)で設定した視野において、近接するカーボンナノチューブ集合線間の角度を測定する。ここで、近接するカーボンナノチューブ集合線間とは、特定の一のカーボンナノチューブ集合線と、該カーボンナノチューブ集合線の最も近くに存在するカーボンナノチューブ集合線との間を意味する。
カーボンナノチューブ集合線バンドルは、鉄、ニッケル、コバルト、モリブデン、金、銀、銅、イットリウム、クロム、パラジウム、白金及びタングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含み、該金属元素は、前記カーボンナノチューブ集合線バンドルの長手方向に分散していることが好ましい。ここで、金属元素がCNT集合線バンドルの長手方向に分散しているとは、金属元素がCNT集合線の長手方向において偏在していないことを意味する。
実施の形態7に係るカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法に用いられるカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置について、図21及び図22を用いて説明する。図21及び図22は、カーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置を示す図である。
バンドル部50において、浮遊状態の複数のCNT集合線が長手方向に沿う方向に配向して束ねられてカーボンナノチューブ集合線バンドルが形成される。
バンドル部がハニカム構造体からなる場合、貫通孔の長手方向が、炭素含有ガスの流れに沿う方向となるように、カーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置にハニカム構造体を配置する。
<その他の構成>
CNT集合線バンドル製造装置は、上記の構成に加えて、磁場を発生させる磁場発生部を含むことができる。その構成は、上記のCNT集合線製造装置に記載された磁場発生部と同一とすることができる。
カーボンナノチューブ集合部と、バンドル部とは、複数の第2流路を有する同一のハニカム構造体からなり、第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有することが好ましい。これによると、第2流路内のガスがらせん状に流れ、CNT集合線に均一な撚り角が形成されやすい。第2流路のそれぞれがらせん状に延在する場合の詳細については、実施の形態4のCNT集合線の製造方法に記載しているため、その説明は繰り返さない。
[カーボンナノチューブ製造装置の準備]
<装置1>
装置1として、その概要を図18に示したカーボンナノチューブ製造装置と同様の構成を有するカーボンナノチューブ製造装置を準備した。具体的には、電気炉28内にカーボンナノチューブ成長部21及びカーボンナノチューブ伸長部30を配置する。CNT成長部は、内径20mm、長さ800mmの石英管からなる。カーボンナノチューブ伸長部30は、カーボンナノチューブ成長部と連続する石英管であり、内径の平均値が8mm、長さ300mmである。
上記の装置1は実施例に該当する。
装置2として、基本的に装置1と同様の構成を有する装置を準備した。装置1と異なる点は、カーボンナノチューブ伸長部30を配置しないことである。すなわち、該装置においては、CNT成長部21の触媒供給部23と連続する側と反対側の端部に、CNT伸長部が配置されていない。なお、装置2のカーボンナノチューブ成長部の長さは、装置1のカーボンナノチューブ成長部及びカーボンナノチューブ伸長部の合計の長さと同一とした。
[カーボンナノチューブの作製]
装置1及び装置2の製造装置を用いて、それぞれ試料1及び試料2のカーボンナノチューブを作製した。まず、装置1及び装置2のそれぞれにおいて、ガス供給部からCNT成長部内にアルゴンガス濃度が100体積%のアルゴンガスを1000cc/minの流量(流速3.4cm/sec)で50分間供給しつつ、電気炉内の温度を1000℃まで昇温した。次に、アルゴンガスに加えて、メタンガスを50cc/minの流量(流速0.17cm/sec)、及び、二硫化炭素(CS2)ガスを1cccc/minの流量(流速0.003cm/sec)で120分間供給した。アルゴンガス、メタンガス、二硫化炭素を含む混合ガス(炭素含有ガス)全体の流速は、3.6cm/secである。
装置1では、その後、CNT伸長部内でCNTが伸長した。
(形状)
試料1及び試料2のカーボンナノチューブについて、平均長さ及び平均径を測定した。平均長さ及び平均径の測定方法は、実施の形態2に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
上記より、装置1で得られるCNT(試料1)は、装置2で得られるCNT(試料2)よりも長いことが確認された。
[カーボンナノチューブ集合線製造装置の準備]
<装置3>
装置3として、その概要を図14に示したカーボンナノチューブ集合線製造装置と同様の構成を有するカーボンナノチューブ集合線製造装置を準備した。具体的には、電気炉28内にカーボンナノチューブ成長部21及びカーボンナノチューブ集合部24を配置する。CNT成長部は、内径20mm、長さ800mmの石英管からなる。カーボンナノチューブ集合部24としては、セラミックスからなるハニカム構造体がCNT成長部と連続する石英管内に配置されている。ハニカム構造体は、約200個/inchの貫通孔を有し、一の貫通孔の断面積は0.8mm2である。
装置4として、基本的に装置3と同様の構成を有する装置を準備した。装置3と異なる点は、カーボンナノチューブ集合部24を配置しないことである。すなわち、該装置においては、CNT成長部21の触媒供給部23と連続する側と反対側の端部に、CNT集合部が配置されていない。装置4は比較例に該当する。
装置5として、基本的に装置3と同様の構成を有する装置を準備した。装置3と異なる点は、ハニカム構造体の位置を、図19のハニカム構造体29aのように、カーボンナノチューブ成長部の下流側に配置するのではなく、ハニカム構造体29bに示されるように、カーボンナノチューブ成長部21内の炭素原料ガスの上流側に配置したことである。装置5は比較例に該当する。
装置6として、基本的に装置3と同様の構成を有する装置を準備した。装置3と異なる点は、ハニカム構造体の位置を、図19のハニカム構造体29aのように、カーボンナノチューブ成長部の下流側に配置するのではなく、ハニカム構造体29cに示されるように、触媒供給部23内に配置したことである。装置6は比較例に該当する。
装置3~装置6の製造装置を用いて、それぞれ試料3~試料6のカーボンナノチューブ集合線を作製した。まず、装置3~装置6のそれぞれにおいて、ガス供給部からCNT成長部内にアルゴンガス濃度が100体積%のアルゴンガスを1000cc/minの流量(流速3.4cm/sec)で50分間供給しつつ、電気炉内の温度を1000℃まで昇温した。次に、アルゴンガスに加えて、メタンガスを50cc/minの流量(流速0.17cm/sec)、及び、二硫化炭素(CS2)ガスを1cc/minの流量(流速0.003cm/sec)で120分間供給した。アルゴンガス、メタンガス、二硫化炭素を含む混合ガス(炭素含有ガス)全体の流速は、3.6cm/secである。
(配向度)
試料3及び試料4のカーボンナノチューブ集合線について、配向度を測定した。配向度の算出方法は、実施の形態5に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
試料4の半値全幅は54°であり、配向度は0.70であった。
試料3のカーボンナノチューブ集合線について、平均長さ及び平均径を測定した。平均長さ及び平均径の測定方法は、実施の形態5に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
試料3のカーボンナノチューブ集合線について、EDX分析を行うことにより、CNT集合線に含まれる触媒由来元素を特定した。
[カーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置の準備]
(装置7)
装置7として、基本的に上記の装置3と同様の構成を有するカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置を準備した。装置3と異なる点は、CNT集合線を一点に収束するためハニカムの出口側にオリフィス板を設置することである。
装置8として、基本的に装置7と同様の構成を有する装置を準備した。装置7と異なる点は、CNT集合線を収束させる機構を備え付けないことである。
装置7及び装置8の製造装置を用いて、それぞれ試料7及び試料8のカーボンナノチューブ集合線バンドルを作製した。まず、装置7及び装置8のそれぞれにおいて、ガス供給部からCNT成長部内にアルゴンガス濃度が100体積%のアルゴンガスを1000cc/minの流量(流速3.4cm/sec)で50分間供給しつつ、電気炉内の温度を1000℃まで昇温した。次に、アルゴンガスに加えて、メタンガスを50cc/minの流量(流速0.17cm/sec)、及び、二硫化炭素(CS2)ガスを1cc/minの流量(流速0.003cm/sec)で120分間供給した。アルゴンガス、メタンガス、二硫化炭素を含む混合ガス(炭素含有ガス)全体の流速は、3.6cm/secである。
(配向度)
試料7及び試料8のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、配向度を測定した。CNT集合線におけるCNTの配向度の算出方法は、実施の形態5に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。CNT集合線バンドルにおけるCNT集合線の配向度の算出方法は、実施の形態8に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
試料7のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、平均長さ及び平均径を測定した。平均長さ及び平均径の測定方法は、実施の形態8に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
試料7のカーボンナノチューブ集合線バンドルに含まれるCNT集合線について、EDX分析を行うことにより、CNT集合線に含まれる触媒由来元素を特定した。
試料7のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、配向領域と不定形領域との体積割合を測定した。配向領域と不定形領域との体積割合の測定方法は、実施の形態8に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
試料7のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、配向領域における近接する複数のカーボンナノチューブ集合線間の距離の最小値を測定した。また、CNT集合線バンドルを構成するCNT集合線の平均径も測定した。配向領域における近接する複数のカーボンナノチューブ集合線間の距離の最小値、及び、CNT集合線の平均径の測定方法は、実施の形態8に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
試料7のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、配向領域における近接するカーボンナノチューブ集合線間の角度の最大値を測定した。配向領域における近接するカーボンナノチューブ集合線間の角度の測定方法は、実施の形態8に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。
検討4では、CNT集合線製造装置において、CNT集合部の第2流路の断面積と、得られたCNT集合線に含まれるCNTの径及び長さとの関係について検討した。
(装置9~装置14)
装置9~装置14は、図14に示したカーボンナノチューブ集合線製造装置と同様の構成を有する。具体的には、電気炉28内にカーボンナノチューブ成長部21及びカーボンナノチューブ集合部24を配置する。CNT成長部は、内径20mm、長さ800mmの石英管からなる。カーボンナノチューブ集合部24としては、セラミックスからなるハニカム構造体がCNT成長部と連続する石英管内に配置されている。装置9~装置14におけるハニカム構造体の各貫通孔(第2流路)の断面積及び長さを表1に示す。例えば、装置9におけるハニカム構造体は、各貫通孔(第2流路)の断面積が1mm2、長さが50mmである。
装置9~装置14の製造装置を用いて、それぞれ試料9~試料14のカーボンナノチューブ集合線を作製した。まず、装置9~装置14のそれぞれにおいて、ガス供給部からCNT成長部内にアルゴンガス濃度が100体積%のアルゴンガスを1000cc/minの流量(流速3.4cm/sec)で50分間供給しつつ、電気炉内の温度を1000℃まで昇温した。次に、アルゴンガスに加えて、メタンガスを50cc/minの流量(流速0.17cm/sec)、及び、二硫化炭素(CS2)ガスを1cc/minの流量(流速0.003cm/sec)で120分間供給した。アルゴンガス、メタンガス、二硫化炭素を含む混合ガス(炭素含有ガス)全体の流速は、3.6cm/secである。
試料9~試料14のCNT集合線において、配向度及びCNTの径を測定した。配向度の算出方法及びCNTの径の測定方法は実施形態の5に記載した方法と同一であるため、その説明は繰り返さない。結果を表1の「CNT」の「配向度」及び「径」の欄に示す。
試料9~試料14から、貫通孔(第2流路)の断面積が小さいほど、CNTの径が小さくなる傾向が確認された。また、試料11及び試料12から、貫通孔の長さが長いほど、CNTの径が小さくなる傾向が確認された。
検討5では、CNT集合線製造工程において、CTN集合部の上流側の炭素含有ガスの温度及びCNT集合部の下流側の炭素含有ガスの温度と、CNTの集合割合との関係について検討した。
CNT集合線製造装置としては、検討4の装置9と同一の構成を有する装置を準備した。
(製造工程9-1)
まず、装置9において、ガス供給部からCNT成長部内にアルゴンガス濃度が100体積%のアルゴンガスを1000cc/minの流量(流速3.4cm/sec)で50分間供給しつつ、電気炉内の温度を1200℃まで昇温した。次に、アルゴンガスに加えて、メタンガスを50cc/minの流量(流速0.17cm/sec)、及び、二硫化炭素(CS2)ガスを1cc/minの流量(流速0.003cm/sec)で120分間供給した。アルゴンガス、メタンガス、二硫化炭素を含む混合ガス(炭素含有ガス)全体の流速は、3.6cm/secである。
製造工程9-2では、CNT集合部の下流側の炭素含有ガスの温度、及び、CNT集合部の貫通孔(第2流路)内の下流側端部における炭素含有ガスの温度を500℃とした以外は、製造工程9-1と同様の方法でCNT集合線を作製した。
製造工程9-3では、CNT集合部の下流側の炭素含有ガスの温度、及び、CNT集合部の貫通孔(第2流路)内の下流側端部における炭素含有ガスの温度を300℃とした以外は、製造工程9-1と同様の方法でCNT集合線を作製した。
製造工程9-1において、CNT集合部の下流側をTEMで観察したところ、CNT集合線とともに、CNT単体も存在していることが確認された。
上記より、CNT集合部の下流側の温度が低いほど、CNT集合線の形成割合が高く、CNT単体の存在割合が低いことが確認された。これは、CNT集合部の下流側の温度が低いほど、CNT同士が集合しやすいためと推察される。
検討6では、CNT集合線バンドル製造工程において、揮発性液体の付着工程及び蒸発工程の有無と、CNT集合線バンドルの密度との関係について検討した。
(装置10-1)
装置10-1として、検討4の装置9と同一の構成を有するCNT集合線製造装置と、その下流側に絞り並びに巻取装置を含むバンドル部とを備える装置を準備した。
装置10-2として、図21に示される構成を有するCNT集合線バンドル製造装置を準備した。具体的には、装置10-2は、装置10-1と同様の構成を有し、更に、絞りの下流側に液体付着装置及び巻取装置をこの順で備える。液体付着装置内には、エタノールが封入されている。
装置10-3として、図22に示される構成を有するCNT集合線バンドル製造装置を準備した。具体的には、装置10-3は、装置10-1と同様の構成を有し、更に、CNT集合線製造装置と絞りとの間に配置される液体付着装置と、絞りの下流側に配置される巻取装置とを備える。液体付着装置内には、揮発性液体としてエタノールが封入されている。
装置10-4として、検討3の装置7と同様の構成を有する装置を準備した。
(製造工程10-1)
製造工程10-1では、製造工程9-1と同様の条件でCNT集合線を製造した後、該CNT集合線を絞りを通過させて束ねて、試料10-1のCNT集合線バンドルを得た。バンドル工程は、巻取装置でCNT集合線バンドルを巻き取ることにより、CNT集合線に張力を加えながら行われた。
製造工程10-2では、製造工程9-1と同様の条件でCNT集合線を製造し、該CNT集合線を絞りを通過させて束ねた後、該CNT集合線に揮発性液体の蒸気を付着させた後、揮発液体を自然乾燥により蒸発させて、試料10-2のCNT集合線バンドルを得た。バンドル工程は、巻取装置でCNT集合線バンドルを巻き取ることにより、CNT集合線に張力を加えながら行われた。
製造工程10-3では、製造工程9-1と同様の条件でCNT集合線を製造し、該CNT集合線に揮発性液体の蒸気を付着させた後、該CNT集合線を絞りを通過させて束ね、揮発液体を自然乾燥により蒸発させて、試料10-3のCNT集合線バンドルを得た。バンドル工程は、巻取装置でCNT集合線バンドルを巻き取ることにより、CNT集合線に張力を加えながら行われた。
製造工程10-4では、検討3の試料7と同様の条件でCNT集合線バンドルを製造した。
<カーボンナノチューブ集合線バンドルの測定>
(配向度)
試料10-1~試料10-4のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、配向度を測定した。CNT集合線におけるCNTの配向度(以下、「CNT配向度」とも記す。)の算出方法は、実施の形態5に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。CNT集合線バンドルにおけるCNT集合線の配向度(以下、「CNT集合線配向度」とも記す。)の算出方法は、実施の形態8に記載した方法と同一の方法であるため、その説明は繰り返さない。結果を表2の「CNT配向度」及び「CNT集合線配向度」欄に示す。
試料10-1~試料10-4のCNT集合線バンドルの密度を測定した。密度は、CNT集合線バンドルの体積と重量に基づき算出し、CNT100%の場合との比較として%で表した。結果を表2の「密度」欄に示す。
試料10-1~試料10-4のカーボンナノチューブ集合線バンドルについて、破断強度を測定した。強度の測定方法は下記の通りである。
試料10-1と試料10-4とを比較すると、バンドル工程においてCNT集合線に張力を加えることにより、CNT集合線バンドルの密度が高くなり、強度が向上することが確認された。
Claims (42)
- 浮遊状態の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記触媒粒子からカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記カーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記カーボンナノチューブを伸長させる伸長工程とを含み、
前記引張力は、前記炭素含有ガスの流速を変化させることにより前記カーボンナノチューブに加えられ、
前記炭素含有ガスの下流側の平均流速は、前記炭素含有ガスの上流側の平均流速よりも大きい、カーボンナノチューブの製造方法。 - 前記伸長工程において、前記カーボンナノチューブは、前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して伸長する、請求項1に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
- 前記炭素含有ガスの下流側の平均流速は、0.051cm/sec以上10.001cm/sec以下であり、
前記炭素含有ガスの上流側の平均流速は、0.050cm/sec以上10.000cm/sec以下である、請求項1または請求項2に記載のカーボンナノチューブの製造方法。 - 浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させることにより、複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向した状態で近付けて集合させてカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程とを含み、
前記引張力は、前記炭素含有ガスの流速を変化させることにより前記複数のカーボンナノチューブに加えられ、
前記炭素含有ガスの下流側の平均流速は、前記炭素含有ガスの上流側の平均流速よりも大きく、
前記成長工程において、前記複数のカーボンナノチューブ及び前記炭素含有ガスは、第1流路を通過し、
前記集合工程において、前記複数のカーボンナノチューブ及び前記炭素含有ガスは、前記第1流路より下流側に配置される1以上の第2流路を通過し、
前記第2流路のそれぞれの断面積は、前記第1流路の断面積よりも小さい、カーボンナノチューブ集合線の製造方法。 - 前記伸長工程において、前記複数のカーボンナノチューブは、前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して伸長する、請求項4に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記伸長工程と前記集合工程とは同時に行われる、請求項4又は請求項5に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記第2流路より下流側の前記炭素含有ガスの温度は、前記第2流路より上流側の前記炭素含有ガスの温度よりも低く、
前記第2流路より上流側の前記炭素含有ガスの温度は800℃以上であり、前記第2流路より下流側の前記炭素含有ガスの温度は600℃以下である、請求項4から請求項6のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。 - 前記第2流路内の前記炭素含有ガスの温度は、下流側が上流側よりも低く、
前記第2流路内の下流側端部における前記炭素含有ガスの温度は、600℃以下である、請求項4から請求項7のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。 - 前記第2流路内の下流側に、前記炭素含有ガスの温度が600℃以下である第1領域が存在し、前記第1領域の前記第2流路の長手方向に沿う長さは1cm以上である、請求項4から請求項8のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記第2流路のそれぞれの断面積は0.01mm2以上4mm2以下である、請求項4から請求項9のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記第1流路の断面積S1と、前記第2流路のそれぞれの断面積S2との比S1/S2は100以上1000000以下である、請求項4から請求項10のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記集合工程において、前記複数のカーボンナノチューブの径が縮小する、請求項6に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記第2流路のそれぞれの長さは10mm以上200mm以下である、請求項4から請求項12のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有する、請求項4から請求項13のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記第2流路のそれぞれの断面積は、上流側よりも下流側の方が小さい、請求項4から請求項14のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。
- 前記炭素含有ガスの下流側の平均流速は、0.051cm/sec以上10.001cm/sec以下であり、
前記炭素含有ガスの上流側の平均流速は、0.050cm/sec以上10.000cm/sec以下である、請求項4から請求項15のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線の製造方法。 - 浮遊状態の複数の触媒粒子に炭素含有ガスを供給することにより、前記複数の触媒粒子のそれぞれから、1又は複数のカーボンナノチューブを成長させることにより、複数のカーボンナノチューブを成長させる成長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブに引張力を加えることにより、前記複数のカーボンナノチューブを伸長させる伸長工程と、
浮遊状態の前記複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させて複数のカーボンナノチューブ集合線を得る集合工程と、
前記複数のカーボンナノチューブ集合線を前記複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル工程とを含み、
前記引張力は、前記炭素含有ガスの流速を変化させることにより前記複数のカーボンナノチューブに加えられ、
前記炭素含有ガスの下流側の平均流速は、前記炭素含有ガスの上流側の平均流速よりも大きく、
前記バンドル工程は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線をその長手方向に沿う方向に巻き取ることにより行われる、カーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。 - 前記バンドル工程は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線に揮発性液体を付着させる付着工程と、前記複数のカーボンナノチューブ集合線に付着させた前記揮発性液体を自然乾燥により蒸発させる蒸発工程とを含み、
前記付着工程は、前記揮発性液体を霧化して蒸気とし、前記蒸気を前記カーボンナノチューブ集合線に噴霧することにより行われる、請求項17に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。 - 前記付着工程は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線をこれらの長手方向に沿う方向に配向して束ねる前に行われる、請求項18に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。
- 前記付着工程は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線をこれらの長手方向に沿う方向に配向して束ねた後に行われる、請求項18に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。
- 前記バンドル工程は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線に張力を加えながら行われる、請求項17から請求項20のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。
- 前記成長工程において、前記複数のカーボンナノチューブ及び前記炭素含有ガスは、第1流路を通過し、
前記集合工程及び前記バンドル工程において、前記複数のカーボンナノチューブ及び前記炭素含有ガスは、前記第1流路よりも下流側に配置される1以上の第2流路を通過し、
前記第2流路のそれぞれの断面積は、前記第1流路の断面積よりも小さい、請求項17から請求項21のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。 - 前記第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有する、請求項22に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。
- 前記第2流路は複数存在し、
前記第2流路間の最近接距離は、上流側よりも下流側の方が短い、請求項22又は請求項23に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。 - 前記第2流路のそれぞれの断面積は、上流側よりも下流側の方が小さく、
前記第2流路の前記上流側の断面積は0.1mm2以上100mm2以下であり、
前記第2流路の前記下流側の断面積は0.005mm2以上10mm2以下である、請求項22から請求項24のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドルの製造方法。 - 管状のカーボンナノチューブ成長部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の一方の端部側から前記カーボンナノチューブ成長部内に炭素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部内に触媒粒子を供給する触媒供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の他方の端部側に配置され、前記カーボンナノチューブ成長部で得られたカーボンナノチューブを伸長するカーボンナノチューブ伸長部とを備え、
前記カーボンナノチューブ成長部における前記炭素含有ガスの通過する中空部の断面積よりも、前記カーボンナノチューブ伸長部における前記炭素含有ガスの通過する中空部の断面積は小さく、
前記炭素含有ガスの下流側の平均流速は、前記炭素含有ガスの上流側の平均流速よりも大きい、カーボンナノチューブ製造装置。 - 前記カーボンナノチューブ伸長部の前記中空部の断面積は、前記カーボンナノチューブ成長部の前記中空部の断面積の0.0001%以上35%以下である、請求項26に記載のカーボンナノチューブ製造装置。
- 管状のカーボンナノチューブ成長部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の一方の端部から前記カーボンナノチューブ成長部に炭素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部内に触媒粒子を供給する触媒供給部と、
前記カーボンナノチューブ成長部の他方の端部側に配置され、前記カーボンナノチューブ成長部で得られた複数のカーボンナノチューブを前記炭素含有ガスの流れに沿う方向に配向して集合させる、カーボンナノチューブ集合部と、を備え、
前記カーボンナノチューブ成長部は、その内部に第1流路を有し、
前記カーボンナノチューブ集合部は、その内部に1以上の第2流路を有し、
前記第2流路のそれぞれの断面積は、前記第1流路の断面積よりも小さく、
前記カーボンナノチューブ集合部内での前記炭素含有ガスの平均流速は、前記カーボンナノチューブ成長部における前記炭素含有ガスの平均流速よりも大きい、カーボンナノチューブ集合線製造装置。 - 前記カーボンナノチューブ集合部において、前記カーボンナノチューブ成長部で得られたカーボンナノチューブを伸長する、請求項28に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 前記カーボンナノチューブ集合部はハニカム構造を有する、請求項28または請求項29に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 前記ハニカム構造は、複数の貫通孔から構成される複数の前記第2流路を有するハニカム構造体であり、
前記第2流路のそれぞれの断面積は0.01mm2以上4mm2以下である、請求項30に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。 - 前記第1流路の断面積S1と、前記第2流路のそれぞれの断面積S2との比S1/S2は100以上1000000以下である、請求項28から請求項31のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 前記カーボンナノチューブ集合部において、前記複数のカーボンナノチューブの径が縮小する、請求項29に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 前記カーボンナノチューブ集合部の第2流路のそれぞれの長さは10mm以上200mm以下である、請求項28から請求項33のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 前記第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有する、請求項28から請求項34のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 前記第2流路のそれぞれの断面積は、上流側よりも下流側の方が小さい、請求項28から請求項35のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置。
- 請求項28から請求項36のいずれか1項に記載のカーボンナノチューブ集合線製造装置と、
前記カーボンナノチューブ集合線製造装置により得られた複数のカーボンナノチューブ集合線を前記複数のカーボンナノチューブ集合線の長手方向に沿う方向に配向して束ねてカーボンナノチューブ集合線バンドルを得るバンドル部とを備える、カーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置。 - 前記バンドル部は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線に揮発性液体を付着させる液体付着装置を含む、請求項37に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置。
- 前記バンドル部は、前記複数のカーボンナノチューブ集合線に張力を加えながら、前記複数のカーボンナノチューブ集合線をその長手方向に沿う方向に配向して束ねて巻き取る巻取装置を含む、請求項37又は請求項38に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置。
- 前記カーボンナノチューブ集合部と、前記バンドル部とは、複数の第2流路を有する同一のハニカム構造体からなり、
前記第2流路のそれぞれは、貫通孔の外周にらせん状の溝を備えた形状を有する、請求項37に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置。 - 前記第2流路間の最近接距離は、上流側よりも下流側の方が短い、請求項40に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置。
- 前記第2流路のそれぞれの断面積は、上流側よりも下流側の方が小さい、請求項40又は請求項41に記載のカーボンナノチューブ集合線バンドル製造装置。
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