JP7437499B2 - 基板の洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
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Description
Claims (19)
- 気液噴霧デバイスを含む気液噴霧洗浄装置によって気液噴霧を用いて基板の表面を洗浄する工程と、
メガソニックデバイスを含むメガソニック洗浄装置によってTEBOメガソニックを用いて前記基板の表面を洗浄する工程と、
前記基板を乾燥させる工程と、
第1洗浄凹部を介して前記メガソニックデバイスを洗浄する工程と、
第2洗浄凹部を介して前記気液噴霧デバイスを洗浄する工程と、を備えた、パターン構造を有する基板の洗浄方法。 - 気液噴霧を用いて基板の表面を洗浄する工程、及び、TEBOメガソニックを用いて前記基板の表面を洗浄する工程を、交互に複数回実行する請求項1に記載の基板の洗浄方法。
- TEBOメガソニックを用いて前記基板の表面を洗浄する工程の後に、気液噴霧を再度用いて前記基板の表面を洗浄する請求項1に記載の基板の洗浄方法。
- 気液噴霧を用いて基板の表面を洗浄する工程によって、前記基板上の0.5μmよりも大きな大サイズ粒子を除去すること、粒子と前記基板の表面との間の付着力を緩和すること、及び、クラスターポリマー粒子を分解することが可能である請求項1に記載の基板の洗浄方法。
- TEBOメガソニックを用いて前記基板の表面を洗浄する工程によって、前工程で完全には除去できなかった前記基板の表面の異物及び0.5μm以下の小サイズ粒子を除去することが可能である請求項1に記載の基板の洗浄方法。
- 前記基板を乾燥させる工程の前に、脱イオン水又は二酸化炭素脱イオン水を用いて、前記基板の表面をすすぐ工程をさらに備えた請求項1に記載の基板の洗浄方法。
- メガソニックデバイスを含むメガソニック洗浄装置によってTEBOメガソニックを用いて基板の表面を洗浄する工程と、
気液噴霧デバイスを含む気液噴霧洗浄装置によって気液噴霧を用いて前記基板の表面を洗浄する工程と、
前記基板を乾燥させる工程と、
第1洗浄凹部を介して前記メガソニックデバイスを洗浄する工程と、
第2洗浄凹部を介して前記気液噴霧デバイスを洗浄する工程と、を備えた、パターン構造を有する基板の洗浄方法。 - TEBOメガソニックを用いて前記基板の表面を洗浄する工程、及び、気液噴霧を用いて基板の表面を洗浄する工程を、交互に複数回実行する請求項7に記載の基板の洗浄方法。
- 気液噴霧を用いて基板の表面を洗浄する工程の後に、TEBOメガソニックを再度用いて前記基板の表面を洗浄する請求項7に記載の基板の洗浄方法。
- TEBOメガソニックを用いて前記基板の表面を洗浄する工程によって、前記パターン構造の内部から0.5μm以下の小サイズ粒子を解放して、小サイズ粒子を除去することが可能である請求項7に記載の基板の洗浄方法。
- 気液噴霧を用いて前記基板の表面を洗浄する工程によって、前記パターン構造から分離した、0.5μmよりも大きな大サイズ粒子及び0.5μm以下の小サイズ粒子を除去することが可能である請求項7に記載の基板の洗浄方法。
- 前記基板を乾燥させる工程の前に、脱イオン水又は二酸化炭素脱イオン水を用いて、基板の表面をすすぐ工程をさらに備えた請求項7に記載の基板の洗浄方法。
- パターン構造を有する基板の洗浄装置であって、
基板を保持するように構成された基板保持装置と、
メガソニックデバイスを含み、TEBOメガソニック洗浄を提供するように構成されたメガソニック洗浄装置と、
気液噴霧デバイスを含み、気液噴霧洗浄を提供できるように構成された気液噴霧洗浄装置と、
前記メガソニックデバイスを洗浄するように構成された第1洗浄凹部と、
前記気液噴霧デバイスを洗浄するように構成された第2洗浄凹部と、を備えた基板の洗浄装置。 - 前記メガソニック洗浄装置は、
シールドカバーと、
前記シールドカバーの側面に接続された接続アームと、
前記接続アームに接続された接続スピンドルと、
前記接続スピンドルを回転及び昇降駆動するために前記接続スピンドルに接続された駆動機構と、
前記シールドカバーの別の側面に接続されたノズル装置と、をさらに含み、
前記メガソニックデバイスが前記シールドカバーの底に固定された、請求項13に記載の基板の洗浄装置。 - 前記気液噴霧洗浄装置が、
固定部材をさらに含み、
前記気液噴霧デバイスが、液体入口パイプ、気体入口パイプ及びジェットスプレーノズルを有しており、前記固定部材を用いて前記ノズル装置に固定された、請求項14に記載の基板の洗浄装置。 - 前記気液噴霧洗浄装置が、
支持アームと、
前記支持アームの端部に接続された支持スピンドルと、
前記支持スピンドルを回転及び昇降駆動するために、前記支持スピンドルに接続されたアクチュエータと、をさらに含み、
前記気液噴霧デバイスが、液体入口パイプ、気体入口パイプ及びジェットスプレーノズルを有しており、前記支持アームの他方の端部に固定された、請求項14に記載の基板の洗浄装置。 - 処理室をさらに備えており、前記基板保持装置、前記メガソニック洗浄装置、及び、前記気液噴霧洗浄装置が、前記処理室内に位置している請求項13に記載の基板の洗浄装置。
- 前記メガソニック洗浄装置は、0.5μm以下の小サイズ粒子を除去することが可能である請求項13に記載の基板の洗浄装置。
- 前記気液噴霧洗浄装置は、0.5μmを超える大サイズ粒子を除去可能である請求項13に記載の基板の洗浄装置。
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