JP4745443B2 - メガソニック洗浄モジュール - Google Patents
メガソニック洗浄モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP4745443B2 JP4745443B2 JP2009529101A JP2009529101A JP4745443B2 JP 4745443 B2 JP4745443 B2 JP 4745443B2 JP 2009529101 A JP2009529101 A JP 2009529101A JP 2009529101 A JP2009529101 A JP 2009529101A JP 4745443 B2 JP4745443 B2 JP 4745443B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibrating rod
- ultrasonic waves
- semiconductor wafer
- cleaning module
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Description
半導体製造過程は、半導体ウェハーの表面を形成するために様々な段階の工程を必要とし、各段階で所定の工程を遂行する半導体ウェハー及び半導体製造装置には各種の汚染物、すなわち、異物が生じて残存するため、一定の時間間隔で半導体ウェハー及び半導体製造装置を洗浄して工程を進行させなければならない。
前述した洗浄技術は、半導体の製造工程中に発生する様々な異物を物理的方法または化学的方法を駆使して除去するものである。
この化学的方法では、付着した粒子を純水または化学洗浄液で除去し、有機物を溶剤で溶解したり酸化性酸で除去し、または、酸素プラズマ中で炭化して除去し、場合によっては、半導体ウェハーの表面を一定量エッチングして新しい清浄表面を露出させることもある。
一般的に、物理的方法と化学的方法とを組み合わせることにより、効率的な洗浄が行われている。
超音波による物理的現象は、超音波のキャビテーション現象(cavitation phenomenon)によって行われ、このキャビテーション現象とは、超音波エネルギーが液中に伝播される(transmit)時、超音波の圧力により液中に微細な気泡が生成されて消滅する現象であり、かなり大きな圧力(数十気圧〜数百気圧)と高温(数百度〜数千度)を伴う現象である。
この衝撃波により、洗浄液中の被洗浄物の内部の深く見えない所まで短い時間内に洗浄が行われる。
一般的な超音波洗浄システムで、被洗浄物は、超音波バイブレータにより活性化された振動板から超音波が照射される洗浄液により満たされた洗浄槽に浸漬されている。
超音波は、振動エネルギーを被洗浄物の粒子(particle)に対して照射し、粒子及び他の異物を被洗浄物から効果的に除去するようになっている。
これにより、このような半導体ウェハー上のパターンでは、極めて微細な粒子(particle)に起因して半導体素子の不良が発生することがあるため、洗浄工程の重要性がより更に増してきている。
また、本発明の目的及び効果は、特許請求の範囲に記載された手段及びこれら手段の組合せによって実現する。
ここで、本明細書及び特許請求の範囲で使用される用語や単語は、一般的または辞書的な意味に限定して解釈されるものではなく、発明者は自らの発明を最適な方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に立脚して、本発明の技術的思想に合致する意味及び概念で解釈されるものである。
半導体ウェハー60の一側面との離間距離は、第2振動ロッド30の一端側が他端側より大きく設定されている。
ここで、図3に示す第1実施例とは異なり、第2振動ロッド30の一端と他端とが長手方向に同一の中心線上に位置していることにより、被洗浄物としての半導体ウェハー60の一側面との離間距離は、第2振動ロッド30の一端側が他端側より大きく設定されている。
これにより、被洗浄物としての半導体ウェハー60の一側面との離間距離は、図5に示す第2実施例と比較して、第2振動ロッド30の一端側が他端側より更に大きく設定されている。
第2振動ロッド30は、その一端と他端とが長手方向に同一の中心線上に配置されている。
第2振動ロッド30の一端と他端の上面が同一線上に一致するように構成されることにより、半導体ウェハー60の一側面との離間距離は、第2振動ロッド30の一端側が他端側より更に大きく設定されている。
12 ・・・ 圧電素子
13 ・・・ 電源線
20 ・・・ 第1振動ロッド
21 ・・・ 超音波(縦波)
30 ・・・ 第2振動ロッド
31 ・・・ 超音波(横波)
40 ・・・ 超音波
50 ・・・ 洗浄液噴出器
60 ・・・ 半導体ウェハー
Claims (7)
- 超音波を発生するバイブレータと、該バイブレータから発生した超音波を集中させるためにその径を徐々に縮径されるとともに被洗浄物としての半導体ウェハーの一側面との間隙を維持した状態で半導体ウェハーの一側面に対して垂直に配置されて前記超音波を縦方向に伝播させる第1振動ロッドと、該第1振動ロッドの一端に垂直に組み合わされて前記半導体ウェハーの一側面に塗布された洗浄液に縦方向に振動する超音波を横方向に伝播させて異物を遊離させるとともに前記第1振動ロッドに結合された一端の径を他端よりも相対的に小さく設定して前記縦方向の超音波による洗浄液への影響を回避する第2振動ロッドとを備えていることを特徴とするメガソニック洗浄モジュール。
- 前記第1振動ロッドと第2振動ロッドとが、一体に成形されていることを特徴とする請求項1に記載のメガソニック洗浄モジュール。
- 前記第1振動ロッドと第2振動ロッドとが、相互に結合されていることを特徴とする請求項1に記載のメガソニック洗浄モジュール。
- 前記バイブレータは、電源供給ユニットから電源の印加を受ける圧電素子を内部に有して該圧電素子の振動により超音波を発生させるように設計されていることを特徴とする請求項1に記載のメガソニック洗浄モジュール。
- 前記第2振動ロッドの他端が、四角形、円形、多角形のいずれかの断面形状を呈していることを特徴とする請求項1に記載のメガソニック洗浄モジュール。
- 前記第1振動ロッドと第2振動ロッドとが、石英、サファイア、ダイアモンド、ガラス質カーボンを含むガラス質固体物質のいずれか1つからなっていることを特徴とする請求項1に記載のメガソニック洗浄モジュール。
- 前記第1振動ロッドと第2振動ロッドとが、ステンレス、チタニウム、アルミニウムを含む金属物質またはテフロンのような耐化学性材料でコーティングされた金属物質のいずれか1つからなっていることを特徴とする請求項1に記載のメガソニック洗浄モジュール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060102510A KR100800174B1 (ko) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 메가소닉 세정모듈 |
KR10-2006-0102510 | 2006-10-20 | ||
PCT/KR2007/003876 WO2008048001A1 (en) | 2006-10-20 | 2007-08-13 | Megasonic cleaning module |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010504641A JP2010504641A (ja) | 2010-02-12 |
JP4745443B2 true JP4745443B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=39314186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009529101A Expired - Fee Related JP4745443B2 (ja) | 2006-10-20 | 2007-08-13 | メガソニック洗浄モジュール |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8011378B2 (ja) |
JP (1) | JP4745443B2 (ja) |
KR (1) | KR100800174B1 (ja) |
CN (1) | CN101516534B (ja) |
WO (1) | WO2008048001A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5648047B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2015-01-07 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 半導体ウェハの洗浄方法及び洗浄装置 |
CN101927242B (zh) * | 2009-06-25 | 2014-08-20 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 半导体硅片的清洗方法和装置 |
JP5758111B2 (ja) * | 2010-12-02 | 2015-08-05 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
DE102011116941A1 (de) | 2011-10-26 | 2013-05-02 | Kautex Textron Gmbh & Co. Kg | Entlüftungsventil |
US10343193B2 (en) * | 2014-02-24 | 2019-07-09 | The Boeing Company | System and method for surface cleaning |
US10688536B2 (en) * | 2014-02-24 | 2020-06-23 | The Boeing Company | System and method for surface cleaning |
CN105983552B (zh) * | 2015-02-15 | 2019-12-24 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 一种防掉落的半导体清洗装置 |
CN110624893B (zh) * | 2019-09-25 | 2022-06-14 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 一种兆声波组合气体喷雾清洗装置及其应用 |
CN111063609A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-24 | 武汉百臻半导体科技有限公司 | 一种半导体芯片清洗方法 |
CN117019761B (zh) * | 2023-10-10 | 2024-01-23 | 常州捷佳创精密机械有限公司 | 超声波/兆声波清洗槽 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005522041A (ja) * | 2002-03-29 | 2005-07-21 | ラム リサーチ コーポレーション | メガソニックトランスデューサ共振器を使用するその場局所加熱 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2921372A (en) * | 1955-06-24 | 1960-01-19 | Jr Albert G Bodine | Torsional vibration sonic drill |
US3437952A (en) * | 1964-04-06 | 1969-04-08 | Noboru Tsuya | Optical maser output controlling apparatus |
DE2065681A1 (de) * | 1970-04-25 | 1975-03-20 | Eduard Kloz | Piezoelektrischer wandler |
SU1018818A1 (ru) * | 1982-02-08 | 1983-05-23 | Специальное конструкторско-технологическое бюро при Ухтинском заводе "Прогресс" | Устройство дл ультразвукового лужени изделий |
JPS61148821A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-07 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
USD369307S (en) * | 1985-01-17 | 1996-04-30 | Advanced Technology Laboratories, Inc. | Intraoperative ultrasound probe |
US5047043A (en) * | 1986-03-11 | 1991-09-10 | Olympus Optical Co., Ltd. | Resecting device for living organism tissue utilizing ultrasonic vibrations |
JP2669655B2 (ja) * | 1988-07-21 | 1997-10-29 | 株式会社東芝 | 超音波洗浄装置 |
EP0482195B1 (en) * | 1990-05-17 | 1996-01-10 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Surgical instrument |
FR2682126B1 (fr) * | 1991-10-07 | 1994-12-23 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede et dispositif de decapage des rives d'une tole immergee dans une solution reactive, notamment de toles laminees a chaud. |
JP3278590B2 (ja) * | 1996-08-23 | 2002-04-30 | 株式会社東芝 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
US6039059A (en) * | 1996-09-30 | 2000-03-21 | Verteq, Inc. | Wafer cleaning system |
ES2116930B1 (es) * | 1996-10-04 | 1999-04-01 | Consejo Superior Investigacion | Procedimiento y dispositivo para lavado ultrasonico de textiles en continuo. |
KR100303885B1 (ko) | 1997-12-26 | 2001-11-22 | 사토 게니치로 | 초음파 세정기 |
FR2773468B1 (fr) * | 1998-01-13 | 2000-04-21 | Satelec Sa Societe Pour La Con | Instrument dentaire a ultrasons destine au traitement des poches parodontales |
JPH11345796A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-14 | Oiwa Kiki Kogyosho:Kk | 洗浄装置 |
US6946399B1 (en) * | 1998-10-05 | 2005-09-20 | Lorimer D Arcy Harold | Cleaning system method and apparatus for the manufacture of integrated cicuits |
KR100346492B1 (ko) | 1999-05-03 | 2002-07-26 | 주식회사 일산썬텍 | 초음파 진동자 |
US7004182B2 (en) * | 2001-10-18 | 2006-02-28 | The Procter & Gamble Company | Enhanced ultrasonic cleaning devices |
KR100459710B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2004-12-04 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 세정 장비 |
JP3957605B2 (ja) * | 2002-10-07 | 2007-08-15 | シャープ株式会社 | 超音波洗浄装置 |
US7040330B2 (en) * | 2003-02-20 | 2006-05-09 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for megasonic cleaning of patterned substrates |
JP2005013960A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
KR100598112B1 (ko) * | 2004-12-20 | 2006-07-07 | 삼성전자주식회사 | 이중 세정 프로브를 갖는 초음파 세정 장치 및 세정 방법 |
-
2006
- 2006-10-20 KR KR1020060102510A patent/KR100800174B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-08-13 CN CN2007800353815A patent/CN101516534B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-13 US US12/440,830 patent/US8011378B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-13 WO PCT/KR2007/003876 patent/WO2008048001A1/en active Application Filing
- 2007-08-13 JP JP2009529101A patent/JP4745443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005522041A (ja) * | 2002-03-29 | 2005-07-21 | ラム リサーチ コーポレーション | メガソニックトランスデューサ共振器を使用するその場局所加熱 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8011378B2 (en) | 2011-09-06 |
CN101516534B (zh) | 2010-12-01 |
WO2008048001A1 (en) | 2008-04-24 |
CN101516534A (zh) | 2009-08-26 |
KR100800174B1 (ko) | 2008-02-01 |
JP2010504641A (ja) | 2010-02-12 |
US20090277483A1 (en) | 2009-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4745443B2 (ja) | メガソニック洗浄モジュール | |
US8607806B2 (en) | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts | |
JP4874395B2 (ja) | 超音波を利用した洗浄装置 | |
KR100979568B1 (ko) | 초음파 정밀세정장치 | |
JP2011251280A (ja) | メガソニック洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP2009125645A (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 | |
US7089947B2 (en) | Apparatus and method for cleaning a semiconductor wafer | |
KR100598112B1 (ko) | 이중 세정 프로브를 갖는 초음파 세정 장치 및 세정 방법 | |
JP5517227B2 (ja) | 超音波精密洗浄装置 | |
KR100951922B1 (ko) | 다중 주파수를 이용한 매엽식 초음파 세정 장치 | |
KR100576823B1 (ko) | 기판세정장치 | |
JP7437499B2 (ja) | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP4023103B2 (ja) | 超音波流体処理装置 | |
KR100817872B1 (ko) | 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템 | |
JP2004033914A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP5685881B2 (ja) | 超音波洗浄方法 | |
KR100827618B1 (ko) | 세정용 초음파 장치 및 이를 이용한 초음파 세정시스템 | |
KR101473212B1 (ko) | 초음파 세정장치 플랫폼 | |
KR100748480B1 (ko) | 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템 | |
KR101002706B1 (ko) | 초음파 세정장치 | |
JP2009188035A (ja) | 洗浄装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110426 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110511 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |