JP7437362B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置、基板処理方法及びプログラム - Google Patents
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- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
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Description
(a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して1分子中に少なくとも炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
を有する技術が提供される。
以下、本開示の一態様について、主に、図1~図5を参照しつつ説明する。
図1に示すように、処理炉202は温度調整器(加熱部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、ウエハ200上に所定元素、O、C及びNを含む膜を形成するための処理シーケンスの例について、主に、図5を用いて説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
(a)ウエハ200に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)ウエハ200に対して1分子中に少なくともC及びNを含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)ウエハ200に対してプラズマにより活性化されたNを含有するガスを供給する工程と、
(d)ウエハ200に対してOを含有するガスを供給する工程と、
(a)から(d)を非同時に行うサイクルを2回以上行うことにより、ウエハ200上に所定元素、O、C、及びNを少なくとも含有する膜を形成する例を示している。
ここで、N含有ガス*は、プラズマにより活性化されたN含有ガス供給を示している。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構によりシャッタが移動させられて、反応管203の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220を介して反応管203の下端をシールした状態となる。
その後、処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。また、処理室201内のウエハ200が所望の処理温度となるように、ヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。また、回転機構267によるウエハ200の回転を開始する。処理室201内の排気、ウエハ200の加熱および回転は、いずれも、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、以下に示すステップS1~ステップS8を行う。
バルブ243aを開き、ガス供給管232a内へ第1ガスを流す。第1ガスは、MFC241aにより流量調整され、ノズル410を介して処理室201内へ供給され、排気口230より排気される。このとき、ウエハ200に対して第1ガスが供給される。このとき、バルブ243f~243hを開き、ノズル410~430のそれぞれを介して処理室201内へ不活性ガスを供給するようにしてもよい。
処理温度:450~550℃
処理圧力:1~1200Pa、好ましくは20~200Pa
第1ガス供給流量:0.1~1.5slm、好ましくは0.1~0.5slm
第1ガス供給時間:10~60秒、好ましくは20~40秒
不活性ガス供給流量(ガス供給管毎):0~10slm、好ましくは3~7slm
が例示される。
ウエハ200の表面に第1層300が形成された後、バルブ243aを閉じ、処理室201内への第1ガスの供給を停止する。そして、処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する第1ガスや第1層300が形成される際に発生したガス状物質等を処理室201内から排除する。このとき、バルブ243f~243hを開き、ノズル410~430を介して処理室201内へ不活性ガスを供給するようにしてもよい。ノズル410~430より供給される不活性ガスは、パージガスとして作用し、これにより、処理室201内がパージされる(パージ)。
処理温度:450~550℃
処理圧力:1~500Pa、好ましくは20~100Pa
不活性ガス供給流量(ガス供給管毎):0~10slm、好ましくは1~5slm
不活性ガス供給時間:5~60秒、好ましくは20~40秒
が例示される。
ステップS3では、ウエハ200に対して第2ガスを供給する。
処理温度:450~550℃
処理圧力:1~1200Pa、好ましくは600~1000Pa
第2ガス供給流量:0.1~1.5slm、好ましくは0.2~0.8slm
第2ガス供給時間:10~120秒、好ましくは10~60秒
が例示される。他の処理条件は、ステップS1における処理条件と同様とすることができる。
ウエハ200表面に第2層400が形成された後、バルブ243dを閉じ、処理室201内への第2ガスの供給を停止する。そして、上述のステップS2におけるパージと同様の処理手順、処理条件により、処理室201内に残留する第2ガスや第2層400が形成される際に発生したガス状物質等を処理室201内から排除する(パージ)。
しかし、成膜工程を450~550℃の低温で行うと、第2層400におけるNの添加量(含有量、濃度)が低下してしまう場合がある。膜中のNの含有量が低下すると、ドライエッチング耐性の低下(悪化)等の膜質の低下にもつながる。
そこで、本開示においては、ステップS4の後に次のステップS5、ステップS6を行って、膜中のNの含有量(濃度)を向上させることとしている。
ステップS4が終了した後、ステップS5を行う。ステップS5では、ウエハ200に対してプラズマにより活性化されたNを含有するN含有ガスを供給する。
処理温度:450~550℃
処理圧力:40~60Pa
N含有ガス供給流量:0.1~10slm、好ましくは0.5~3slm
プラズマ化されたN含有ガスの供給時間:15~30秒、好ましくは20秒
高周波電力:50~400W、好ましくは100~300W
が例示される。他の処理条件は、ステップS1における処理条件と同様とすることができる。
ウエハ200表面に第3層500が形成された後、バルブ243b,243cを閉じ、処理室201内へのN含有ガスの供給を停止する。そして、上述のステップS2におけるパージと同様の処理手順、処理条件により、処理室201内に残留するプラズマにより活性化されたN含有ガスや第3層500が形成される際に発生したガス状物質等を処理室201内から排除する(パージ)。
ステップS7では、ウエハ200に対してOを含有するO含有ガスを供給する。
処理温度:450~550℃
処理圧力:1~1200Pa、好ましくは600~1000Pa
O含有ガス供給流量:0.1~10slm、好ましくは0.5~5slm
O含有ガス供給時間:1~30秒、好ましくは1~15秒、より好ましくは1~6秒
が例示される。他の処理条件は、ステップS1における処理条件と同様とすることができる。
ウエハ200表面に第4層600が形成された後、バルブ243eを閉じ、処理室201内へのO含有ガスの供給を停止する。そして、上述のステップS2におけるパージと同様の処理手順、処理条件により、処理室201内に残留するO含有ガスや第4層600が形成される際に発生したガス状物質等を処理室201内から排除する(パージ)。
上述の、ステップS1~ステップS8を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを2回以上(第1回数)行うことにより、または、ステップS1~ステップS8をこの順番に非同時に行うサイクルを1回以上(第1回数)行うことにより、ウエハ200の表面上に少なくとも所定元素、O、C及びNを含有する第4層600である膜600が形成される。例えば、膜600としてSiOCN膜が形成される。
ウエハ200の表面に膜600が形成された後、ノズル410~430のそれぞれからパージガスとしての不活性ガスを処理室201内へ供給し、排気口230より排気する。これにより、処理室201内がパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物等が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、反応管203の下端が開口される。そして、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態で反応管203の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
次に、上述した態様における成膜工程の変形例について詳述する。以下の変形例では、上述した態様と異なる点のみ詳述する。
本変形例では、上述した態様における成膜工程とステップS3のみ異なる。本変形例では、図6に示すように、ステップS5に加えて、ステップS3において、ウエハ200に対してプラズマにより活性化された第2ガスを供給する。具体的には、ステップS3において、第2ガスがノズル420から供給され、ステップS5において、N含有ガスがノズル430から供給されるようにする。つまり、ステップS3では、第1のプラズマ発生構造429を用いて第2ガスをプラズマ化し、ステップS5では、第2のプラズマ発生構造439を用いてN含有ガスをプラズマ化する。そして、上述したステップS1、S2を行った後に、以下に示すステップS3を行い、その後、上述したステップS4~S8を行う。
ここで、第2ガス*は、プラズマにより活性化された第2ガス供給を示している。
第2ガスは、ノズル420を介してバッファ室423内に供給される。このとき、高周波電力の印加により、バッファ室423内に供給された第2ガスはプラズマ励起され、活性種としてガス供給孔425から処理室201内に供給されつつ排気口230より排気される。このとき、ウエハ200に対してプラズマにより活性化された第2ガスが供給される。このとき、バルブ243f,243hを開き、ノズル410,430を介して処理室201内へ不活性ガスを供給するようにしてもよい。
処理温度:450~550℃
処理圧力:930Pa
第2ガスの供給流量:0.1~0.5slm
プラズマ化された第2ガスの供給時間:12秒
高周波電力:50~400W、好ましくは100~300W
が例示される。他の処理条件は、ステップS1における処理条件と同様とすることができる。
本変形例では、上述した態様における成膜工程のステップS5とステップS6を行わない。そして、図7に示すように、ステップS3において、ウエハ200に対してプラズマにより活性化された第2ガスを供給する。具体的には、ステップS3において、第2ガスがノズル420,430から供給されるようにする。つまり、ステップS3では、第1のプラズマ発生構造429と第2のプラズマ発生構造439を用いる。そして、上述したステップS1、S2を行った後に、以下に示すステップS3を行い、上述したステップS4、S7、S8を行う。
第2ガスは、ノズル420,430を介してバッファ室423,433内に供給される。このとき、高周波電力の印加により、バッファ室423,433内にそれぞれ供給された第2ガスはプラズマ励起され、活性種としてガス供給孔425,435から処理室201内に供給されつつ排気口230より排気される。このとき、ウエハ200に対してプラズマにより活性化された第2ガスが供給される。このとき、バルブ243fを開き、ノズル410を介して処理室201内へ不活性ガスを供給するようにしてもよい。
本変形例では、上述した態様における成膜工程のステップS5をステップS3と同時に行う。すなわち、図8に示すように、ステップS3において、ウエハ200に対して第2ガスを供給するのと同時にプラズマにより活性化されたN含有ガスを供給する。つまり、上述したステップS1、S2を行った後に、ステップS3と同時にステップS5を行って、残留ガス除去を行った後、上述したステップS7、S8を行う。
図9(A)~図9(E)は、上述の成膜工程により形成される膜を用いた積層例を示す。
(第1ガス→第2ガス)×n(nは1以上の整数)
膜800は、例えば、以下のような工程で成膜される。
(第1ガス→第2ガス→O含有ガス)×n(nは1以上の整数)
以下に、本開示の好ましい態様について付記する。
本開示の一態様によれば、
(a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して1分子中に少なくとも炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法、または基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に少なくとも所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、をさらに有し、
(e)と(f)を非同時に行うサイクルを1回以上の第2回数を行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する。
付記2に記載の方法であって、
前記第1回数と前記第2回数は異なる。
付記2又は3に記載の方法であって、前記第1回数と前記第2回数を調整することにより、前記所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜に含まれる炭素と窒素の比率を変更する。
付記2に記載の方法であって、
(g)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に少なくとも所定元素、炭素、酸素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、をさらに有し、
(e)、(f)及び(g)を非同時に行うサイクルを1回以上の第3回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する。
付記5に記載の方法であって、
前記第1回数と前記第3回数は異なる。
付記6に記載の方法であって、前記第1回数と前記第3回数を調整することにより、前記所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜に含まれる炭素と窒素の比率を変更する。
付記1に記載の方法であって、
(e)では、(a)から(d)を行うサイクルを少なくとも2回行う際に、各サイクルで形成される所定元素、酸素、炭素、及び窒素を含有する膜に含まれる炭素濃度がそれぞれ異なるように行う。
付記1に記載の方法であって、
(e)では、(a)から(d)を行うサイクルを少なくとも2回行う際に、各サイクルで形成される所定元素、酸素、炭素、及び窒素を含有する膜に含まれる窒素濃度がそれぞれ異なるように行う。
付記2に記載の方法であって、(f)の後に(e)を行う。
付記10に記載の方法であって、(e)では、(a)から(d)を、少なくとも2回以上行う。
付記5に記載の方法であって、(f)の後に(g)を行う。
付記12に記載の方法であって、(g)の後に(f)を行う。
付記2に記載の方法であって、(e)では、(a)から(d)を、複数回行い、(f)を、複数回の(a)から(d)の間に行う。
本開示の他の態様によれば、
基板を処理する処理室と、
前記処理室内の前記基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する第1の供給系と、
前記処理室内の前記基板に対して1分子中に少なくとも炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する第2の供給系と、
前記処理室内の前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する第3の供給系と、
前記処理室内の前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する第4の供給系と、
前記処理室内において、
(a)基板に対して前記第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成することを行わせるように、前記第1乃至第4の供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本開示のさらに他の態様によれば、
基板処理装置の処理室内において、
(a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する手順と、
(b)前記基板に対して1分子中に少なくとも炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する手順と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する手順と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラムが提供される。
本開示のさらに他の態様によれば、
(a)基板上にプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給して、少なくとも所定元素、炭素、酸素及び窒素を含有する膜を形成する工程と、
(b)前記基板上にプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、少なくとも所定元素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(a)及び(b)を行うサイクルを少なくとも1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する半導体装置の製造方法が提供される。
付記17に記載の方法であって、(b)において、前記少なくとも所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜は、実質的に酸素を含まない膜である。
付記17に記載の方法であって、(a)の後に(b)を実施し、その後、複数回(a)を実施する。
付記17に記載の方法であって、(a)、(b)、(a)を、この順で複数回実施する。
付記19または20に記載の方法であって、各(a)において形成される膜のうち少なくとも2回の工程で形成される各膜の炭素の濃度は、異なる。
付記19または20に記載の方法であって、各(a)において形成される膜のうち少なくとも2回の工程で形成される各膜の窒素の濃度は、異なる。
付記17に記載の方法であって、
(c)前記基板上にプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、少なくとも所定元素、炭素、酸素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、をさらに有し、
(a)から(c)を行うサイクルを少なくとも1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する。
201 処理室
202 処理炉
203 反応管
121 コントローラ(制御部)
Claims (19)
- (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(f)を行った後に(e)を行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する
基板処理方法。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の、前記第1回数と異なる第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する
基板処理方法。 - 前記第1回数と前記第2回数を調整することにより、前記所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜に含まれる炭素と窒素の比率を変更する、請求項2に記載の基板処理方法。
- (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(g)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素、酸素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(e)、(f)及び(g)を非同時に行うサイクルを1回以上の第3回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する、
基板処理方法。 - (e)では、(a)から(d)を行う各サイクルを、各サイクルで形成される所定元素、酸素、炭素、及び窒素を含有する膜に含まれる炭素濃度がそれぞれ異なるように行う、請求項1、2又は4のいずれかに記載の基板処理方法。
- (e)では、(a)から(d)を行う各サイクルを、各サイクルで形成される所定元素、酸素、炭素、及び窒素を含有する膜に含まれる窒素濃度がそれぞれ異なるように行う、請求項1、2又は4のいずれかに記載の基板処理方法。
- (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成し、
(e)と(f)を行うサイクルでは、(f)を、(a)から(d)を行う複数のサイクルの間に行う、
基板処理方法。 - 基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する第1の供給系と、
前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する第2の供給系と、
前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する第3の供給系と、
前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する第4の供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給する処理と、
(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給する処理と、
(c)前記基板に対して前記プラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する処理と、
(d)前記基板に対して前記酸素を含有するガスを供給する処理と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、を有し、
(f)を行った後に(e)を行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する処理を行わせるように、前記第1乃至第4の供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する第1の供給系と、
前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する第2の供給系と、
前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する第3の供給系と、
前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する第4の供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給する処理と、
(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給する処理と、
(c)前記基板に対して前記プラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する処理と、
(d)前記基板に対して前記酸素を含有するガスを供給する処理と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の、前記第1回数と異なる第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する処理を行わせるように、前記第1乃至第4の供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する第1の供給系と、
前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する第2の供給系と、
前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する第3の供給系と、
前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する第4の供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給する処理と、
(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給する処理と、
(c)前記基板に対して前記プラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する処理と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する処理と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、
(g)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素、酸素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、を有し、
(e)、(f)及び(g)を非同時に行うサイクルを1回以上の第3回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する処理を行わせるように、前記第1乃至第4の供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する第1の供給系と、
前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する第2の供給系と、
前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する第3の供給系と、
前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する第4の供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給する処理と、
(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給する処理と、
(c)前記基板に対して前記プラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する処理と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する処理と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する処理と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成し、
(e)と(f)を行うサイクルでは、(f)を、(a)から(d)を行う複数のサイクルの間に行う処理を行わせるように、前記第1乃至第4の供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(f)を行った後に(e)を行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する
半導体装置の製造方法。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の、前記第1回数と異なる第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する
半導体装置の製造方法。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(g)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素、酸素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(e)、(f)及び(g)を非同時に行うサイクルを1回以上の第3回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する、
半導体装置の製造方法。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する工程と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する工程と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する工程と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する工程と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成し、
(e)と(f)を行うサイクルでは、(f)を、(a)から(d)を行う複数のサイクルの間に行う、
半導体装置の製造方法。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する手順と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する手順と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する手順と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、を有し、
(f)を行った後に(e)を行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する手順を、コンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する手順と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する手順と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する手順と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の、前記第1回数と異なる第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する手順を、コンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する手順と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する手順と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する手順と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、または、(a)から(d)をこの順番に行うサイクルを1回以上行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、
(g)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素、酸素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、を有し、
(e)、(f)及び(g)を非同時に行うサイクルを1回以上の第3回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成する手順を、コンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - (a)基板に対して所定元素を含有する第1ガスを供給する手順と、
(b)前記基板に対して炭素及び窒素を含有する第2ガスを供給する手順と、
(c)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して酸素を含有するガスを供給する手順と、
(e)(a)から(d)を行うサイクルを2回以上の第1回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、
(f)前記基板に対してプラズマにより活性化された窒素を含有するガスを供給することなく、前記基板上に所定元素、炭素及び窒素を少なくとも含有する膜を形成する手順と、を有し、
(e)と(f)を行うサイクルを1回以上の第2回数行うことにより、前記基板上に所定元素、酸素、炭素、及び窒素を少なくとも含有する積層膜を形成し、
(e)と(f)を行うサイクルでは、(f)を、(a)から(d)を行う複数のサイクルの間に行う手順を、コンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。
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