JP7436218B2 - 圧力センサ - Google Patents

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Description

本発明は、流体等の圧力を検出するダイアフラムを用いた圧力センサ、特にサニタリー用圧力センサに関するものである。
ダイアフラムを用いた圧力センサ(以下、単に「圧力センサ」と称する。)は、測定対象である流体(以下、「被測定流体」と称する。)の圧力が、ダイアフラムおよび非圧縮性流体(例えばオイル)を介してセンシング部へと伝達され、または、ダイアフラムの機械的変位がセンシング部へと伝達されたのち、当該センシング部から出力される電気信号(例えば、電圧信号)の形で検出されるように構成されている。当該構成の圧力センサは、様々な分野の製造装置等に用いられるため、高温の流体を測定する環境下で使用されることも少なくない。このため、高温の被測定流体に接するダイアフラムとセンシング部とを離間する構造や、ガラス等の断熱部材を用いて熱的に絶縁する構造(熱的に隔離する構造)をもつ圧力センサが提案されている。
例えば、特許文献1には、接液ダイアフラム(113)が設けられた接液ボディ(111)と圧力センサが設けられた圧力カプセルユニット(1)とが、連通管(12)を介在させる形で互いに離間した構造の差圧測定装置が記載されている。この差圧測定装置においては、被測定流体の圧力が、連通管(12)の内部に封入された非圧縮性流体(オイル等)を介して、接液ダイアフラムから圧力センサへと伝達されるように構成されている。
また、特許文献2には、高温のプロセス流体(被測定流体)が接する隔離ダイアフラムアセンブリ(356)と圧力センサ(358)が配設された送信機(350)とが、充填流体導管(334)を介在させる形で互いに離間した構造の送信機(350)が記載されている。この送信機(350)においては、特許文献1に記載の差圧測定装置と略同様に、被測定流体の圧力が、充填流体導管(334)の内部に封入された充填流体を介して、隔離ダイアフラムアセンブリ(356)から圧力センサ(358)へと伝達されるよう構成されている。
さらに、特許文献3には、熱伝導率の小さなガラスからなる3つの支持部材(2a、2b,2c)を通じてダイアフラム(3)とセンシング部(半導体チップ1)とを熱的に分離する構造のサニタリー用圧力センサ(100)が記載されている。このサニタリー用圧力センサにおいては、衛生面への配慮から、上記特許文献1および特許文献2の装置と異なり、ダイアフラムとセンシング部との間に非圧縮性流体(オイル等)を介在させない構造、いわゆるオイルフリー構造を採用している。このため、このサニタリー用圧力センサにおいては、被測定流体の圧力を受けて変形するダイアフラムの変位量から圧力を検出するように構成されている。具体的には、ダイアフラムが被測定流体の圧力を受けて変形すると、この変形が3つの支持部材(2a、2b,2c)を通じて効率的にセンシング部(半導体チップ1)に伝えられるように構成されている(より具体的には、半導体チップ1が、支持面3Bに直接設けられている場合に比べて大きく歪むように構成されている)。
ここで、圧力センサまたはこれを備える装置に対しては、所望の測定精度が得られるように、製品出荷の際に圧力センサまたは装置全体を均熱化した状態でキャリブレーションを行うのが一般的である。このため、使用中に圧力センサまたは装置の各部に温度差が生じると(例えば、ダイアフラムとセンシング部との間に温度差が生じると)、上記出荷時のキャリブレーションに基づいた入力値(すなわち、被測定流体の圧力値)と出力値(すなわち、センシング部から出力される電気信号の値)との相関関係にズレが生じる(例えばゼロ点シフトが生じる)。このため、上記特許文献1に記載の差圧測定装置および特許文献2に記載の送信機では、異なる部位に複数の温度センサを配設し、これら温度センサによって検出された各所の温度を用いて圧力センサを温度補償する(ゼロ点シフト等を是正する)ように構成されている。例えば、特許文献1に記載の差圧測定装置においては、圧力カプセルユニット(1)に取り付けられた受圧カプセル温度センサによって検出された温度と接液ボディ(111)に取り付けられた接液温度センサ(13)によって検出された温度とに基づいて、上記圧力センサの温度補償が行われるように構成されている。また、特許文献2に記載の送信機(350)においては、圧力センサ(358)およびその他の部位に固定された複数の温度センサ(372、380、382、384、386)によって検出された複数の温度を用いて圧力センサ(358)の温度補償が行われるように構成されている。
特開平9-229800号公報 特許第4964131号公報 特開2017-120214号公報
ところで、使用中(作動中)にダイアフラムが高温の被測定流体に直接さらされる圧力センサにおいては、ダイアフラムおよびこれを支持・固定するハウジングに大きな熱エネルギが入力し(以下、この事象を「熱衝撃」と称する。)、これら部位に温度分布が生じる。この熱衝撃に起因した温度分布は、被測定流体の圧力とは無関係にダイアフラムを変形させる(以下、この熱衝撃に起因した変形を、「熱変形」または「熱衝撃変形」と称することがある。)。このダイアフラムの熱衝撃変形は、被測定流体の圧力に依存しない出力変動を圧力センサにもたらし、測定誤差を生じさせる。当該熱衝撃による出力変動は、特許文献3に記載のサニタリー用圧力センサのような、ダイアフラムの変形(機械的変位)から圧力を検出するように構成されたオイルフリー構造の圧力センサにおいて特に顕著に現れる。また、当該事象は、衛生管理に関する法規制の厳格化が図られている現状において、早急に解消しなければならない技術課題の1つである。
しかしながら、特許文献1に記載の差圧測定装置、特許文献2に記載の送信機および特許文献3に記載のサニタリー用圧力センサにおいては、一部でセンシング部の温度特性に関する温度補償を行っているものの、ダイアフラムの熱衝撃に起因した出力変動を抑制して測定誤差を是正する手段が備わっていない。このため、これら特許文献に記載の装置または圧力センサにおいては、上記出力変動を抑制することが依然として課題となっている。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ダイアフラムの熱衝撃に起因した出力変動を抑制することで測定精度の高い圧力センサ、特に、オイルフリー構造を採用するサニタリー用圧力センサを提供することにある。
上記課題を解決するための本発明に係る圧力センサ(1)は、被測定流体の圧力を受ける第1主面(接液面11)およびこの第1主面の反対側に位置する第2主面(センサ保持面12)を有するダイアフラム(10)と、前記ダイアフラムの外周縁(10a)を支持するハウジング(20)と、前記第2主面に配設され、前記ダイアフラムの変形を検出してこの変形の大きさに応じて変化する第1の値(変形電圧値Vr)を出力するセンシング部(30)と、前記1主面および前記第2主面の少なくとも一つの面に配設された温度センサ(温度測定部40)と、前記温度センサが検出する第2の値(ダイアフラム10の温度T10)を用いて前記第1の値を補正する補正部(50)と、を備えることを特徴とする。
上記圧力センサにおいて、前記センシング部が、前記ダイアフラムとの間で熱的に絶縁された状態で前記第2主面に固定されるように構成してもよい。
また、上記圧力センサにおいて、前記温度センサが、前記第2主面の外周縁部に配設されるように構成してもよい。
さらに、上記圧力センサにおいて、前記補正部が、前記第2の値を用いて前記ダイアフラムの熱変形に起因する前記センシング部からの出力の変動分を第3の値(熱衝撃変形電圧値Vh)として算出するように構成された出力変動値算出部(51)と、この第3の値を用いて前記第1の値を補正するように構成された出力値補正部(52)とを備えるように構成してもよい。
また、上記圧力センサにおいて、前記出力値補正部が、前記第2の値に前記定数を乗じることで前記第3の値を算出するように構成してもよい。
さらに、上記圧力センサにおいて、前記定数が、複数の温度領域ごとに定められるように構成してもよい。
また、上記圧力センサにおいて、前記出力変動値算出部が、前記複数の温度領域から前記第2の値に対応する温度領域を選択し、この温度領域に対応する前記定数に基づいて前記第3の値を算出するように構成してもよい。
さらに、上記圧力センサにおいて、前記センシング部が、非圧縮性流体を介さずに前記変形を検出するように構成してもよい。
なお、上記説明では、一例として、発明の構成要素に対応する図面上の参照符号を括弧付きで記載している。
本発明によれば、ダイアフラムの熱衝撃に起因した出力変動が抑制されることで測定精度の高い圧力センサ、特に、オイルフリー構造を採用する高精度なサニタリー用圧力センサを提供することができる。
図1は、本発明の実施の形態に係る圧力センサの断面図である。 図2は、本発明の実施の形態に係る圧力センサおよびこれと接続する配管との接続構造を示す断面図である。 図3は、本発明の実施の形態に係る圧力センサの構成を示す機能的ブロック図である。 図4は、本発明の実施の形態に係る圧力センサが備えるハードウェア資源の構成を示す図である。 図5は、本発明の実施の形態に係る圧力センサの一部を構成するセンシング部が含むひずみゲージを示す回路図である。 図6は、熱衝撃が加わった際の圧力センサ各所の温度の時間応答を示す図である。 図7は、本発明の実施の形態に係る圧力センサを用いて補正圧力値を算出する過程を示すフロー図である。 図8は、熱衝撃が加わった際のセンシング部から出力される電圧値の時間応答を、本発明の実施の形態に係る圧力センサと従来技術に係る圧力センサとで比較した図である。 図9は、補正電圧値を算出するために用いられる定数を確定する方法を示す概要図である。 図10は、本発明の実施の形態に係る圧力センサを用いて補正圧力値を算出する過程を示すフロー図である。
以下、本発明の好ましい実施の形態を、図1ないし図10に基づいて説明する。なお、説明文中の左右方向、前後方向および上下方向は、図1に示されたX、YおよびZ軸に沿った方向、もしくは図2に示された圧力センサ1または配管Hの紙面に対する奥行き方向、上下方向および左右方向としてそれぞれ定義する。なお、各図は概念図であって、それぞれに示された内容は、実際の圧力センサと必ずしも一致するものではない。
〔圧力センサの構成〕
はじめに、圧力センサ1の構成を、図1および図3に基づいて説明する。この圧力センサ1は、図1に示すように、被測定流体Fの圧力Pを受圧して変形する(たわむ)ダイアフラム10と、このダイアフラム10の外周縁10aに接続してこれを支持するハウジング20と、ダイアフラム10の変形量に応じて変化する所定の電気的数値(例えば、電圧値。この電気的数値は、特許請求の範囲に記載の「第1の値」に相当する。)を出力するセンシング部30と、ダイアフラム10の温度(このダイアフラム10の温度は、特許請求の範囲に記載の「第2の値」に相当する。)を測定する温度測定部40とを備えている。また、圧力センサ1は、図3に示すように、演算処理部として、補正部50と圧力算出部60とから構成された制御部70をさらに備えている。
[ダイアフラム10]
ダイアフラム10は、被測定流体Fから圧力Pを受けて変形する薄膜状の要素であって、図1に示すように、円板状の薄板部材として形成されている。ダイアフラム10は、その外周縁10aが、ハウジング20の内側、より具体的には、後述するハウジング20の開口部21を画成する内周側壁面21aと、例えば溶接によって接合されている。これにより、ダイアフラム10は、図2に示すように、ハウジング20の内側に形成された空間(後述する空間20V)と、被測定流体Fが流出入する配管Hの内部空間HVとを隔絶する薄膜状の隔壁を形成している。
ダイアフラム10の下面は、被測定流体Fと接して圧力Pを受ける接液面11(この接液面11は、特許請求の範囲に記載の「第1主面」に相当する。)を形成し、また、ダイアフラム10の上面は、センシング部30が配設されるセンサ保持面12(このセンサ保持面12は、特許請求の範囲に記載の「第2主面」に相当する。)を形成している。センサ保持面12は、例えば、大気圧を受ける受圧面としても機能する。
[ハウジング20]
ハウジング20は、図1に示すように、内側に開口部21が開口する略円筒状のケーシング要素であって、ダイアフラム10と同様に耐食性の高い材料、例えば、ステンレス鋼(SUS)、チタンまたはセラミックスから形成されている。ハウジング20は、図1および図2に示すように、その下部に、配管Hのフェルールフランジ部Hfと接合するフェルールフランジ部20fが、半径方向外側に向かって突出するように設けられている。圧力センサ1と配管Hとは、例えば、互いに重なり合うフェルールフランジ部20fとフェルールフランジ部HfとがクランプCによって上下方向に挟持される構造(いわゆる、フェルール継手構造)により、互いが連結している。
開口部21の内周側壁面21aは、上述したように、その下部でダイアフラム10の外周縁10aと接合し、ダイアフラム10(より具体的には、ダイアフラム10のセンサ保持面12)と共に円柱状の空間20Vを形成している。この空間20Vは、被測定流体Fが流出入する配管Hの内部空間HVと隔絶されており、例えば大気と連通している。空間20Vの内側には後述するセンシング部30が配置されている。
[センシング部30]
センシング部30は、ダイアフラム10の上記変形を検出し、その大きさ(変形量)に応じて数値が変化する電圧信号(この電圧信号の数値は、特許請求の範囲に記載の「第1の値」に相当する。)を時系列的に逐次出力する機能部である。この電圧信号の数値を、以下、「変形電圧値Vr」と称することとする。
センシング部30は、例えば図1に示すように、ダイアフラム10のセンサ保持面12に立設された支持部材31と、この支持部材31を通じて所定の位置に固定された半導体チップ32とから構成されている。
支持部材31は、例えばガラス(具体的には、ホウケイ酸ガラス(パイレックス、登録商標))のような熱絶縁材料から形成されている。これにより、半導体チップ32が、ダイアフラム10との間で熱的に絶縁された状態(断熱状態)で所定の位置に固定されることとなる。支持部材31は、図2に示すように、3本の構造体31a、31b、31cから構成されている。これら構造体31a、31b、31cは、いずれも角柱状の同一形状を呈している。
半導体チップ32は、例えば平面視多角形状に形成され、Si等の半導体材料から成る基板Bと、この基板Bの上に配設されたひずみゲージ32aとから構成されている。
ひずみゲージ32aは、図5に示すように、例えば4つの抵抗(例えば拡散抵抗)R1~R4を備えたホイートストンブリッジ回路から構成され、ダイアフラム10の変形を、以下のようにして変形電圧値Vrの形で検出する。すなわち、ダイアフラム10が変形すると、支持部材31(具体的には、構造体31a、31b、31c)を介してその表面(センサ保持面12)に固設された抵抗素子R1ないしR4の長さが変形(伸縮)して、その抵抗値Rが増減する。この抵抗値Rの変化を、一定の電流Iが流れた上記ホイートストンブリッジ回路を用いて、互いが並列に接続された2組の抵抗対(抵抗素子R1と抵抗素子R2とからなる抵抗対および抵抗素子R3と抵抗素子R4とからなる抵抗対)の接点間(接点Aと接点Bとの間)における電圧値(変形電圧値Vr)の変化として検出する。
なお、センシング部30が配設される位置、換言すれば、支持部材31が立設される位置は、ダイアフラム10(センサ保持面12)が最も大きく変形する領域(以下、この部分を、「変形領域」と称することがある。)の内側にあることが好ましい。ここで、上記構成のダイアフラム10において、被測定流体Fの圧力Pを受けたときに最も大きく変形する部分は、中央部である。このため、センシング部30がダイアフラム10(センサ保持面12)の中央部に固定されるよう、例えば構造体31a、31b、31cのうちの1本(構造体31b)が当該中央部に配設され、残りの2本(構造体31a、31c)が当該中央部に対して略点対称となる位置に配設されている。
[温度測定部40]
温度測定部40は、接液面11およびセンサ保持面12の少なくとも一面に貼設された1つの熱電対41から構成されている。この熱電対41を通じて、ダイアフラム10の所定の位置における温度T10が時系列的に逐次測定される。
上記所定の位置は、一例として、被測定流体Fの圧力Pが印加された状態においてダイアフラム10が最も大きく変形する領域、すなわち、センシング部30が配設されている変形領域の内側にある。これにより、センシング部30が検出する変形領域の温度を測定することができる。
また、上記所定の位置は、別の例として、変形領域の外側、すなわち、ダイアフラム10の外周縁10aの近傍にある。これにより、熱電対41を設けたことによるダイアフラム10の変形への影響(変形を阻害する影響)を小さく抑えることができる。ここで、薄板部材からなることでその熱容量が小さな仕様のダイアフラムにおいては、温度分布が殆ど生じない。このため、当該仕様のダイアフラムにおいては、外周縁10aの近傍に熱電対41を配設することが望ましい。
[補正部50]
制御部70を構成する補正部50は、センシング部30を通じて検出されたダイアフラム10の変形量に応じた変形電圧値Vrと、温度測定部40を通じて測定されたダイアフラム10の温度T10とから、熱衝撃に起因した出力変動が除去された補正電圧値Vcを算出する演算部である。本実施の形態の補正部50は、例えば図3に示すように、出力変動値算出部51と出力値補正部52とから構成されている。
出力変動値算出部51は、温度測定部40を通じて測定されたダイアフラム10の温度T10と後述する比例定数aとを用いて、熱衝撃に起因した出力変動に相当する電圧値(以下、この電圧値を「熱衝撃変形電圧値Vh」と称する。この熱衝撃変形電圧値Vhは、特許請求の範囲に記載の「第3の値」に相当する。)を算出する演算部である。出力変動値算出部51は、温度測定部40と電気的に接続されており、この温度測定部40から出力される信号ST10を受信することで、温度T10に関する情報を取得する。
出力値補正部52は、熱衝撃変形電圧値Vhと変形電圧値Vrとから、熱衝撃に起因した出力変動が除去された補正電圧値Vcを求める演算部である。出力値補正部52は、センシング部30と電気的に接続されており、このセンシング部30から出力される信号SVrを受信することで、変形電圧値Vrに関する情報を取得する。
[圧力算出部60]
制御部70を構成する圧力算出部60は、補正部50によって補正された補正電圧値Vcに対応する補正圧力Pcを、例えば所定の較正曲線を用いて時系列的に算出する演算部である。較正曲線に関するデータは、例えば後述する記憶装置72に記憶・保存されている。
[制御部70]
出力変動値算出部51および出力値補正部52からなる補正部50と圧力算出部60とから構成される制御部70は、例えば図4に示すように、CPU71、メモリ等の記憶装置72、インターフェース73およびバス74といったハードウェア資源を備える。当該ハードウェア資源は、ハウジング20と物理的に離間した位置に配設されている。補正部50および圧力算出部60における各演算は、上記ハードウェア資源と記憶装置72内に記憶された所定の演算プログラムとが協働することによって実行される。
〔第1の補正方法〕
次に、本実施の形態に係る圧力センサ1において、熱衝撃に起因した出力変動を抑制するために実施される第1の補正方法について、図6および図7に基づいて説明する。以下の説明では、便宜上、装置の清浄性を保つために定期的に実施される蒸気洗浄によって圧力センサ1に熱衝撃が加えられた場面を想定して説明する。ただし、この補正方法は、蒸気洗浄時に限って適用されるわけではなく、例えば、通常動作時において生じ得る被測定流体Fの温度変化に起因した出力変動に対しても適用することができる。
[補正の原理]
まず、補正の原理、具体的には、熱衝撃に起因した出力変動(熱衝撃変形電圧値Vh)の算出に関する基本的な考え方を説明する。
本実施の形態に係る圧力センサ1およびこれを備える装置において、清浄性を保持するために定期的に行われる蒸気洗浄が実施されると、配管H内へ高温・高圧の蒸気が導入されることとなる。このとき、接液面11を通じて熱衝撃を受けるダイアフラム10は、図6中の線図6A(実線)で示すように、その温度T10が急激に上昇する。ここで、図6の縦軸は温度[℃]であり、同横軸は時間[sec]である。
ここで、金属材料等からなる部材の熱変形の程度(熱変形量)は、一般的に温度に比例し、材料の熱膨張率(線膨張率)が温度に依存しない場合には、熱変形量は温度の一次関数として表すことができる。このため、当該場合においては、熱衝撃を受けたダイアフラム10は、その温度T10の増減に対して一定の割合で変化する熱衝撃変形を伴って変形し、センシング部30は、この熱衝撃変形を含むダイアフラム10の変形を検出して変形電圧値Vrを出力することになると解することができる。
ところで、上記理解のもとでは、変形電圧値Vrを出力するセンシング部30が、例えば自身の温度T30に基づいてその温度特性を補償するように構成されている場合、温度補償だけでなく熱衝撃に起因した出力変動を抑制するための補正に対しても、当該温度T30を用いることができる。
しかしながら、ダイアフラム10とセンシング部30とは、互いに近接しつつも、異なる材料からなり、また、本実施の形態においては、互いの間に熱伝導率の小さなガラスからなる支持部材31が介在している。このため、蒸気洗浄による熱衝撃を受けた際のダイアフラム10の温度T10とセンシング部30の温度T30とは、必ずしも一致しない。事実、本実施の形態においては、センシング部30の温度T30が、図6中の線図6B(破線)で示すように、ダイアフラム10の温度T10に遅れて徐々に上昇していく。このため、センシング部30の温度T30に基づいて上記出力変動を抑制するための補正を行った場合、上記タイムラグに起因した誤差(ドリフト)が生じることとなる。
そこで、本発明者等は、熱衝撃に起因した出力変動を抑制するための補正を実施するにあたり、変形する側の機械要素であるダイアフラム10の温度T10を用いることが有用との考えに至った。具体的には、ダイアフラム10の熱衝撃変形量の大きさ(熱衝撃変形量)がその温度T10の一次関数として表すことができるとした場合、換言すれば、ダイアフラム10の熱膨張率(線膨張率)が温度に依存することなく一定であるとした場合、上記熱衝撃変形量に対応する熱衝撃変形電圧値Vhは、ダイアフラム10の温度T10の一次関数として表すことができるとの考えに至った。当該理解によれば、熱衝撃変形電圧値Vhは、関係式Vh=a×T10(aは特許請求の範囲に記載の「定数」に相当する。以下、左記関係式を「関係式α」と称する。)から算出できることとなる。
比例定数aは、例えば以下のようにして確定することができる。すなわち、ダイアフラム10の温度T10が異なる2つの事象において、被測定流体Fが非接触であるときの変形電圧値Vr´を測定することで比例定数aを算出することができる。例えば、第1の事象に係る温度T10および変形電圧値Vr´と、第2の事象に係る温度T10および変形電圧値Vr´とが定まれば、関係式a=δVr´/δT10=(Vr´-Vr´)/(T10-T10)(以下、「関係式β」と称する。)から比例定数aを算出することができる。ここで、第1の事象に係る温度T10および変形電圧値Vr´と第2の事象に係る温度T10および変形電圧値Vr´とは、例えば製品出荷前の検査工程等において測定することができる。これら測定値を上記関係式に代入することで比例定数aが算出され、これを記憶装置72に記憶・保存しておくことで、熱衝撃変形電圧値Vhを算出する際に用いる比例定数aを確定することができる。
[補正プロセス]
次に、熱衝撃変形を補正するプロセスを、図7に基づいて説明する。この補正プロセスは、ステップS10ないしS60によって実行される。ここで、ステップS10およびS20は、並列的に実行され、ステップS30ないしS60は、これらステップS10およびS20に続いて順次実行されるように構成されている。
まず、圧力センサ1を構成するセンシング部30によって、ダイアフラム10の変形に対応する変形電圧値Vrを検出する(ステップS10)。この変形電圧値Vrは、上述したように、信号SVrの形で温度測定部40から補正部50、より具体的には、補正部50の一部を構成する出力値補正部52へと送信される。
ここで、ダイアフラム10の変形は、被測定流体Fの圧力Pに起因した変形と熱衝撃変形とを含んでいる。このため、ダイアフラム10の変形に対応する変形電圧値Vrは、流体Fの圧力Pに起因した出力成分(以下、「流体圧力電圧値Vp」と称する。)と熱衝撃変形に起因した出力成分(熱衝撃変形電圧値Vhに相当)との合算値(Vr=Vp+Vh)となる。
ステップS10と並行して、圧力センサ1を構成する温度測定部40を通じて、ダイアフラム10の温度T10を測定する(ステップS20)。この温度T10に関する情報は、上述したように、信号ST10の形で温度測定部40から補正部50、より具体的には、補正部50の一部を構成する出力変動値算出部51へと送信される。
つづいて、ダイアフラム10の温度T10に関する情報を受信した補正部50、より具体的には、補正部50の一部を構成する出力変動値算出部51において、熱衝撃変形電圧値Vhが算出される(ステップS30)。熱衝撃変形電圧値Vhは、上述したように、上記関係式α、すなわち、Vh=a×T10から近似的に算出される。比例定数aには、上記方法によって確定された値が用いられる。
ステップS30を通じて熱衝撃変形電圧値Vhが算出されると、補正部50、より具体的には、補正部50の一部を構成する出力値補正部52において、この熱衝撃変形電圧値VhとステップS10によって検出された変形電圧値Vrとを用いて、関係式Vc=Vr―Vhから熱衝撃に起因した出力変動が除去された補正電圧値Vcが算出される(ステップS40)。
ステップS40を通じて補正電圧値Vcが算出されると、圧力算出部60において、補正電圧値Vcに対応する補正圧力値Pcが算出される(ステップS50)。補正圧力値Pcは、例えば圧力センサ1の製品特性、より具体的には、センシング部30を構成する半導体チップ32の製品特性である電圧値および圧力に関する較正曲線を用いて算出される。較正曲線に関するデータは、上述したように、例えば記憶装置72に記憶・保存されている。
以上のステップS10ないしステップS50は、圧力センサ1が備え付けられた装置が停止するまで繰り返され、装置が停止することによって終了する(ステップS60)。ステップS10ないしステップS50は、極短い周期で繰り返され、これにより、略リアルタイムで補正電圧値Vcが算出されることとなる。
〔第1の補正方法の効果〕
本実施の形態に係る圧力センサ1によれば、図8に示すように、蒸気洗浄時の熱衝撃に起因した出力変動を略全て除去することができる。ここで、図8は、センシング部30からの出力される電圧値(変形電圧値Vr)に含まれる出力変動の時間応答を示した図であり、縦軸は、熱衝撃に起因した出力変動を表し、横軸は時間を表す。図中の線図8A(実線)は、補正がないときの出力変動を示し、同線図8C(一点鎖線)は、ダイアフラム10の温度T10を用いて補正した本実施の形態に係る圧力センサ1における出力変動を示す。同線図8B(破線)は、関係式α中のT10に代えてセンシング部30の温度T30を用いて補正したときの出力変動を示す。線図8Bと線図8Cとを比較すると、線図8Cにおいては、上述したように、出力変動が略全て除去されているが、線図8Bにおいては、ダイアフラム10の温度T10とセンシング部30の温度T30との間のタイムラグに起因して十分に出力変動が除去されずに残存していることが解る。
このように、第1の補正方法を用いた本実施の形態に係る圧力センサ1によれば、ダイアフラム10に温度測定部40を配設し、また、補正部50を構成する各種演算処理プログラムを既存の制御装置等に付加するだけの簡易かつ単純な構造・構成によって、熱衝撃に起因した出力変動(熱衝撃変形電圧値Vh)を効果的に除去することができる。これによって、例え熱衝撃等が印加される使用環境にあっても、常に高い精度で流体圧力の測定が可能な圧力センサ1を提供することができる。
〔第2の補正方法〕
次に、第2の補正方法を、図9および図10に基づいて説明する。この第2の補正方法は、ダイアフラム10の熱膨張率(線膨張率)に温度依存性がある場合を想定したものであり、この関係で比例定数aの確定方法が上記第1の補正方法と相違する。
[比例定数aの確定手法]
第2の補正方法において用いられる比例定数aは、以下のようにして算出される。すなわち、圧力センサ1の使用温度領域TRを、所定の温度範囲TWで所定の数n(n>1)の領域に分割する。この分割された温度領域Sk(k=1、2、・・・n)における温度T10の最小値T10-k(k=1、2、・・・n)およびこれに対応する変形電圧値Vr´k(k=1、2、・・・n)と、温度T10の最大値T10-k+1(k=1、2、・・・n)およびこれに対応する変形電圧値Vr´k+1(k=1、2、・・・n)をそれぞれ測定する。これら測定値を関係式βに代入して各温度領域Skの比例定数ak(k=1、2、・・・n)を算出する。
上記確定方法に関し、使用温度領域TRが-50℃から250℃、温度範囲TWが50℃および分割数nが6のときの概要を図9に示す。
これら算出された比例定数akは、温度領域Skに関連付けられて(より具体的には、ダイアフラム10の温度T10の最小値T10kと同温度T10の最大値T10k+1とに関連付けられて)、例えば記憶装置72にデータDとして記憶・保存される。
[補正プロセス]
図10に、第2の補正方法における補正プロセスを示す。この補正プロセスは、以下に述べるステップS25が新たに設けられた点が第1の補正方法における補正プロセスと相違し、その他は同一である。
ステップS25では、従前のステップS20で測定されたダイアフラム10の温度T10に関する情報に基づいて比例定数akが確定される。すなわち、温度T10に関する情報を受信した補正部50、より具体的には、補正部50の一部を構成する出力変動値算出部51において、記憶装置72に記憶・保存されているデータDが読み出され、上記温度T10が含まれる温度領域Skが認定される。さらに、この温度領域Skに対応する比例定数akがデータDの中から選択され、その値が確定される。
なお、ステップS20を通じて測定されたダイアフラム10の温度T10が、隣り合う2つの温度領域Sk、Sk+1/Sk-1、Skに含まれる(跨る)場合には、いずれか一方の分割領域に対応する比例定数akを選択してもよいし、2つの分割領域に対応する2つの比例定数akの平均値として確定してもよい。
ステップS25に続くステップS30では、第1の補正方法におけるプロセスと同様に、上記確定された比例定数akと温度T10とから熱衝撃電圧値Vhが算出され、ステップS40ないしステップS60へとつづくことなる。
〔第2の補正方法の効果〕
第2の補正方法を用いた圧力センサ1は、上記データDを記憶装置72に記憶・保存しておく点で第1に補正方法を用いた圧力センサ1と異なるが、ハードウェア等の基本的な構造・構成は、双方で同一である。したがって、第2の補正方法を用いた圧力センサ1は、第1の補正方法を用いた圧力センサ1と同様に、簡易かつ単純な構造・構成によって、熱衝撃に起因した出力変動(熱衝撃変形電圧値Vh)を効果的に除去することができる。
また、第2の補正方法を用いた圧力センサ1によれば、ダイアフラム10が熱膨張率(線膨張率)に温度依存性のある材料からなり、かつ温度変化の激しい環境下で圧力センサ1が使用される場合であっても、分割された温度領域Skごとに熱衝撃に起因した出力変動を適格に除去することができる。これにより、蒸気洗浄をはじめとする様々な使用環境下で圧力センサ1に熱衝撃が加わっても、その略全てのケースにおいて、熱衝撃に起因した出力変動を適格に除去し、当該出力変動によってもたらされる測定誤差を低減することができる。
以上、本発明に係る実施の形態を説明したが、本発明はこの実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。また、明細書および図面に直接記載のない構成であっても、本発明の作用・効果を奏する以上、本発明の技術的思想の範囲内である。さらに、上記記載および各図で示した実施の形態は、その目的および構成等に矛盾がない限り、互いの記載内容を組み合わせることも可能であり、さらには既存の技術と組み合わせることもできる。
例えば、上記実施の形態においては、ダイアフラム変形による圧力検出手法(センシング原理)として、ひずみゲージ32aを含む半導体チップ32(半導体ひずみゲージ式)を用いているが、これに限定されるわけではなく、例えば、静電容量式、金属歪みゲージ式、抵抗ゲージをスパッタ等により成膜した方式を用いた圧力検出手法(センシング原理)であってもよい。
また、センシング部30を、自身の温度T30、または自身の温度T30とダイアフラム10の温度T10とに基づいて温度特性を補正する(温度補償する)ように構成してもよい。このとき、センシング部30は、自身の温度T30を測定するための温度センサ(例えば熱電対)を備えていてもよい。温度特性の補正(温度補償)は、例えば既知の方法を用いて行われる。
1…圧力センサ、10…ダイアフラム、11…接液面、12…センサ保持面、20…ハウジング、30…センシング部、31…支持部材、31a、31b、31c…構造体、32…半導体チップ、40…温度測定部、41…熱電対、50…補正部、51…出力変動値算出部、52…出力値補正部、60…圧力算出部、70…制御部、a…比例定数、Sk…温度領域。

Claims (7)

  1. 被測定流体の圧力を受ける第1主面およびこの第1主面の反対側に位置する第2主面を有するダイアフラムと、
    前記ダイアフラムの外周縁を支持するハウジングと、
    前記第2主面に配設され、前記ダイアフラムの変形を検出してこの変形の大きさに応じて変化する第1の値を出力するセンシング部と、
    前記1主面および前記第2主面の少なくとも一つの面に配設された温度センサと、
    前記温度センサが検出する第2の値を用いて前記第1の値を補正する補正部と、
    を備え
    前記センシング部は、前記ダイアフラムとの間で熱的に絶縁された状態で前記第2主面に固定されている圧力センサ。
  2. 請求項1に記載の圧力センサにおいて、
    前記温度センサは、前記第2主面の外周縁部に配設されている圧力センサ。
  3. 請求項1または2に記載の圧力センサにおいて、
    前記補正部は、前記第2の値を用いて前記ダイアフラムの熱変形に起因する前記センシング部からの出力の変動分を第3の値として算出するように構成された出力変動値算出部と、この第3の値を用いて前記第1の値を補正するように構成された出力値補正部とを備える圧力センサ。
  4. 請求項3に記載の圧力センサにおいて、
    前記出力値補正部は、前記第2の値に定数を乗じることで前記第3の値を算出するように構成されている圧力センサ。
  5. 請求項4に記載の圧力センサにおいて、
    前記定数は、複数の温度領域ごとに定められている圧力センサ。
  6. 請求項5に記載の圧力センサにおいて、
    前記出力変動値算出部は、前記複数の温度領域から前記第2の値に対応する温度領域を選択し、この温度領域に対応する前記定数に基づいて前記第3の値を算出するように構成されている圧力センサ。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1つに記載の圧力センサにおいて、
    前記センシング部は、非圧縮性流体を介さずに前記変形を検出する構造である圧力センサ。
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