JP7434489B1 - 排ガス浄化用触媒およびこれを用いた触媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】高温に長時間晒された場合の酸化活性が向上した排ガス浄化用触媒を提供する。【解決手段】ここに開示される排ガス浄化用触媒は、アルミナ粒子３２と、アルミナ粒子３２の表面の少なくとも一部を被覆するジルコニア３４と、を含む母材３０と、母材３０に担持され、少なくともＰｔを含有する触媒貴金属４０と、を含む。集束イオンビーム走査型電子顕微鏡によって求まるジルコニア３４の平均粒径は、５０ｎｍ以下である。Ｐｔに対するジルコニア３４のモル比（ZrO2/Pt）は、８以上である。【選択図】図１

Description

本発明は、排ガス浄化用触媒および、これを用いた排ガス浄化用触媒体に関する。

自動車エンジン等の内燃機関から排出される排ガスには、炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）等の有害成分が含まれる。これら有害成分を排ガス中から効率よく反応・除去するために、アルミナ等の母材に触媒貴金属を担持してなる排ガス浄化用触媒が汎用されている（特許文献１、２参照）。例えば特許文献１には、アルミナ粒子に、ジルコニアと白金（Ｐｔ）とが担持された排ガス浄化用触媒が記載されている。特許文献１によれば、上記排ガス浄化用触媒では、ジルコニアが、Ｐｔの粒子成長を抑制するためのブロック材の役割を果たすので、高温の排ガスに長時間晒されてもＰｔのシンタリングが抑えられ、特に一酸化窒素（ＮＯ）を酸化する酸化活性の低下が抑制されうる。

特開２０１３－１９８８７９号公報 特開２００６－１９８５９４号公報

特許文献１の実施例では、８００℃で２０時間熱処理した後の酸化活性で、耐久性を評価している。しかしながら、さらに長時間の耐久性を考慮すると、上記従来技術には未だ改善の余地があった。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高温に長時間晒された場合の酸化活性が向上した排ガス浄化用触媒を提供することにある。

本発明者らは、特許文献１とは異なるアプローチで、触媒貴金属の酸化活性の低下を抑制することを考えた。すなわち、本発明者らの鋭意検討によれば、触媒貴金属は、リーン雰囲気で活性の低い酸化状態になりやすい。一方で、触媒貴金属を担持する担体の酸性質は、触媒貴金属の電子状態に影響を及ぼす。そのため、アルミナの酸性質を変化させて酸点を増やすことで触媒貴金属を活性の高い電子リッチな状態（金属状態）に維持でき、耐久後も触媒貴金属の酸化活性の低下を抑制できると考えた。アルミナの酸点を増やす方法としては、ジルコニアを添加することが考えられる。ただし、酸点はアルミナとジルコニアとの界面で生成されると推定されるため、微細化したジルコニアがアルミナ表面に配置されることが必要である。

しかしながら、図１２に示すように、特許文献１、２に記載されるような従来の排ガス浄化用触媒１００Ｘでは、例えば製造方法に起因して、アルミナ３２Ｘの表面に配置されたジルコニア３４Ｘの平均粒径（二次粒子径）が、概ね１００ｎｍ以上、例えば１００～１０００ｎｍの大きさである。このように、従来技術ではジルコニア３４Ｘの粒径が大きく、アルミナとジルコニアとの界面が少ないため、本発明者らの調査によれば、アルミナ３２Ｘの酸点を増やす効果が得られていなかった。このような知見に基づき、本発明者らは、ジルコニア３４Ｘの平均粒径を従来よりも微細化し、アルミナ３２Ｘとジルコニア３４Ｘとの接点を増やすことで、アルミナ３２Ｘの酸点を増加させれば、触媒貴金属４０Ｘを金属の状態で維持しやすくなり、ひいては酸化活性の低下をさらに高いレベルで抑制できると考えた。そこで、本発明が創出された。

本発明により、アルミナ粒子と、上記アルミナ粒子の表面の少なくとも一部を被覆するジルコニアと、を含む母材と、上記母材に担持され、少なくともＰｔを含有する触媒貴金属とを含み、集束イオンビーム走査型電子顕微鏡によって求まる上記ジルコニアの平均粒径は、５０ｎｍ以下であり、上記Ｐｔに対する上記ジルコニアのモル比（ZrO2/Pt）は、８以上である、排ガス浄化用触媒［１］が提供される。

排ガス浄化用触媒［１］は、従来よりも微細化されたジルコニアを所定以上のモル比で含んでいる。これにより、ジルコニアを従来よりもアルミナ粒子の表面に高分散に配置でき、アルミナ粒子とジルコニアとの接点を増やすことができる。その結果、アルミナの酸点を増加させることができ、触媒貴金属（特にはＰｔ）を金属の状態（活性状態）で維持しやすくなる。したがって、本発明によれば、高温に長時間晒された場合であっても、従来よりも高いレベルで酸化活性の低下を抑制でき、優れた排ガス浄化性能（例えばＣＯ浄化性能）を発揮できる。

排ガス浄化用触媒［２］は、上記排ガス浄化用触媒［１］において、上記アルミナ粒子の表面から中心に向かって、電解放出型電子プローブマイクロアナライザを用いてＺｒの定量ライン分析を行って、表面を０％、中心を１００％として表面から中心までの深さを表した場合に、０～３０％の範囲内にＺｒ強度のピークトップが存在する。これにより、アルミナ粒子の表面に存在するジルコニアの割合が高くなり、アルミナの表面の酸点を効果的に増加させることができる。したがって、ここに開示される技術の効果をより高いレベルで発揮できる。

排ガス浄化用触媒［３］は、上記排ガス浄化用触媒［１］または［２］において、上記母材における上記ジルコニアの質量割合が、５質量％以上３０質量％以下である。これにより、アルミナの表面の酸点を、より効果的に増加させることができ、ここに開示される技術の効果をさらに高いレベルで発揮できる。

排ガス浄化用触媒［４］は、上記排ガス浄化用触媒［１］～［３］のいずれか１つにおいて、上記モル比（ZrO₂/Pt）が、３０以下である。これにより、凝集したジルコニア上に担持されるＰｔの割合を抑えられる。本発明者らの検討によれば、ジルコニア上に担持されたＰｔの活性は、アルミナ上に担持されたＰｔの活性よりも低いため、ZrO₂/Ptを上記範囲とすることで、ここに開示される技術の効果を高いレベルで発揮できる。

排ガス浄化用触媒［５］は、上記排ガス浄化用触媒［１］～［４］のいずれか１つにおいて、上記触媒貴金属が、Ｒｈを含まない。これにより、還元反応による排ガスの浄化との競合を避けて、酸化反応をスムーズに進行させることができ、排ガス中のＣＯをより高いレベルで浄化することができる。

排ガス浄化用触媒体［６］は、基材と、上記基材に設けられている触媒層と、を備え、上記触媒層が、上記排ガス浄化用触媒［１］～［５］のいずれか１つを含有する。これにより、高温に長時間晒された場合でも、優れた排ガス浄化性能（例えばＣＯ浄化性能）を発揮できる。

排ガス浄化用触媒体［７］は、上記排ガス浄化用触媒体［６］において、上記触媒層が、上記基材側に位置する下層部と、上記触媒層の表面側に位置する上層部と、を備え、上記下層部が、上記排ガス浄化用触媒［１］～［５］のいずれか１つを含有し、上記上層部が、上記下層部と異なる排ガス浄化用触媒を含有する。これにより、上記排ガス浄化用触媒の効果が高いレベルで発揮され、排ガス中に含まれる様々な有害成分を効率よく反応・除去できる。

排ガス浄化用触媒体［８］は、上記排ガス浄化用触媒体［６］において、上記触媒層が、排ガスの流れ方向において、上記触媒層の上流側に位置する前段部と、上記触媒層の下流側に位置する後段部と、を備え、上記後段部が、上記排ガス浄化用触媒［１］～［５］のいずれか１つを含有し、上記前段部が、上記後段部と異なる排ガス浄化用触媒を含有する。これにより、上記排ガス浄化用触媒の効果が高いレベルで発揮され、排ガス中に含まれる様々な有害成分を効率よく反応・除去できる。

図１は、本実施形態に係る排ガス浄化用触媒を模式的に示す断面図である。 図２は、本実施形態に係る排ガス浄化システムを示す模式図である。 図３は、図２の排ガス浄化用触媒体を模式的に示す斜視図である。 図４は、図３の排ガス浄化用触媒体を筒軸方向に切断した部分断面図である。 図５は、第１変形例に係る図４対応図である。 図６は、第２変形例に係る図４対応図である。 図７は、第３変形例に係る図４対応図である。 図８Ａは、実施例２のＦＩＢ－ＳＥＭ観察画像である。 図８Ｂは、比較例６のＦＩＢ－ＳＥＭ観察画像である。 図９は、実施例２のＦＥ－ＥＰＭＡのライン分析のチャートである。 図１０は、表１のＣＯ５０％浄化温度を比較したグラフである。 図１１は、表２のＣＯ５０％浄化温度を比較したグラフである。 図１２は、従来技術に係る排ガス浄化用触媒を模式的に示す断面図である。

以下、図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。また、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付し、重複する説明は省略又は簡略化することがある。各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は、実際の寸法関係を必ずしも反映するものではない。また、本明細書において範囲を示す「Ａ～Ｂ」（Ａ，Ｂは任意の数値）の表記は、Ａ以上Ｂ以下の意と共に、「好ましくはＡより大きい」および「好ましくはＢより小さい」の意を包含する。

≪排ガス浄化用触媒１００≫
図１は、本実施形態の排ガス浄化用触媒１００を模式的に示す断面図である。図１に示すように、排ガス浄化用触媒１００は、母材３０と、母材に担持された触媒貴金属４０と、を含む。詳しくは後述するが、母材３０は、アルミナ粒子３２と、アルミナ粒子３２の表面の少なくとも一部を被覆するジルコニア３４とを含む。図１に示すように、触媒貴金属４０は、アルミナ粒子３２と当接していることが好ましい。触媒貴金属４０は、ジルコニア３４とも当接していることがさらに好ましい。

触媒貴金属４０は、少なくとも白金（Ｐｔ）を含有する。触媒貴金属４０が、Ｐｔを含有することにより、酸化活性を向上でき、例えば排ガス中のＣＯを効率よく浄化できる。触媒貴金属４０は、例えばＰｔのみで構成されていてもよいし、Ｐｔに加えて酸化触媒であるＰｄを含んで構成されていてもよい。触媒貴金属４０は、ここに開示される技術の効果を顕著に阻害しない範囲内（例えば、触媒貴金属４０全体の１０質量％以下）で、Ｐｔおよび／またはＰｄ以外の貴金属（すなわち、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、イリジウム（Ｉｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、オスミウム（Ｏｓ））をさらに含有していてもよい。触媒貴金属４０は、還元触媒、例えばロジウム（Ｒｈ）を含まないことが好ましい。これにより、還元反応による排ガスの浄化との競合を避けて、酸化反応をスムーズに進行させることができ、例えば排ガス中のＣＯをより高いレベルで浄化することができる。

触媒貴金属４０は、Ｐｔを主体とすること（言い換えれば、５０質量％以上を占めること）が好ましい。触媒貴金属４０の全体に占めるＰｔの割合は、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは９５質量％以上であり、最も好ましくは１００質量％（すなわち、触媒貴金属４０がＰｔのみで構成されている）である。

触媒貴金属４０は、典型的には、粒子状である。触媒貴金属４０の平均粒径は、特に限定されない。排ガスとの接触面積を高める観点から、触媒貴金属４０は、十分に小さい粒径の微粒子であることが好ましい。触媒貴金属４０の平均粒径は、典型的にはジルコニア３４よりも小さく、例えば１５ｎｍ以下であり、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以下である。触媒貴金属４０の平均粒径は、例えば１ｎｍ以上であってよい。なお、触媒貴金属４０の平均粒径は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察により求められる、５０個以上の触媒貴金属４０の粒径の平均値（個数基準）として求めることができる。

触媒貴金属４０の担持量は、特に限定されず、例えば排ガス浄化用触媒１００を用いた排ガス浄化用触媒体の設計に応じて適宜決定することができる。触媒貴金属４０の担持量は、母材３０の質量を１００質量部としたときに、例えば０．０１質量部以上、好ましくは０．０５質量部以上、より好ましくは０．１質量部以上である。また、触媒貴金属４０の担持量は、母材３０の質量を１００質量部としたときに、例えば１０質量部以下、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下である。

母材３０は、図示されるように、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３、酸化アルミニウム）粒子３２と、アルミナ粒子３２の表面の少なくとも一部を被覆するジルコニア（ＺｒＯ_２、酸化ジルコニウム）３４とを含む。言い換えると、母材３０は、少なくとも一部の表面がジルコニア３４で被覆されたアルミナ粒子３２である。

母材３０の全体形状は特に限定されず、略球状、略楕円球状、不定形等であってよい。なお、本明細書において「略球状」とは、全体として概ね球体（ボール）と見なせる形態をいい、平均アスペクト比が、概ね１～２、例えば１～１．５であることをいう。

母材３０の平均粒径（典型的には二次粒子径）は特に限定されない。母材３０の平均粒径は、通常、触媒貴金属４０ないしジルコニア３４の平均粒径よりも大きく、例えば０．５μｍ以上であり、好ましくは１μｍ以上であり、より好ましくは３μｍ以上である。母材３０の平均粒径は、例えば２００μｍ以下であり、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは６０μｍ以下である。なお、母材３０の平均粒径は、レーザ回折・散乱法に基づく測定によって、メジアン径（Ｄ５０：体積基準）として求めることができる。

アルミナ粒子３２は、典型的には、母材３０の第１成分（質量基準で最も含有割合の高い成分）である。アルミナ粒子３２は、母材３０の主体となることが好ましい。アルミナ粒子３２は、実質的に（例えば、９５質量％以上が）Ａｌ_２Ｏ_３で構成されていてもよいし、ここに開示される技術の効果を顕著に阻害しない範囲内で、Ａｌ_２Ｏ_３以外の添加成分を含有していてもよい。添加成分の一例として、酸化ランタン（Ｌａ_２Ｏ_３）、Ｐｒ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３等の希土類元素の酸化物が挙げられる。なかでも、Ｌａ_２Ｏ_３が好ましい。すなわち、アルミナ粒子３２は、ランタン－アルミナ複合酸化物の粒子であってもよい。アルミナ粒子３２が希土類元素の酸化物を含有することで、排ガス浄化用触媒１００の耐熱性等を向上できる。

アルミナ粒子３２が希土類元素を含む場合、アルミナ粒子３２の全体に占める希土類元素の含有量は、酸化物換算で、例えば０．１質量％以上、０．５質量％以上、１質量％以上であってもよい。また、アルミナ粒子３２における希土類元素の含有量は、酸化物換算で、例えば２０質量％以下、１０質量％以下、５質量％以下である。アルミナ粒子３２の全体に占める希土類元素の含有量は、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）を用いた測定によって求めることができる。

アルミナ粒子３２の形状は、典型的には略球状である。ただし、アルミナ粒子３２の形状は特に限定されず、略楕円球状、不定形等であってよい。アルミナ粒子３２は、通常、一次粒子が凝集した二次粒子（凝集体）である。アルミナ粒子３２が二次粒子である場合には、大きな比表面積を確保することができる。しかしながら、アルミナ粒子３２は、一次粒子であってもよいし、一次粒子と二次粒子の混合物であってもよい。

ジルコニア３４は、図示されるように、微細な粒状であり、アルミナ粒子３２の表面上に点在している。ジルコニア３４は、アルミナ粒子３２の表面上において、一次粒子が凝集した二次粒子（凝集体）でありうる。本実施形態において、ジルコニア３４の平均粒径（典型的には二次粒子径）は、５０ｎｍ以下である。これにより、ジルコニア３４を従来よりもアルミナ粒子３２の表面上に高分散に配置でき、アルミナ粒子３２とジルコニア３４との接点を増やすことができる。その結果、アルミナ粒子３２の酸点を増加させることができ、触媒貴金属４０を金属の状態（活性状態）で維持しやすくなる。なお、ジルコニア３４の平均粒径は、集束イオンビーム走査型電子顕微鏡（ＦＩＢ－ＳＥＭ）によって得られるＳＥＭ観察画像から任意に選ばれる６個以上のジルコニア３４の円相当径（言い換えると、ヘイウッド径）を測定し、その平均値として求めることができる。平均粒径を求めるためには、少なくとも３００，０００倍の測定倍率で、ＳＥＭ観察を行うことが好ましい。円相当径および平均値の算出には、画像解析ソフト（例えば、ＩｍａｇｅＪ等）を使用してよい。

ジルコニア３４の平均粒径は、好ましくは５０ｎｍ未満であり、より好ましくは４０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下、特に好ましくは２５ｎｍ以下、例えば２１ｎｍ以下であるとよい。これにより、アルミナ粒子３２とジルコニア３４との接点がさらに増えて、アルミナ粒子３２の酸点を効果的に増加させることができる。ジルコニア３４の平均粒径は、概ね５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、例えば１５ｎｍ以上であるとよい。ＳＥＭで観察できるジルコニア３４の平均粒径（凝集体の二次粒子径）が所定値以上であると、アルミナ粒子３２の表面に充分量のジルコニア３４を高分散に配置できる。これにより、触媒貴金属４０の電子状態に影響を及ぼせるほど、アルミナ粒子３２の表面の酸点を効果的に増加させて、ここに開示される技術の効果を高いレベルで発揮できる。

本実施形態において、Ｐｔに対するジルコニア３４のモル比（ジルコニア３４／Ｐｔ）は、８以上である。これにより、ジルコニア３４の平均粒径が５０ｎｍ以下と微小化されている場合であっても、多くのＰｔが、ジルコニア３４に当接して、またはジルコニア３４の近傍に存在できるようになる。その結果、ジルコニア３４によって生成される酸点量がＰｔの担持量に対して充分量となり、Ｐｔの状態を好適に金属状態に維持できる。したがって、耐久後もＰｔの酸化活性の低下を抑制でき、優れた排ガス浄化性能（例えばＣＯ浄化性能）を維持できる。上記モル比（ジルコニア３４／Ｐｔ）は、概ね５０以下であるとよく、好ましくは３０以下であり、例えば２９以下である。これにより、凝集したジルコニア３４上に担持されるＰｔ（すなわち、活性低いＰｔ）の割合を抑えられ、ここに開示される技術の効果を高いレベルで発揮できる。

母材３０におけるジルコニアの質量割合、すなわち、母材３０の全質量（アルミナ粒子３２とジルコニア３４の合計質量）に対するジルコニアの質量割合は、概ね１質量％以上、例えば３質量％以上であり、好ましくは５質量％以上であるとよい。これにより、ジルコニア３４の分散度がより高まり、アルミナ粒子３２の表面の酸点を、より効果的に増加させることができる。一方、母材３０におけるジルコニアの質量割合は、好ましくは３０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以下であり、さらに好ましくは２１質量％以下である。これにより、凝集したジルコニア３４に担持されるＰｔ（すなわち、活性低いＰｔ）の割合を抑えられ、ここに開示される技術の効果を高いレベルで発揮できる。なお、母材３０におけるジルコニアの質量割合は、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）を用いた測定によって求めることができる。

ジルコニアは、アルミナ粒子３２の表面の酸点を効果的に増加させるために、アルミナ粒子３２の表面のみ、または、アルミナ粒子３２の表面およびその近傍に多く分布していることが好ましい。したがって、アルミナ粒子３２の表面から中心に向かって、電解放出型電子プローブマイクロアナライザ（ＦＥ－ＥＰＭＡ）を用いてＺｒの定量ライン分析を行って、表面を０％、中心を１００％として表面から中心までの深さを表した場合に、Ｚｒ強度のピークトップが、０～３０％の範囲内に存在することが好ましい。Ｚｒ強度のピークトップは、０～２５％の範囲内に存在することがより好ましく、０～２４％の範囲内に存在することが特に好ましい。

なお、ジルコニア３４の形状、個数等は、図示されたものに限られない。排ガス浄化用触媒１００において、ジルコニアは、典型的にはアルミナ粒子３２の表面にジルコニア３４として存在する。しかしながら、本発明の効果を顕著に阻害しない範囲内で、アルミナ粒子３２の内部にもジルコニアが存在していてもよい。例えば、後述のスプレードライ法によってアルミナ粒子３２の表面にジルコニア３４を被覆する場合、アルミナ粒子３２が二次粒子状であると一次粒子間の隙間から後述のジルコニア前駆体が入り込んで、アルミナ粒子３２の内部にもジルコニアが存在し得る。また、ジルコニア３４は、ここに開示される技術の効果を顕著に阻害しない範囲内（例えば、１０質量％以下）で、ＺｒＯ_２以外の添加成分を含有していてもよい。

≪排ガス浄化用触媒１００の製造方法≫
特に限定されるものではないが、排ガス浄化用触媒１００は、例えば、（Ｓ１）懸濁液調製工程と、（Ｓ２）スプレードライ工程と、（Ｓ３）焼成工程と、（Ｓ４）触媒貴金属担持工程とを、この順に含む方法により、次のようにして作製することができる。

（Ｓ１）懸濁液調製工程では、まず、ジルコニア３４の原料として、ジルコニア前駆体を用意する。ジルコニア前駆体は、Ｚｒイオンが溶媒中に十分に溶解した溶液（Ｚｒ溶液）の形態であることが好ましい。これにより、例えば特許文献１に開示される「ジルコニアゾル」を用いる方法と比べて、ジルコニア３４の平均粒径を相対的に小さく調整しやすくなり、５０ｎｍ以下の平均粒径を好適に実現できる。ジルコニア前駆体の一例として、溶媒に水を使用したオキシ硝酸ジルコニウム水和物が挙げられる。次いで、ジルコニア前駆体を、溶媒（例えば純水）中でアルミナ粒子３２と混合することにより、アルミナ粒子３２が分散され、かつジルコニア前駆体が溶解された懸濁液を調製する。

（Ｓ２）スプレードライ工程では、上記で調製した懸濁液を、噴霧乾燥装置でスプレードライする。スプレードライの条件は、スプレードライ法によって粒子を溶液の固形分で被覆する際に採用されている公知の条件を参考にして決定するとよい。これにより、アルミナ粒子３２の表面に、高度な分散状態でジルコニア前駆体が付着した粉体を得ることができる。スプレードライ法によれば、懸濁液を微細化した液滴として熱風中に噴霧し、瞬時に溶媒を蒸発させて粉末を得ることができるので、５０ｎｍ以下の平均粒径のジルコニア３４を好適に実現できる。なお、母材３０におけるジルコニアの質量割合は、懸濁液中のアルミナ粒子３２とジルコニア前駆体との濃度比を変化させることによって調整できる。また、溶媒を十分に除去するために、本工程の後に、さらに乾燥を行ってもよい。

（Ｓ３）焼成工程では、上記で得られた粉体を焼成する。これにより、ジルコニア前駆体（例えば、Ｚｒイオン）が、ジルコニア３４に変換される。焼成条件は、例えばジルコニア前駆体の種類に応じて適宜決定するとよい。これにより、少なくとも一部の表面がジルコニア３４で被覆されたアルミナ粒子３２（すなわち母材３０）を得ることができる。

（Ｓ４）触媒貴金属担持工程では、まず、少なくともＰｔを含む触媒貴金属源（例えば、Ｐｔをイオンとして含む溶液）と、母材３０とを、分散媒中で混合する。次いで、得られた混合液を乾燥する。そして、得られた乾燥物を、焼成する。これにより、母材３０に触媒貴金属４０を担持させることができる。すなわち、上記したような排ガス浄化用触媒１００を得ることができる。

≪排ガス浄化用触媒１００の使用≫
排ガス浄化用触媒１００は、典型的にはハニカム構造体等に担持されて使用される。排ガス浄化用触媒１００は、例えばストレートフロー型のハニカム構造体に担持することで、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ：Diesel Oxidation Catalyst）や、ＮＯｘ吸蔵還元触媒（ＮＳＲ：NOx Storage Reduction）、アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ：Ammonia Slip Catalyst）、の触媒成分として、好適に用いることができる。また、排ガス浄化用触媒１００は、例えばウォールフロー構造のハニカム構造体に担持することで、排ガスに含まれる粒子状物質（ＰＭ：Particulate matter）を除去するガソリンパティキュレートフィルタ（ＧＰＦ：Gasoline Particulate Filter）や、ディーゼルパティキュレートフィルタ（ＤＰＦ：Diesel Particulate Filter）に塗布する触媒成分として、好適に用いることができる。

≪排ガス浄化システム１≫
図２は、排ガス浄化システム１の模式図である。排ガス浄化システム１は、内燃機関（エンジン）２と、排ガス浄化装置３と、エンジンコントロールユニット（Engine Control Unit：ＥＣＵ）７と、を備えている。排ガス浄化システム１は、内燃機関２から排出される排ガスに含まれる有害成分、例えば、ＨＣ、ＣＯ、ＮＯｘ等を、排ガス浄化装置３で浄化するように構成されている。なお、図２等の矢印は、排ガスの流動方向を示している。また、以下の説明では、排ガスの流れに沿って、内燃機関２に近い側を上流側、内燃機関２から遠い側を下流側という。

内燃機関２は、ここではディーゼル車両のディーゼルエンジンを主体として構成されている。ただし、内燃機関２は、ディーゼル以外のエンジン、例えばガソリンエンジンや、ハイブリッド車に搭載されるハイブリッド系エンジン等であってもよい。内燃機関２は、燃焼室（図示せず）を備えている。燃焼室は、燃料タンク（図示せず）に接続されている。燃料タンクには、ここではディーゼル燃料（軽油）が貯留されている。ただし、燃料タンクに貯留される燃料は、ガソリン等であってもよい。燃焼室では、燃料タンクから供給された燃料が酸素と混合され、燃焼される。これにより、燃焼エネルギーが力学的エネルギーへと変換される。燃焼室は、排気ポート２ａに連通している。排気ポート２ａは、排ガス浄化装置３に連通している。燃焼された燃料ガスは、排ガスとなって排ガス浄化装置３に排出される。

排ガス浄化装置３は、内燃機関２と連通する排気経路４と、圧力センサ８と、第１触媒体１０と、第２触媒体１０Ｒｒと、を備えている。排気経路４は、排ガスが流動する排ガス流路である。排気経路４は、ここではエキゾーストマニホールド５と排気管６とを備えている。エキゾーストマニホールド５の上流側の端部は、内燃機関２の排気ポート２ａに連結されている。エキゾーストマニホールド５の下流側の端部は、排気管６に連結されている。排気管６の途中には、上流側から順に、第１触媒体１０と第２触媒体１０Ｒｒとが配置されている。ただし、第１触媒体１０と第２触媒体１０Ｒｒとの配置は任意に可変であってよい。また、第１触媒体１０と第２触媒体１０Ｒｒとの個数は特に限定されず、それぞれ複数個が設けられてもよい。また、第２触媒体１０Ｒｒは必須の構成ではなく、他の実施形態において省略することもできる。また、第２触媒体１０Ｒｒの下流側には、第３触媒体が配置されていてもよい。また、第２触媒体１０Ｒｒおよび／または第３触媒体は、それぞれ、１つであってもよく、２つ以上であってもよい。

第１触媒体１０は、上述の排ガス浄化用触媒１００を用いた排ガス浄化用触媒体の一例である。第１触媒体１０は、例えば、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）；ＮＯｘ吸蔵還元触媒（ＮＳＲ）；排ガスに含まれるＨＣ、ＣＯ、ＮＯｘを同時に浄化する三元触媒（ＴＷＣ：Three-Way Catalyst）；等でありうる。なお、以下では、第１触媒体１０を「排ガス浄化用触媒体」ということがある。第１触媒体（排ガス浄化用触媒体）１０の構成については、後に詳述する。

第２触媒体１０Ｒｒについては従来と同様でよく、特に限定されない。第２触媒体１０Ｒｒは、例えば、ディーゼルパティキュレートフィルタ（ＤＰＦ）；ＳＣＲ触媒；ガソリンパティキュレートフィルタ（ＧＰＦ）；等である。また、第２触媒体１０Ｒｒの下流側には、第３触媒体として、ＳＣＲ触媒；アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）；上流側から順に並んだ、ＳＣＲ触媒およびアンモニアスリップ触媒；等を含んでいてもよい。

ＥＣＵ７は、内燃機関２と排ガス浄化装置３とを制御する。ＥＣＵ７は、内燃機関２と、排ガス浄化装置３の各部位に設置されているセンサ（例えば、圧力センサ８や、温度センサ、酸素センサ等）とに、電気的に接続されている。なお、ＥＣＵ７の構成については従来と同様でよく、特に限定されない。ＥＣＵ７は、例えばプロセッサや集積回路である。ＥＣＵ７は、入力ポート（図示せず）と出力ポート（図示せず）とを備えている。ＥＣＵ７は、例えば、車両の運転状態や、内燃機関２から排出される排ガスの量、温度、圧力等の情報を受信する。ＥＣＵ７は、センサで検知された情報（例えば、圧力センサ８で計測された圧力）を、入力ポートを介して受信する。ＥＣＵ７は、例えば受信した情報に基づいて、出力ポートを介して制御信号を送信する。ＥＣＵ７は、例えば内燃機関２の燃料噴射制御や点火制御、吸入空気量調節制御等の運転を制御する。ＥＣＵ７は、例えば内燃機関２の運転状態や内燃機関２から排出される排ガスの量等に基づいて、排ガス浄化装置３の駆動と停止とを制御する。

≪排ガス浄化用触媒体１０≫
図３は、排ガス浄化用触媒体１０を模式的に示す斜視図である。排ガス浄化用触媒体１０は、上述の排ガス浄化用触媒１００を含む第１触媒体１０の一例である。図３では、相対的に内燃機関２に近い排気経路４の上流側が左側に表され、相対的に内燃機関２から遠い排気経路の下流側が右側に表されている。また、図３において、符号Ｘは、排ガス浄化用触媒体１０の筒軸方向を表している。排ガス浄化用触媒体１０は、筒軸方向Ｘが排ガスの流動方向に沿うように排気経路４に設置されている。筒軸方向Ｘは、排ガスの流動方向である。以下では、筒軸方向Ｘのうち、一の方向Ｘ１を上流側（排ガス流入側、フロント側ともいう。）といい、他の方向Ｘ２を下流側（排ガス流出側、リア側ともいう。）ということがある。ただし、これは説明の便宜上の方向に過ぎず、排ガス浄化用触媒体１０の設置形態を何ら限定するものではない。

排ガス浄化用触媒体１０は、基材１１と、基材１１に設けられている触媒層２０（図４参照）と、を備えている。排ガス浄化用触媒体１０は、基材１１および触媒層２０以外の部材を備えていてもよい。排ガス浄化用触媒体１０は、例えば触媒層２０以外の層をさらに有していてもよい。排ガス浄化用触媒体１０の一の方向Ｘ１の端部は排ガスの流入口１０ａであり、他の方向Ｘ２の端部は排ガスの流出口１０ｂである。排ガス浄化用触媒体１０の外形は、ここでは円筒形状である。ただし、排ガス浄化用触媒体１０の外形は特に限定されず、例えば、楕円筒形状、多角筒形状、パイプ状、フォーム状、ペレット形状、繊維状等であってもよい。

基材１１は、排ガス浄化用触媒体１０の骨組みを構成するものである。基材１１としては特に限定されず、従来のこの種の用途に用いられる種々の素材および形態のものが使用可能である。基材１１は、ここではストレートフロー構造である。ただし、他の実施形態において、基材は、例えばＧＰＦやＤＰＦとして排ガス浄化用触媒体を使用する場合等に、ウォールフロー構造であってもよい。この場合、触媒層は、基材の隔壁の表面上に形成することもできるし、基材の細孔内に形成することもできる。

基材１１は、例えば、コージェライト、チタン酸アルミニウム、炭化ケイ素等のセラミックスで構成されるセラミックス担体であってもよいし、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、Ｆｅ－Ｃｒ－Ａｌ系合金、Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ系合金等で構成されるメタル担体であってもよい。図３に示すように、基材１１は、ここではハニカム構造を有している。基材１１は、筒軸方向Ｘに規則的に配列された複数のセル（空洞）１２と、複数のセル１２を仕切る隔壁（リブ）１４と、を備えている。特に限定されるものではないが、基材１１の体積（セル１２の容積を含んだ見掛けの体積）は、概ね０．１～１０Ｌ、例えば０．５～５Ｌであってもよい。また、基材１１の筒軸方向Ｘに沿う平均長さ（全長）Ｌは、概ね１０～５００ｍｍ、例えば５０～３００ｍｍであってもよい。

セル１２は、排ガスの流路となる。セル１２は、筒軸方向Ｘに延びている。セル１２は、基材１１を筒軸方向Ｘに貫通する貫通孔である。セル１２の形状、大きさ、数等は、例えば、排ガス浄化用触媒体１０を流動する排ガスの流量や成分等を考慮して設計すればよい。セル１２の筒軸方向Ｘに直交する断面の形状は特に限定されない。セル１２の断面形状は、例えば、正方形、平行四辺形、長方形、台形等の四角形や、その他の多角形（例えば、三角形、六角形、八角形）、波形、円形等種々の幾何学形状であってよい。隔壁１４は、セル１２に面し、隣り合うセル１２の間を区切っている。特に限定されるものではないが、隔壁１４の平均厚み（表面に直交する方向の寸法。以下同じ。）は、機械的強度を向上する観点や圧損を低減する観点等から、概ね０．１～１０ｍｉｌ（１ｍｉｌは、約２５．４μｍ）、例えば０．２～５ｍｉｌであってもよい。隔壁１４は、排ガスが通過可能なように多孔質であってもよい。

触媒層２０は、排ガス中の有害成分を浄化する反応場である。触媒層２０は、多数の細孔（空隙）を有する多孔質体である。排ガス浄化用触媒体１０に流入した排ガスは、排ガス浄化用触媒体１０の流路内（セル１２）を流動している間に触媒層２０と接触する。これによって、排ガス中の有害成分が浄化される。

図４は、排ガス浄化用触媒体１０を筒軸方向Ｘに沿って切断した断面の一部を模式的に示す部分断面図である。触媒層２０は、ここでは基材１１の上、具体的には隔壁１４の表面に設けられている。ただし、触媒層２０は、その一部または全部が、隔壁１４の内部に浸透していてもよい。

触媒層２０は、上述の排ガス浄化用触媒１００を含有する。そのため、排ガス浄化用触媒１００は、必須の構成成分として、母材３０としてのアルミナ粒子３２およびジルコニア３４を含む。また、排ガス浄化用触媒１００は、触媒貴金属４０として少なくともＰｔを含む。排ガス浄化用触媒体１０は、典型的には排ガスに含まれるＣＯおよび／またはＨＣを酸化して、排ガスを浄化することができる。排ガス浄化用触媒１００は、高温に長時間晒された場合でも、従来よりも高いレベルで酸化活性を保つことができる。したがって、排ガス浄化用触媒１００は、優れた排ガス浄化性能（例えばＣＯおよび／またはＨＣの浄化性能）を発揮できる。

Ｐｔに対するジルコニア３４のモル比（ジルコニア３４／Ｐｔ）は、上記した排ガス浄化用触媒１００と同様である。基材１１の体積１Ｌ当たりの触媒貴金属４０（特にはＰｔ）のモル量は、例えば排ガス量や用途、触媒貴金属の種類等に応じて適宜決定することができ、特に限定されないが、例えば、０．００１モル／Ｌ以上、０．００２モル／Ｌ以上、０．００５モル／Ｌ以上であって、例えば、０．１モル／Ｌ以下、０．０５モルｇ／Ｌ以下、０．０１モル／Ｌ以下であってよい。また、基材１１の体積１Ｌ当たりのジルコニア３４のモル量は、特に限定されないが、例えば、０．０１モル／Ｌ以上、０．０２モルｇ／Ｌ以上、または０．０４モルｇ／Ｌ以上であってよく、また、例えば、１モルｇ／Ｌ以下、０．５モル／Ｌ以下、または０．２ｇ／Ｌ以下であってよい。

なお、本明細書において「基材１１の体積１Ｌ当たり」とは、基材１１（排ガス浄化用触媒体１０）の純体積にセル通路の容積も含めた全体の嵩容積（見かけ体積）１Ｌ当たりをいう。以下の説明において、「モル／Ｌ」は、基材の体積１Ｌに含まれる量（すなわち、モル／Ｌ―ｃａｔ．）を示し、「ｇ／Ｌ」は、基材の体積１Ｌに含まれる量（すなわち、ｇ／Ｌ―ｃａｔ．）を示す。

触媒層２０は、排ガス浄化用触媒１００以外の任意成分を含有していてもよい。任意成分の一例として、（１）ＯＳＣ材、（２）非ＯＳＣ材、（３）Ｐｔ以外の触媒金属を含むガス浄化用触媒、（４）アルカリ土類元素、（５）その他添加成分、が挙げられる。

（１）ＯＳＣ材は、酸素貯蔵能を有する材料である。触媒層２０がＯＳＣ材を含有する場合、車両の走行条件等によって排ガスの空燃比が変動したときでも、排ガス浄化用触媒体１０は、安定して優れた浄化性能を発揮することができる。ＯＳＣ材の一例として、セリアを含む複合酸化物、例えば、セリアとジルコニアとを含む複合酸化物（セリア－ジルコニア複合酸化物、いわゆる、ＣＺ複合酸化物またはＺＣ複合酸化物）等が挙げられる。ＯＳＣ材にジルコニアが含有されている場合には、セリアの熱劣化を抑制できることから、ＯＳＣ材としては、セリア－ジルコニア複合酸化物が好ましい。

ＯＳＣ材がセリアを含む複合酸化物である場合、その酸素吸蔵能を十分に発揮させる観点から、ＣＺ複合酸化物の全体に占めるセリアの含有率は、好ましくは１５質量％以上であり、より好ましくは２０質量％以上である。一方、セリアの含有率が高過ぎると、ＯＳＣ材の塩基性が高くなり過ぎるおそれがある。そのため、セリアの含有率は、好ましくは４０質量％以下であり、より好ましくは３０質量％以下である。

ＯＳＣ材は、特性（特に耐熱性と酸素吸放出特性等）の向上を目的として、希土類元素の酸化物を含んでいても良い。希土類元素の例としては、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等が挙げられる。希土類元素の酸化物の好適例としては、Ｐｒ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３が挙げられる。

基材１１の体積１Ｌ当たりのＯＳＣ材の量は、特に限定されないが、例えば、１０ｇ／Ｌ以上、２５ｇ／Ｌ以上、または５０ｇ／Ｌ以上であってよく、また、例えば、１５０ｇ／Ｌ以下、１００ｇ／Ｌ以下、または８０ｇ／Ｌ以下であってよい。

（２）非ＯＳＣ材は、酸素貯蔵能を有しない材料である。非ＯＳＣ材の一例として、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ等の酸化物が挙げられる。非ＯＳＣ材として用いられる酸化物には、耐熱性等を向上させるために、Ｐｒ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３等の希土類元素の酸化物が、少量（例えば、１質量％以上１０質量％以下）添加されていてもよい。耐熱性および耐久性に特に優れることから、非ＯＳＣ材は、Ａｌ_２Ｏ_３が好ましく、Ｌａ_２Ｏ_３が複合化されたＡｌ_２Ｏ_３（Ｌａ_２Ｏ_３－Ａｌ_２Ｏ_３複合酸化物；ＬＡ複合酸化物）であることがより好ましい。

基材１１の体積１Ｌ当たりの非ＯＳＣ材の量は、特に限定されないが、例えば、１０ｇ／Ｌ以上、２５ｇ／Ｌ以上、または５０ｇ／Ｌ以上であってよく、また、例えば、１５０ｇ／Ｌ以下、１００ｇ／Ｌ以下、または８０ｇ／Ｌ以下であってよい。

（３）Ｐｔ以外の触媒金属を含む排ガス浄化触媒は、任意の排ガス浄化用触媒である。触媒層２０では、上述の排ガス浄化用触媒１００と、Ｐｔ以外の任意の触媒金属を含む排ガス浄化用触媒と、が併用されていてもよい。特に、触媒層２０において、上述の排ガス浄化用触媒１００と、Ｐｔ以外の任意の触媒金属を含む排ガス浄化用触媒とを併用した場合には、排ガス浄化用触媒体１０は、排ガスに含まれるＣＯの浄化性能だけでなく、ＨＣおよび／またはＮＯｘの浄化性能にも優れたものとなりうる。

任意の排ガス浄化用触媒において、Ｐｔ以外の任意の触媒金属は、典型的には、担体に担持されている。担体の例としては、上記（１）ＯＳＣ材および／または上記（２）非ＯＳＣ材が挙げられる。担体は、上述の排ガス浄化用触媒１００に用いられる母材３０であってもよい。

いくつかの実施形態において、任意の触媒金属は、Ｒｈを含まないことが好ましい。いくつかの実施形態において、任意の触媒金属は、Ｐｔ以外の触媒貴金属、例えば、Ａｕ、Ｉｒ、Ｒｕ等であってもよい。また、他のいくつかの実施形態において、任意の触媒金属は、アルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属等、貴金属以外の金属種であってもよい。Ｐｔ以外の任意の触媒金属は、排ガスとの接触面積を高める観点から、十分に小さい粒径の微粒子として使用されることが好ましい。触媒金属の平均粒径（具体的には、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察により求められる、５０個以上の触媒金属の粒径の平均値）は、概ね１～１５ｎｍ、例えば１０ｎｍ以下、さらには５ｎｍ以下であるとよい。

排ガス浄化用触媒体１０における触媒金属の総量（Ｐｔ以外の触媒金属を含む場合は、合計量でありうる。）は、高い排ガス浄化性能の観点からは、例えば、０．０１ｇ／Ｌ以上、０．０５ｇ／Ｌ以上、０．１ｇ／Ｌ以上、０．５ｇ／Ｌ以上、１ｇ／Ｌ以上であってよい。排ガス浄化性能とコストとのバランスの観点からは、例えば、１５ｇ／Ｌ以下、１０ｇ／Ｌ以下、５ｇ／Ｌ以下、３ｇ／Ｌ以下、１．５ｇ／Ｌ以下であってよい。

（４）アルカリ土類元素としては、例えば、カルシウム（Ｃａ）やバリウム（Ｂａ）が挙げられる。アルカリ土類元素によって、触媒金属（特に酸化触媒）の被毒を抑制することができる。また、アルカリ土類元素によって、触媒金属の分散性が高められ、触媒金属の粒子成長に伴うシンタリングを抑制することができる。また、触媒層２０が、ＯＳＣ材と共にアルカリ土類元素を含む場合には、理論空燃比よりも燃料が薄いリーン雰囲気（酸素過剰雰囲気）において、ＯＳＣ材への酸素吸収量をさらに向上させることができる。アルカリ土類元素は、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酢酸塩、ギ酸塩、シュウ酸塩、ハロゲン化物等の形態で含有され得る。

（５）その他添加成分としては、ＮＯｘ吸蔵能を有するＮＯｘ吸蔵材、安定化剤、バインダ、各種添加剤等が挙げられる。ＮＯｘ吸蔵材としては、例えば、Ｃｅ等の希土類、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ等のアルカリ土類金属、Ｋ、Ｃｓ等のアルカリ金属、が挙げられる。安定化剤としては、例えば、イットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジウム（Ｎｄ）等の希土類元素が挙げられる。なお、希土類元素は、酸化物の形態で触媒層２０に存在しうる。バインダとしては、アルミナゾル、シリカゾル、ベーマイト等が挙げられる。

特に限定されるものではないが、触媒層２０のコート量（成形量）は、排ガス浄化用触媒体１０の体積（基材１１の体積）１Ｌあたり、概ね３０ｇ／Ｌ以上、典型的には５０ｇ／Ｌ以上、好ましくは７０ｇ／Ｌ以上、例えば１００ｇ／Ｌ以上であってよく、概ね５００ｇ／Ｌ以下、典型的には４００ｇ／Ｌ以下、例えば、３００ｇ／Ｌ以下であってもよい。上記範囲を満たすことにより、浄化性能の向上と圧損の低減とを高いレベルで兼ね備えることができる。なお、本明細書において「コート量」とは、排ガス浄化用触媒体１０の単位体積あたりに含まれる固形分の質量をいう。

触媒層２０の長さや厚みは、例えば、基材１１のセル１２の大きさや排ガス浄化用触媒体１０に流通する排ガスの流量等を考慮して適宜設計することができる。触媒層２０は、基材１１の隔壁１４に連続的に設けられていてもよく、断続的に設けられていてもよい。触媒層２０は、例えば、排ガスの流入口１０ａから筒軸方向Ｘに沿って設けられていてもよいし、排ガスの流出口１０ｂから筒軸方向Ｘに沿って設けられていてもよい。

特に限定されるものではないが、触媒層２０のコート厚み（平均厚み）は、概ね１～３００μｍ、典型的には５～２００μｍ、例えば１０～１００μｍである。これにより、浄化性能の向上と圧損の低減とを高いレベルで兼ね備えることができる。特に限定されるものではないが、触媒層２０の筒軸方向Ｘの全体のコート幅（平均長さ）は、基材１１の全長Ｌの概ね２０％以上、好ましくは５０％以上、典型的には８０％以上、例えば９０％以上であるとよく、基材１１の全長Ｌと同じ長さであってもよい。すなわち、排ガス浄化用触媒１００を、触媒層２０の一部の領域のみに含有させてもよい。

≪第１変形例≫
図５は、第１変形例に係る図４対応図である。排ガス浄化用触媒体１０Ａは、触媒層２０にかえて触媒層２０Ａを備えている。触媒層２０Ａは、相互に構成の異なる部分触媒層が厚み方向に２つ以上積層された積層構造である。具体的には、触媒層２０Ａは、基材１１側に位置する下層部２１と、下層部２１よりも触媒層２０Ａの表面側に位置する上層部２２とが、厚み方向に積層されて構成されている。ここでは、基材１１の表面に接するように下層部２１が設けられ、下層部２１の上面に接するように上層部２２が設けられている。なお、図５では触媒層２０Ａが２層構造であるが、触媒層２０Ａは、３層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、触媒層２０Ａは、下層部２１と上層部２２との間に中間層を有していてもよいし、触媒層２０Ａは、上層部２２の上にさらに別の層を有していてもよい。

積層構造の触媒層２０Ａでは、一方の部分触媒層が排ガス浄化用触媒１００を含有し、それ以外の層（２層構造の場合は、他方の部分触媒層）が、排ガス浄化用触媒１００以外の排ガス浄化用触媒を含有していてもよい。一好適例では、下層部２１が、排ガス浄化用触媒１００を含有している。一方、上層部２２は、排ガス浄化用触媒１００以外の排ガス浄化用触媒（例えば、上記した任意の排ガス浄化用触媒）を含有している。なお、下層部２１および上層部２２は、触媒層２０と同様に任意成分を含有していてもよい。

ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）では、下層部２１が、排ガスに含まれるＮОを浄化する、ＮＯの酸化層として機能しうる。そのため、下層部２１は、排ガス浄化用触媒１００を含有することが好ましい。下層部２１は、さらにアルカリ土類金属を含有していてもよい。一方、上層部２２は、排ガスに含まれるＨＣおよび／またはＣＯを浄化する、ＨＣおよび／またはＣＯ酸化層として機能しうる。そのため、上層部２２に含まれる排ガス浄化用触媒は、触媒金属として、Ｐｔおよび／またはＰｄを含有することが好ましい。上層部２２は、さらにアルカリ土類金属を含有していてもよい。

ＮＯｘ吸蔵還元触媒（ＮＳＲ）では、酸素過剰の雰囲気（リーン条件下）で、下層部２１が、ＮＯｘを吸蔵するＮＯｘ吸蔵層として機能しうる。そのため、下層部２１は、排ガス浄化用触媒１００を含有することが好ましい。下層部２１は、さらに、その他添加成分として上記したようなＮＯｘ吸蔵材を含有することが好ましい。一方、上層部２２は、燃料を多めに噴射した時に（リッチ条件下で）、ＨＣ、ＣＯを還元剤としてＮＯｘを浄化するＮＯｘ還元層として機能しうる。そのため、いくつかの実施形態において、上層部２２に含まれる排ガス浄化用触媒は、触媒金属として、Ｒｈを含有することが好ましい。また、他のいくつかの実施形態において、上層部２２に含まれる排ガス浄化用触媒は、触媒金属として、Ｐｔおよび／またはＰｄを含有することが好ましい。上層部２２は、さらにＣｅ等のＮＯｘ吸蔵材を含有することが好ましい。

アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）では、下層部２１が、ＮＨ_３酸化層として機能しうる。そのため、下層部２１は、排ガス浄化用触媒１００を含有することが好ましい。一方、上層部２２は、ＳＣＲ（Selective Catalytic Reduction）触媒層として機能しうる。そのため、上層部２２に含まれる排ガス浄化用触媒は、ＳＣＲの触媒成分として、ＣｕやＦｅを担持したゼオライト、または、バナジウムやタングステンを含む酸化物、を含有することが好ましい。

≪第２変形例≫
図６は、第２変形例に係る図４対応図である。排ガス浄化用触媒体１０Ｂは、第１変形例の触媒層２０にかえて触媒層２０Ｂを備えている。触媒層２０Ｂは、相互に構成の異なる部分触媒層が筒軸方向Ｘに２つ以上が並んだ構造である。具体的には、触媒層２０Ｂは、排ガスの流動方向において、上流側Ｘ１に位置する前段部２３と、前段部２３よりも下流側Ｘ２に位置する後段部２４と、を有する。ここでは、排ガスの流入口１０ａから筒軸方向Ｘに沿って前段部２３が設けられ、排ガスの流出口１０ｂから筒軸方向Ｘに沿って後段部２４が設けられている。

なお、図６では触媒層２０Ｂが、前段部２３と後段部２４で構成されているが、触媒層２０Ｂは、さらに他の（第３の）触媒層を有していてもよい。また図６では、前段部２３および後段部２４は、それぞれ基材１１の全長Ｌの５０％に当たる部分に設けられているが、各層の筒軸方向Ｘの長さは、相互に異なっていてもよい。また図６では、前段部２３および後段部２４は、それぞれ同じ厚みで設けられているが、相互に厚みが異なっていてもよい。また図６では、前段部２３および後段部２４は、それぞれ基材１１の表面に接するように設けられているが、例えば、前段部２３の一部が後段部２４の上面を覆うように設けられていてもよい。

触媒層２０Ｂでは、一方の部分触媒層が排ガス浄化用触媒１００を含有し、それ以外の層（２層構造の場合は、他方の部分触媒層）が、排ガス浄化用触媒１００以外の排ガス浄化用触媒を含有していてもよい。一好適例では、後段部２４が、排ガス浄化用触媒１００を含有している。一方、前段部２３は、排ガス浄化用触媒１００以外の排ガス浄化用触媒（例えば、上記した任意の排ガス浄化用触媒）を含有している。

ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）では、後段部２４が、ＮＯの酸化層として機能しうる。後段部２４の構成は、上記した第１変形例の下層部２１と同様であって良い。また、前段部２３は、ＨＣおよび／またはＣＯの酸化層として機能しうる。前段部２３の構成は、上記した第１変形例の上層部２２と同様であって良い。

≪第３変形例≫
図７は、第３変形例に係る図４対応図である。排ガス浄化用触媒体１０Ｃは、第２変形例の触媒層２０Ｂにかえて触媒層２０Ｃを備えている。前段部２３および後段部２４は、それぞれ、相互に構成の異なる部分触媒層が厚み方向に２つ以上積層された積層構造を有している。ただし、前段部２３および／または後段部２４は、第２変形例のごとく単層構造であってもよい。また、前段部２３および／または後段部２４は、３層以上の積層構造であってもよい。前段部２３は、ここでは前段下層２３ｄと、前段下層２３ｄの上に形成された前段上層２３ｕと、を備えている。後段部２４は、ここでは後段下層２４ｄと、後段下層２４ｄの上に形成された後段上層２４ｕと、を備えている。

触媒層２０Ｃでは、１つ以上（例えば１つ）の部分触媒層が排ガス浄化用触媒１００を含有し、それ以外の層が、排ガス浄化用触媒１００以外の排ガス浄化用触媒を含有していてもよい。一好適例では、後段下層２４ｄ（例えば、後段下層２４ｄのみ）が、排ガス浄化用触媒１００を含有している。一方、前段下層２３ｄ、前段上層２３ｕ、および後段上層２４ｕのうち１つ以上は、排ガス浄化用触媒１００以外の排ガス浄化用触媒（例えば、上記した任意の排ガス浄化用触媒）を含有している。前段下層２３ｄ、前段上層２３ｕ、および後段上層２４ｕは、同じ排ガス浄化用触媒を含有していてもよい。

アンモニアスリップ触媒（ＡＳＣ）では、後段下層２４ｄが、ＮＨ_３酸化層として機能しうる。後段下層２４ｄの構成は、例えば、上記した第１変形例の下層部２１と同様であって良い。また、前段下層２３ｄ、前段上層２３ｕ、および後段上層２４ｕは、ＳＣＲ触媒層として機能しうる。前段下層２３ｄ、前段上層２３ｕ、および後段上層２４ｕの構成は、例えば、上記した第１変形例の上層部２２と同様であって良い。

≪排ガス浄化用触媒体１０の用途≫
排ガス浄化用触媒体１０は、自動車やトラック等の車両や、自動二輪車や原動機付き自転車をはじめとして、船舶、タンカー、水上バイク、パーソナルウォータークラフト、船外機等のマリン用製品、草刈機、チェーンソー、トリマー等のガーデニング用製品、ゴルフカート、四輪バギー等のレジャー用製品、コージェネレーションシステム等の発電設備、ゴミ焼却炉等の内燃機関から排出される排ガスの浄化に好適に用いることができる。なかでも、自動車等の車両に対して好適に用いることができ、特に、ディーゼルエンジンを備える車両に対して好適に用いることができる。

以下、本発明に関する試験例を説明するが、本発明を以下の試験例に示すものに限定することを意図したものではない。

≪試験例Ｉ≫
〔母材１～４、６の作製〕
以降の実施例１～４で用いる母材１～４、および比較例２で用いる母材６を、スプレードライ法で作製した。具体的には、まず、ジルコニア前駆体としてのオキシ硝酸ジルコニウムと、アルミナ粉末とを、表１に示す質量割合となるように容器に入れ、純水を加えながら撹拌した。これにより、オキシ硝酸ジルコニウムが溶解し、アルミナ粉末が分散した懸濁液を調製した。なお、母材１では、ランタンを含まないアルミナ粉末を用い、母材２～４では、表１に示す質量割合でランタンを含むアルミナ粉末を用いた。また、アルミナ粉末としては、平均粒径（Ｄ５０）範囲が２７～４３μｍ、細孔容積が０．３～０．５５ｍｌ／ｇの粉末を用いた。

次いで、この懸濁液を、ノズル型のスプレードライ装置（大川原化工機製のＯＤＴ－８）を用いて、熱風中に微細化した液滴として噴霧し、瞬時に溶媒を蒸発させることで、アルミナ粉末の表面にオキシ硝酸ジルコニウムが付着した粒子を成形した。なお、スプレードライの条件は、入ガス温度２００℃、出ガス温度１１０℃、ポンプ流量２０ｃｃｍとした。次いで、得られた粉末を、電気炉にて１２０℃で８時間乾燥した後、５００℃で２時間焼成した。これにより、アルミナ粉末の表面にジルコニアを有する母材１～４、６を得た。

〔母材５の用意〕
以降の比較例１で用いる母材５として、表１に示す質量割合となるようにランタンを含むアルミナ粉末を用意した。母材５は、アルミナの表面にジルコニアが被覆されていない母材である。

〔母材７の作製〕
以降の比較例３で用いる母材７では、アルミナの表面に共沈でジルコニアを配置した。具体的には、まず、上記と同じオキシ硝酸ジルコニウムとアルミナ粉末を、表１に示す質量割合となるように容器に入れ、純水を加えながら撹拌した。これにより、オキシ硝酸ジルコニウムが溶解し、アルミナ粉末が分散した懸濁液を調製した。次いで、この懸濁液に対して、懸濁液がアルカリ性になるように、アンモニア水を添加して、共沈を行った。そして、沈殿物を回収し、電気炉にて２００℃で２時間乾燥した後、５００℃で２時間焼成した。これにより、アルミナ粉末の表面にジルコニアを有する母材７を得た。

〔母材８、９の作製〕
以降の比較例４，５で用いる母材８、９は、特許文献２に開示されるような蒸発乾固法で作製した。具体的には、母材８については、まず、市販の硝酪セリウムを純水に溶解後、上記と同じアルミナ粉末を加えて撹拌した。これにより、硝酪セリウムが溶解し、アルミナ粉末が分散した懸濁液を調製した。次いで、この懸濁液を、電気炉にて１２０℃で８時間、蒸発乾固させた後、５００℃で２時間焼成した。これにより、アルミナ粉末の表面にセリアを有する母材８を得た。

母材９については、まず、市販のオキシ硝酸ジルコニウムを純水に溶解後、上記と同じアルミナ粉末を加えて撹拌した。これにより、オキシ硝酸ジルコニウムが溶解し、アルミナ粉末が分散した懸濁液を調製した。次いで、この懸濁液を、電気炉にて１２０℃で８時間、蒸発乾固させた後、５００℃で２時間焼成した。これにより、アルミナ粉末の表面にジルコニアを有する母材９を得た。

〔母材１０の作製〕
以降の比較例６で用いる母材１０は、特許文献１に開示されるような蒸発乾固法で作製した。具体的には、まず、市販のジルコニアゾル（ＺｒＯ_２の平均粒径（Ｄ５０）範囲が６０～８０ｎｍ）を純水で希釈後、上記と同じアルミナ粉末を加えて撹拌した。これにより、ジルコニアゾルおよびアルミナ粉末が分散した懸濁液を調製した。次いで、この懸濁液を、電気炉にて１２０℃で８時間乾燥した後、５００℃で２時間焼成した。これにより、アルミナ粉末の表面にジルコニアを有する母材１０を得た。

［ＸＲＦによる元素分析］
上記作製した母材１～１０に対し、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ、スペクトリス社製のMalvern Panalytical Axios）を用いて、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３の組成割合（質量％）を求めた。なお、測定条件は、Ｘ線出力：２．４ｋＷ、加速電圧：３０ｋＶ、電流値：８０ｍＡとし、ＦＰ法により割合を算出した。結果を表１に示す。

〔排ガス浄化用触媒（実施例１～４、比較例１～６）の作製〕
母材１～１０にそれぞれ触媒貴金属を担持して、排ガス浄化用触媒を作製した。具体的には、まず、表１に示す母材１～１０（８９．９ｇ）を、それぞれ純水に分散させた後、ジニトロジアンミン白金(II)硝酸溶液を、表１に示すモル比となるように、Ｐｔ換算で１．０ｇ分、添加した。これにより、ジニトロジアンミン白金が溶解し、母材が分散した懸濁液を調製した。次いで、この懸濁液を、電気炉にて乾燥した後、５００℃で１時間焼成した。このようにして、母材にＰｔを担持し、各例の排ガス浄化用触媒を得た。

［ＦＩＢ－ＳＥＭ観察］
上記作製した排ガス浄化用触媒のうち、実施例１～４、比較例２、３，６について、集束イオンビーム走査型電子顕微鏡（ＦＩＢ－ＳＥＭ：ＪＥＯＬ製のJXA-8530F）で観察した。測定条件は、加速電圧：７ｋＶまたは３ｋＶ、電流値：０．４ｎＡ、ＷＤ：４ｍｍとした。一例として、実施例２と比較例６の排ガス浄化用触媒のＦＩＢ－ＳＥＭ観察画像（測定倍率３００，０００倍）を、図８Ａ、図８Ｂにそれぞれ示す。

例えば図８Ａに示すように、母材の作製時（ジルコニアの被覆時）にスプレードライ法を採用した実施例１～４、比較例２では、測定倍率３００，０００倍で観察した場合に、アルミナ粒子の表面に微細なジルコニアが配置されているのが確認できた。一方、例えば図８Ｂに示すように、従来法である共沈や蒸発乾固法を採用した比較例３，６では、アルミナ粒子の表面に粗大なジルコニアが配置され、微細なジルコニアが殆ど見られなかった。

次いで、測定倍率３００，０００倍のＳＥＭ観察画像において、任意に６個以上のジルコニアを選択し、その円相当径（すなわち、ヘイウッド径）を求めた。そして、円相当径の平均値（すなわち、ジルコニアの平均粒径の値）を算出した。結果を表１に示す。なお、比較例２は、ＳＥＭではジルコニアを粒子として検出できず、平均粒径の算出が困難だった。この理由として、アルミナ粒子の表面に微細なジルコニアが分散しているジルコニアの量が少ないために、検出できなかったことが考えられる。したがって、比較例２の円相当径は、検出限界以下（１ｎｍ以下）と推定された。

［ＦＥ－ＥＰＭＡによるライン分析］
上記作製した排ガス浄化用触媒のうち、ジルコニアを含む実施例１～４、比較例２、３，５，６について、電解放出型電子プローブマイクロアナライザ（ＦＥ－ＥＰＭＡ、ＦＥＩ製のHelios G4UX）を用いて、Ｚｒの定量ライン分析を行った。具体的には、まず、アルミナ粒子を断面出しして測定試料を作製した。次いで、ＦＥ－ＥＰＭＡを用い、「Al Level」のIntensityの上限を３０００に設定して、Ａｌのマッピング像を取得した。そして、ＡｌのIntensityが５００以上の領域を、排ガス浄化用触媒の粒子が存在する領域とした。

次いで、「Zr Level」のIntensityの上限を３００に設定して、ＺｒのIntensityが３０以上を検出範囲に設定した。次いで、排ガス浄化用触媒の粒子が存在する領域に対し、粒子の直径でＺｒの定量ライン分析を行った。一例として、実施例２の排ガス浄化用触媒のライン分析のチャートを図９に示す。そして、このようなチャートで、Ａｌ強度の閾値を５００として粒子の直径を算出し、１／２して、半径（表面から中心まで）とした。次に、Ｚｒ強度の閾値を３０として、粒子の表面を０％、中心を１００％としたときのＺｒの位置を調べ、粒子の表面から何％の位置にＺｒ強度のピークトップがあるかを求めた。結果を表１に示す。なお、比較例２は、ジルコニアの添加量が少なかったため、Zr levelのIntensityが小さすぎて、ピークトップが判別できなかった。また、共沈で作製した比較例３は、粗大なジルコニアが生成されているために、アルミナ粒子の位置の範囲外にジルコニアのピークトップ位置が現れてしまい、アルミナ粒子の位置に対するＺｒのピークトップ位置を算出できなかった。

〔排ガス浄化用触媒体（実施例１～４、比較例１～６）の作製〕
上記作製した排ガス浄化用触媒を用いて、排ガス浄化用触媒体を作製した。具体的には、まず、基材として、コージェライト製のハニカム基材（全長：２．５ｃｍ、直径Φ：３ｃｍ、体積：０．０１７６Ｌ、隔壁厚み：６ｍｉｌ、セル数：４００ｃｐｓｉ）を用意した。

次いで、各例につき、上記作製した排ガス浄化用触媒５０ｇと、バインダとしてのベーマイト６ｇとを、純水１００ｇ中に添加して撹拌し、触媒層形成用のスラリーを調製した。このスラリーを、ウォッシュコート法により基材上に塗布した。なお、各例につき、スラリーのコート量は９８ｇ／Ｌとし、Ｐｔは１．０ｇ／Ｌとし、母材（アルミナ粉末とジルコニアの合計）は８９．８ｇ／Ｌとし、バインダは７．２ｇ／Ｌとした。なお、表１には、モル換算の含有量（ｇ／Ｌ）およびモル比（ジルコニア／Ｐｔ）を併記している。次いで、スラリーが付着した基材を、電気炉内にて乾燥後、５００℃で１時間焼成した。このようにして、基材上に、排ガス浄化用触媒を含有する触媒層を設け、各例の排ガス浄化用触媒体を得た。

［耐久性評価（ＣＯ－Ｔ５０の測定）］
まず、各例の排ガス浄化用触媒体（体積０．０１８Ｌ）を、チャンバー型電気炉内に設置し、大気雰囲気下にて７５０℃で５０時間熱処理し、耐久処理した。次いで、耐久処理後の排ガス浄化用触媒体を、活性評価装置にセットした。そして、装置内に以下の成分を含むモデルガスを１４．８Ｌ／ｍｉｎの流速で流しながら、１００℃から５００℃まで２０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温した。この昇温時に、ＣＯの浄化率が５０％に到達する温度（ＣＯ５０％浄化温度：ＣＯ－Ｔ５０）を測定した。結果を表１および図１０に示す。
＜モデルガスの成分＞
ＣＯ ８００ｐｐｍ
Ｃ_３Ｈ_６ ３０００ｐｐｍＣ
ＮＯ ２００ｐｐｍ
Ｏ_２ ８％
ＣＯ_２ ７％
Ｈ_２Ｏ ７％

表１および図１０に示すように、モル比（ジルコニア／Ｐｔ）が８未満である比較例２は、ジルコニアが被覆されていない比較例１と、５０時間耐久処理した後のＣＯ５０％浄化温度が略同じであり、ジルコニアを被覆した効果が認められなかった。また、比較例３は、ジルコニアが被覆されていない比較例１よりもＣＯ５０％浄化温度が悪かった。この理由としては、ジルコニアの粒径が大きいために、アルミナとの接点が少なく、アルミナ酸性質の変化が小さかったことや、凝集したジルコニアに担持されたＰｔ（活性低いＰｔ）の割合が増えたこと等が考えられる。

また、特許文献２に係る比較例５および、特許文献１に係る比較例６は、ジルコニアが被覆されていない比較例１とＣＯ５０％浄化温度が略同じで、ジルコニアを被覆した効果が十分発揮されていなかった。この理由としては、オキシ硝酸ジルコニウムを蒸発乾固法で付着させた場合、アルミナ粒子の表面と内部の全体にジルコニアが配置されるため、アルミナ粒子の表面に配置されるジルコニアの量が少なくなり、ガス接触確率の高い粒子表面で酸性質の変化が少なかったことが考えられる。また、ジルコニアゾルを蒸発乾固した場合、表面に配置されるジルコニアが少ないことに加えて、表面に配置されるジルコニアの粒径が大きくなったために、粒子表面でのアルミナ粒子との接点が少なくなり、ガス接触確率の高い粒子表面の酸性質の変化が少なかったことが考えられる。

また、特許文献２に係る比較例４でも、ジルコニアが被覆されていない比較例１よりもＣＯ５０％浄化温度が悪かった。このことから、添加元素がセリアであっても、比較例５，６と同様の理由で、効果が十分発揮されなかったことが考えられる。

これら比較例１～６に対して、平均粒径が従来よりも微細な５０ｎｍ以下のジルコニアを、モル比（ジルコニア／Ｐｔ）が８以上となるように含ませた実施例１～４では、ＣＯ５０％浄化温度が明確に向上していた。とりわけ、ジルコニアの平均粒径が４０ｎｍ以下の実施例１～３、さらには、ジルコニアの平均粒径が２５ｎｍ以下の実施例１，２では、ＣＯ５０％浄化温度が顕著に向上していた。これらの結果は、ここに開示される技術の意義を示すものである。

≪試験例ＩＩ≫
〔排ガス浄化用触媒体（実施例５～７、比較例７～９）の作製〕
実施例５，６および比較例７，８では、触媒貴金属として、Ｐｔに加えてＰｄを使用した。すなわち、実施例５，６および比較例７，８では、表１に示す母材２，５（８９．９ｇ）を、それぞれ純水に分散させた後、ジニトロジアンミン白金(II)硝酸溶液を、Ｐｔ換算で１．０ｇ分、添加し、さらに、硝酸パラジウム溶液を、Ｐｄ換算で０．２ｇ分あるいは０．５ｇ分、添加した。このこと以外は上記試験例Ｉと同様に、排ガス浄化用触媒と、それを用いた排ガス浄化用触媒体を作製し、評価を行った。ＣＯ５０％浄化温度の評価結果を表２および図１１に示す。

表２および図１１に示すように、実施例５，６は、比較例７，８のＣＯ５０％浄化温度をもれなく上回っていた。したがって、触媒貴金属として、Ｐｔに加えてＰｄを使用した場合でも、ここに開示される技術の効果が適切に発揮されることがわかった。また詳細は省略するが、触媒貴金属として、ＰｔにかえてＰｄのみを使用した場合は、ＣＯ５０％浄化温度の改善幅が相対的に小さくとどまった。したがって、ここに開示される技術の効果は、触媒貴金属が少なくともＰｔを含む場合に、とりわけ顕著に発揮されることがわかった。

以上、本発明のいくつかの実施形態について説明したが、上記実施形態は一例に過ぎない。本発明は、種々の形態にて実施することができる。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。請求の範囲に記載の技術には、上記に例示した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。

１ 排ガス浄化システム
２ 内燃機関
３ 排ガス浄化装置
１０ 第１触媒体（排ガス浄化用触媒体）
１１ 基材
２０ 触媒層
３０ 母材
３２ アルミナ粒子
３４ ジルコニア
４０ 触媒貴金属
１００ 排ガス浄化用触媒

Claims (7)

1. アルミナ粒子と、前記アルミナ粒子の表面の少なくとも一部を被覆するジルコニアと、を含む母材と、
   前記母材に担持され、少なくともＰｔを含有する触媒貴金属と、
   を含み、
   集束イオンビーム走査型電子顕微鏡によって求まる前記ジルコニアの平均粒径は、５０ｎｍ以下であり、
   前記Ｐｔに対する前記ジルコニアのモル比（ZrO₂/Pt）は、８以上であり、
   前記アルミナ粒子の表面から中心に向かって、電解放出型電子プローブマイクロアナライザを用いてＺｒの定量ライン分析を行って、表面を０％、中心を１００％として表面から中心までの深さを表した場合に、０～３０％の範囲内にＺｒ強度のピークトップが存在する、
   排ガス浄化用触媒。
2. 前記母材における前記ジルコニアの質量割合が、５質量％以上３０質量％以下である、請求項１に記載の排ガス浄化用触媒。
3. 前記モル比（ZrO₂/Pt）が、３０以下である、
   請求項１または２に記載の排ガス浄化用触媒。
4. 前記触媒貴金属が、Ｒｈを含まない、
   請求項１または２に記載の排ガス浄化用触媒。
5. 基材と、前記基材に設けられている触媒層と、を備え、
   前記触媒層が、請求項１または２に記載の排ガス浄化用触媒を含有する、
   排ガス浄化用触媒体。
6. 前記触媒層が、
   前記基材側に位置する下層部と、
   前記触媒層の表面側に位置する上層部と、を備え、
   前記下層部が、請求項１または２に記載の排ガス浄化用触媒を含有し、
   前記上層部が、前記下層部と異なる排ガス浄化用触媒を含有する、
   請求項５に記載の排ガス浄化用触媒体。
7. 前記触媒層が、排ガスの流れ方向において、
   前記触媒層の上流側に位置する前段部と、
   前記触媒層の下流側に位置する後段部と、を備え、
   前記後段部が、請求項１または２に記載の排ガス浄化用触媒を含有し、
   前記前段部が、前記後段部と異なる排ガス浄化用触媒を含有する、
   請求項５に記載の排ガス浄化用触媒体。

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