JP7431078B2 - 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ - Google Patents
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Description
本発明は、光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタに関する。
CCD（Charge Coupled Device）又はCMOS（Complementary Metal Oxide Semiconductor）等の固体撮像素子を用いた撮像装置において、良好な色再現性を有する画像を得るために様々な光学フィルタが固体撮像素子の前面に配置されている。一般的に、固体撮像素子は紫外線領域から赤外線領域に至る広い波長範囲で分光感度を有する。一方、人間の視感度は可視光の領域のみに存在する。このため、撮像装置における固体撮像素子の分光感度を人間の視感度に近づけるために、固体撮像素子の前面に赤外線又は紫外線の一部の光を遮蔽する光学フィルタを配置する技術が知られている。
従来、そのような光学フィルタとしては、誘電体多層膜による光反射を利用して赤外線又は紫外線を遮蔽するものが一般的であった。一方、近年、光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタが注目されている。光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタの透過率特性は入射角の影響を受けにくいので、撮像装置において光学フィルタに斜めに光が入射する場合でも色味の変化が少ない良好な画像を得ることができる。また、光反射膜を用いない光吸収型の光学フィルタは、光反射膜による多重反射を原因とするゴーストやフレアの発生を抑制することができるので、逆光状態や夜景の撮影において良好な画像を得やすい。加えて、光吸収剤を含有する膜を備えた光学フィルタは、撮像装置の小型化及び薄型化の点でも有利である。
そのような光吸収剤として、ホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤が知られている。例えば、特許文献１には、フェニル基又はハロゲン化フェニル基を有するホスホン酸（フェニル系ホスホン酸）と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含有する光吸収層を備えた、光学フィルタが記載されている。
また、特許文献２には、赤外線及び紫外線を吸収可能なＵＶ‐ＩＲ吸収層を備えた光学フィルタが記載されている。ＵＶ‐ＩＲ吸収層は、ホスホン酸と銅イオンとによって形成されたＵＶ‐ＩＲ吸収剤を含んでいる。光学フィルタが所定の光学特性を満たすように、ＵＶ‐ＩＲ吸収性組成物は、例えば、フェニル系ホスホン酸と、アルキル基又はハロゲン化アルキル基を有するホスホン酸（アルキル系ホスホン酸）とを含有している。
また、特許文献３には、所定の有機色素を含有している有機色素含有層と、ホスホン酸銅含有層とを備えた赤外線カットフィルタが記載されている。
撮像素子の分光感度を人間の視感度に適合させるためには、紫外線領域及び近赤外線領域において十分な光吸収特性を有する部材を使用することが重要である。例えば、特許文献１～３に記載されているように、特定の種類のホスホン酸と、銅成分等の金属成分とを含む光吸収性化合物を樹脂に含有させて得られた組成物を板状に成形して作製される光吸収フィルタを使用することが考えられる。一方、環境配慮の観点から、電子部品又はその周辺に配置される部品におけるハロゲンの含有量を制限する規定が策定されている。このため、光吸収フィルタにおいてもハロゲンの含有量が少ないことが有利である。特許文献１～３に記載の技術は、このような観点から再検討の余地を有する。
このような事情に鑑み、本発明は、環境に配慮しつつ人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい光吸収特性を有するために有利な光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタを提供する。
本発明は、
光吸収性組成物であって、
ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含有しており、
前記紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する、
光吸収性組成物を提供する。
光吸収性組成物であって、
ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含有しており、
前記紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する、
光吸収性組成物を提供する。
また、本発明は、
ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含有しており、
前記紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する、
光吸収膜を提供する。
ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含有しており、
前記紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する、
光吸収膜を提供する。
また、本発明は、上記の光吸収膜を備えた、光学フィルタを提供する。
上記の光吸収性組成物は、環境に配慮しつつ人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい光吸収特性を有するために有利である。加えて、上記の光吸収膜及び上記の光学フィルタは、環境に配慮されており、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい光吸収特性を有しやすい。
以下、本発明の実施形態について説明する。なお、以下の説明は、本発明の例示に関するものであり、本発明は以下の実施形態に限定されない。
本発明に係る光吸収性組成物は、光吸収性化合物と、紫外線吸収性化合物とを含有している。光吸収性化合物は、ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む。紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する。ハロゲンによって置換されていないアリール基、ハロゲンによって置換されていないアルキル基の一例として、アリール基又はアルキル基に含まれる水素原子がハロゲン原子と置換されないアリール基又はアルキル基が挙げられる。また、光吸収性化合物は、ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と銅成分とを含む光吸収性化合物と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と銅成分とを含む光吸収性化合物とを含んでいてもよい。
光吸収性化合物におけるホスホン酸がハロゲンを有しないことにより、環境に配慮した光吸収性組成物を提供できる。また、この光吸収性組成物を用いて作製された光学フィルタと、このような光学フィルタを備えたカメラモジュール及び撮像装置等の製品が環境に配慮した製品として取り扱われうる。例えば、国際電気標準会議（IEC）、米国電子回路工業協会（IPC）、及び日本電子回路工業会（JPCA）は、環境配慮の観点から、電子部品におけるハロゲンの含有量を質量基準で下記の通りと定める規定を策定している。光吸収性組成物及びこの光吸収性組成物を用いて作製された製品は、このような規定に適合しうる。
Ｃｌ（塩素）の含有量≦９００parts per million(ppm)
Ｂｒ（臭素）の含有量≦９００ppm
Ｃｌ（塩素）の含有量とＢｒ（臭素）の含有量との和≦１５００ppm
Ｃｌ（塩素）の含有量≦９００parts per million(ppm)
Ｂｒ（臭素）の含有量≦９００ppm
Ｃｌ（塩素）の含有量とＢｒ（臭素）の含有量との和≦１５００ppm
可視光領域より短波長側に位置する波長領域の光である、紫外線領域の光の遮蔽性を良好にするために、ハロゲンによって置換されたアリール基又はハロゲンによって置換されたアルキル基を有するホスホン酸を含む化合物の使用が有利であると考えられていた。一方、本発明に係る光吸収性組成物において、光吸収性化合物におけるホスホン酸がハロゲンを有しないことにより低下した紫外線領域の光の遮蔽性を、上記の紫外線吸収剤を使用することによって補完できることが新たに見出された。
本発明に係る光吸収性組成物を硬化させて得られる光吸収膜の０度の入射角度における透過スペクトルは、例えば、下記（ｉ）、（ii）、（iii）、（iv）、及び（ｖ）の条件を満たす。
（ｉ）波長３００～３５０ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 300-350が１％以下である。
（ii）波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の平均値ＴA 450-600が７５％以上である。
（iii）波長７５０～１２００ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 750-1200が１０％以下である。
（iv）波長３５０～５００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第一カットオフ波長λUVが３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下である。
（ｖ）波長５５０～７００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第二カットオフ波長λIRが５６０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下である。
（ｉ）波長３００～３５０ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 300-350が１％以下である。
（ii）波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の平均値ＴA 450-600が７５％以上である。
（iii）波長７５０～１２００ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 750-1200が１０％以下である。
（iv）波長３５０～５００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第一カットオフ波長λUVが３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下である。
（ｖ）波長５５０～７００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第二カットオフ波長λIRが５６０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下である。
（ｉ）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、紫外線領域において良好な遮蔽性を発揮し、光吸収膜の透過スペクトルは、波長３００～３５０ｎｍにおいて実質的に感度を有さない点で、人間の比視感度曲線（視感度スペクトル）と同様の性質を有する。最大値ＴM
300-350は、望ましくは０．５％以下であり、より望ましくは０．２％以下である。人間の比視感度曲線とは、国際照明委員会（ＣＩＥ）によって規定された明所視標準比視感度を表す曲線である。
（ii）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、可視光領域において良好な透過性を有し、例えば、撮像素子に到達する光量が大きくなりやすい。平均値ＴA
450-600は、望ましくは７８％以上である。
（iii）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、近赤外線領域において良好な遮蔽性を発揮し、光吸収膜の透過スペクトルは、波長７５０～１２００ｎｍにおいて実質的に感度を有さない点で、人間の比視感度曲線（視感度スペクトル）と同様の性質を有する。最大値ＴM
750-1200は、望ましくは８％以下であり、より望ましくは６％以下である。
第一カットオフ波長λUVは、光吸収膜において光が透過する波長範囲の下限に相当すると理解される。（iv）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、人間の目が認識できない光のうち紫外線に属する光を遮蔽することができる。
第二カットオフ波長λIRは、光吸収膜において光が透過する波長範囲の上限に相当すると理解される。（ｖ）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、人間の目が認識できない光のうち赤外線に属する光を遮蔽することができるとともに、波長λIRは、波長５５５ｎｍのときの比視感度値Ｖ（５５５）＝１とした人間の視感度曲線において比視感度値Ｖ（λ）＝０．５に対応する波長に近くなり、光吸収膜の透過スペクトルが比視感度曲線と同様の性質を有し好適である。
０度の入射角度における光吸収膜の透過スペクトルは、例えば、下記（vi）の条件をさらに満たす。
（vi）波長５５０～６５０ｎｍにおいて透過率が６０％となる波長λ60%が５７０ｎｍ以上６１０ｎｍ以下である。
（vi）波長５５０～６５０ｎｍにおいて透過率が６０％となる波長λ60%が５７０ｎｍ以上６１０ｎｍ以下である。
（vi）の条件は、（ｖ）の条件を補足する条件と理解される。（vi）の条件が満たされることにより、波長λ60%は、人間の視感度曲線において比視感度値Ｖ（λ）＝０．６に対応する波長に近くなり、光吸収膜の透過スペクトルが比視感度曲線と同様の性質を有し好適である。波長λ60%は、望ましくは５８０ｎｍ以上６００ｎｍ以下である。
０度の入射角度における光吸収膜の透過スペクトルは、例えば、下記（vii）の条件をさらに満たす。
（vii）波長６５０ｎｍにおける透過率Ｔ650が３０％以下であり、波長７００ｎｍにおける透過率Ｔ700が７％以下であり、透過率Ｔ700に対する透過率Ｔ650の比（Ｔ650／Ｔ700）が３以上８以下である。
（vii）波長６５０ｎｍにおける透過率Ｔ650が３０％以下であり、波長７００ｎｍにおける透過率Ｔ700が７％以下であり、透過率Ｔ700に対する透過率Ｔ650の比（Ｔ650／Ｔ700）が３以上８以下である。
（vii）の条件は、光吸収膜において光が透過する波長範囲の上限よりわずかに長い波長を有する範囲における透過スペクトルに関し、光吸収膜を透過する波長範囲の上限周辺に相当する波長の光量を、二波長における透過率と、それらの比として表す。（vii）の条件が満たされることにより、光吸収膜を透過する波長範囲の上限周辺の光量が所望の範囲に調整される。比Ｔ650／Ｔ700を過剰に小さくするためにはこの波長の近傍の光を遮蔽する別の構成がさらに必要となる可能性がある。比Ｔ650／Ｔ700は、望ましくは４以上６以下である。
０度の入射角度における光吸収膜の透過スペクトルは、例えば、下記（viii）の条件をさらに満たす。
（viii）波長５５０～７００ｎｍにおいて、下記の式（１）によって決定されるλSLOPEの値が－０．９％／ｎｍ以上－０．６５％／ｎｍ以下である。ただし、式（１）においてλ30%は、透過率が３０％となる波長であり、λ70%は、透過率が７０％となる波長である。
λSLOPE＝－４０％／（λ30%－λ70%） 式（１）
（viii）波長５５０～７００ｎｍにおいて、下記の式（１）によって決定されるλSLOPEの値が－０．９％／ｎｍ以上－０．６５％／ｎｍ以下である。ただし、式（１）においてλ30%は、透過率が３０％となる波長であり、λ70%は、透過率が７０％となる波長である。
λSLOPE＝－４０％／（λ30%－λ70%） 式（１）
λSLOPEの値は、光吸収膜において光が透過する波長範囲の上限に対応する波長の近傍における透過スペクトルの平均的な変化率を示す。（viii）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、撮像素子とともに用いられるカラーフィルタの赤色のセグメントとの協働によって、光吸収膜において光が透過する波長範囲の上限に対応する波長の近傍の光の光量を調整しやすい。言い換えれば（viii）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、カラーフィルタの分光特性に適合しやすい。λSLOPEの値は、望ましくは－０．８％／ｎｍ以上－０．７％／ｎｍ以下である。
０度の入射角度における光吸収膜の透過スペクトルは、例えば、下記（ix）の条件をさらに満たす。
（ix）第二カットオフ波長λIRと第一カットオフ波長λUVとの差の絶対値ΔλIR-UVが１８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である。
（ix）第二カットオフ波長λIRと第一カットオフ波長λUVとの差の絶対値ΔλIR-UVが１８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である。
絶対値ΔλIR-UVは、光吸収膜において光が透過する帯域幅を示し、光吸収膜の透過スペクトルの透過帯域における半値全幅ともいえる。（ix）の条件において、ΔλIR-UVが小さすぎると光吸収膜又はそれを備えた光学フィルタなどの製品を透過する光量が小さくなり、ΔλIR-UVを過剰に大きくすることは、赤外線などの光の遮蔽性が低下し不適切となる可能性がある。絶対値ΔλIR-UVは、望ましくは１９０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下である。
０度の入射角度における光吸収膜の透過スペクトルは、例えば、下記（ｘ）の条件をさらに満たす。
（ｘ）下記の式（２）、式（３）、及び式（４）によって決定されるΔλM 20%の値が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。ただし、式（３）及び式（４）において、λM 350-700は、波長３５０～７００ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 350-700を示す波長であり、λM-20% 350-700は、λM 350-700より短く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長であり、λM+20% 350-700は、λM 350-700より長く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長である。
ΔλM 20%＝｜ΔλM- 20%－ΔλM+ 20%｜ 式（２）
ΔλM- 20%＝｜λM 350-700－λM-20% 350-700｜ 式（３）
ΔλM+ 20%＝｜λM 350-700－λM+20% 350-700｜ 式（４）
（ｘ）下記の式（２）、式（３）、及び式（４）によって決定されるΔλM 20%の値が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。ただし、式（３）及び式（４）において、λM 350-700は、波長３５０～７００ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 350-700を示す波長であり、λM-20% 350-700は、λM 350-700より短く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長であり、λM+20% 350-700は、λM 350-700より長く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長である。
ΔλM 20%＝｜ΔλM- 20%－ΔλM+ 20%｜ 式（２）
ΔλM- 20%＝｜λM 350-700－λM-20% 350-700｜ 式（３）
ΔλM+ 20%＝｜λM 350-700－λM+20% 350-700｜ 式（４）
ΔλM
20%の値は、光吸収膜において光が透過する帯域の対称性を示す。ΔλM
20%の値が小さいほどこの帯域の対称性が高くなり、光吸収膜の透過スペクトルが、最大の透過率に対応する波長λM
350-700を中心に対称性が高くなることは、人間の比視感度曲線も波長５５５ｎｍを中心に対称性が高いという観点から、光吸収膜の透過スペクトルが比視感度曲線と同様の性質を有し好適である。一方、ΔλM
20%の値を過剰に小さくしようとすると補助的な光吸収剤を添加する必要性が生じる。これにより、可視光領域の透過率を高い水準に保つことが困難になることも想定される。（ｘ）の条件が満たされることにより、光吸収膜は、より確実に、人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。加えて、補助的な光吸収剤の添加が不要になりやすい。ΔλM
20%の値は、望ましくは２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、より望ましくは２５ｎｍ以上３７ｎｍ以下である。
光吸収性組成物に含まれる、ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸及びハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸は、それぞれ、下記の式（ａ）及び（ｂ）によって表される。式（ａ）及び式（ｂ）において、Ｒ1はハロゲンによって置換されていないアリール基であり、Ｒ2はハロゲンによって置換されていないアルキル基である。
ハロゲンによって置換されていないアリール基は、例えば水素原子がハロゲン原子によって置換されていないアリール基であり、特定のアリール基に限定されないが、例えばフェニル基、ベンジル基、又はトルイル基である。
ハロゲンによって置換されていないアルキル基は、例えば水素原子がハロゲン原子によって置換されていないアルキル基であり、特定のアルキル基に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、ノルマル（ｎ－）プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃブチル基、ｔｅｒｔブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃペンチル基、又はｔｅｒｔペンチル基である。
光吸収性組成物におけるハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸の含有量に対するハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸の含有量の比ＲHHは、特定の値に限定されない。比ＲHHは、例えば、質量基準で１．０～５．０である。これにより、光吸収性組成物及び光吸収性組成物を用いて作製される製品において、樹脂に対する光吸収性化合物の分散性が高くなりやすい。その結果、樹脂の含有量に対する光吸収性化合物の含有量の比を高めやすい。このため、光吸収性組成物を用いて形成される光吸収膜の厚みを低減できる。このことは、撮像装置等の装置の低背位化に有利である。加えて、比ＲHHが１．０以上であることにより、Ｔ650／Ｔ700が大きくなりすぎることを防止できる。比ＲHHが５．０以下であることにより、光吸収性組成物を用いて作製される製品において波長１２００ｎｍ近傍の光の吸収性が低下しにくい。通常、光吸収性化合物のみが赤外線領域の光の遮蔽を担う場合、その吸収帯域が限られているので、波長１２００ｎｍ近傍の光の吸収性が十分でないことがある。このため、より大きい波長の範囲の光に対する遮蔽性を確保しようとすると、誘電体多層膜又は単層膜等の光反射膜を併用しなければならないことが多い。しかし、比ＲHHが５．０以下であることにより、このような問題を解消しうる。比ＲHHは、望ましくは、質量基準で１．５～３．５である。
光吸収性組成物において、銅成分の少なくとも一部は、ホスホン酸と反応して、ホスホン酸及び銅成分を含む錯体等の化合物を形成する。ホスホン酸及び銅成分を含む化合物は赤外線域に属する一部の光を効果的に吸収しやすく、さらに可視光域に属する光に対して高い透過率を示す。また、光吸収性組成物は、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と銅成分とを含む化合物と、ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と銅成分を含む化合物を含んでいてもよい。
光吸収性組成物の調製における銅成分の供給の態様は特定の態様に限定されない。光吸収性組成物の調製において、銅成分は、例えば、銅塩として供給される。銅塩は、塩化銅、蟻酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、及びクエン酸銅の無水物又は水和物であってもよい。例えば、酢酸銅一水和物は、Ｃｕ（ＣＨ3ＣＯＯ）2・Ｈ2Ｏと表され、１モルの酢酸銅一水和物によって１モルの銅イオンが供給される。
光吸収性組成物において銅成分の含有量に対するホスホン酸の含有量の比ＲHCは、特定の値に限定されない。比ＲHCの値は、例えば、物質量基準で０．７～１．２である。これにより、光吸収性組成物において光吸収性化合物の凝集を防止できる。比ＲHCの値は、望ましくは０．８～１．１であり、より望ましくは１未満である。
紫外線吸収性化合物は、紫外線吸収性化合物の透過スペクトルが波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する限り、特定の化合物に限定されない。紫外線吸収性化合物は、例えば、３３０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の吸収極大波長λM
UV-Cを有する。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される製品によれば、上記の光吸収性化合物と組み合わせて使用した場合に、波長４００ｎｍから４５０ｎｍにおける透過率を低下させることができるので好ましい。紫外線吸収性化合物の透過スペクトル及び吸収スペクトル等の光学特性は、紫外線吸収性化合物を所定の溶媒に分散させた分散液を試料として用いた測定によって決定できる。特に説明する場合を除き、紫外線吸収性化合物の透過スペクトル及び吸収スペクトルは、このような測定によって決定されたものを意味する。例えば、紫外線吸収性化合物の分散液は、その分散液の透過率の最小値が１０．０％になるように調製される。分散液の調製に用いられる溶媒は、例えば、トルエン等の無色な液体である。
紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、望ましくは波長３００ｎｍ～３５０ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有する。
紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおいて、波長４５０ｎｍ以下の波長範囲で５０％の透過率を示す波長である第三カットオフ波長λ50%-UVは、特定の値に限定されない。第三カットオフ波長λ50%-UVは、例えば、３３０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下であり、望ましくは３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。
紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおいて、下記式（５）によって決定されるλUV
SLOPEの値は、例えば２．０～３．０[％／ｎｍ]であり、望ましくは２．３～２．８[％／ｎｍ]である。式（５）において、λUV
70%は、紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおいて７０％の透過率を示す波長であり、λUV
30%は、紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおいて３０％の透過率を示す波長である。
λUV SLOPE＝４０％／(λUV 70%－λUV 30%) 式（５）
λUV SLOPE＝４０％／(λUV 70%－λUV 30%) 式（５）
波長５００ｎｍ～７００ｎｍの範囲の紫外線吸収性化合物の透過スペクトルにおける透過率の最小値Ｔm
500-700は、特定の値に限定されない。最小値Ｔm
500-700は、例えば、８０％以上である。これにより、可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。最小値Ｔm
500-700は、望ましくは８５％以上であり、より望ましくは９０％以上である。
紫外線吸収性化合物は、特定の化合物に限定されない。一方、紫外線吸収性化合物は、望ましくは、光吸収性化合物等の他の成分との相性が良く、他の成分によってその性能が大きく低下しない化合物である。加えて、紫外線吸収性化合物は、望ましくは、著しく劣る耐湿性又は耐光性を有しない化合物である。
紫外線吸収性化合物は、例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、又はトリアジン系化合物等の化合物である。
ベンゾトリアゾール系化合物として、例えば、以下の化合物が挙げられる。
２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－５－ｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－［２’－ヒドロキシ－３’－（３’’，４’’，５’’，６’’－テトラヒドロフタリミドメチル）－５’－メチルフェニル］ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－［２’－ヒドロキシ－３’，５’－ビス（α，α－ジメトキシベンゾイル）フェニル］ベンゾトリアゾール
２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｎ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］
２－（２’－ヒドロキシ－５’－メタクリロイルオキシエチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’－ドデシル－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－５－ｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－［２’－ヒドロキシ－３’－（３’’，４’’，５’’，６’’－テトラヒドロフタリミドメチル）－５’－メチルフェニル］ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾール
２－［２’－ヒドロキシ－３’，５’－ビス（α，α－ジメトキシベンゾイル）フェニル］ベンゾトリアゾール
２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｎ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］
２－（２’－ヒドロキシ－５’－メタクリロイルオキシエチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール
２－（２’－ヒドロキシ－３’－ドデシル－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
トリアジン系化合物として、例えば、以下の化合物が挙げられる。
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン
２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール
光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量は特定の値に限定されない。光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量に対するホスホン酸の含有量の比ＲPUは、例えば、質量基準で１０～３００である。これにより、紫外線吸収性化合物が光吸収性組成物の特性に不利な影響を及ぼしにくく、光吸収性組成物を用いて提供される製品がより確実に人間の視感度に対応した透過スペクトルに近しい分光特性を有しやすい。比ＲPUは、望ましくは質量基準で４５～１００である。
光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量に対するハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸の含有量の比ＲURは、特定の値に限定されない。比ＲURは、質量基準で、例えば７～１８０であり、望ましくは２５～６０である。光吸収性組成物における紫外線吸収性化合物の含有量に対するハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸の含有量の比ＲULは、特定の値に限定されない。比ＲULは、例えば、質量基準で３～１２０であり、望ましくは１５～４０である。これらにより、光吸収性組成物を用いて提供される製品の透過スペクトルが上記の（ｉ）～（ｘ）（（iv）及び（ix）を除く）の条件を満足しやすくなり、好ましい。
光吸収性組成物は、例えば、マトリクスをさらに含有している。光吸収性化合物及び紫外線吸収性化合物は、典型的には、マトリクス中に分散している。このマトリクスは、光吸収性化合物及び紫外線吸収性化合物を分散させることができる限り、特定の材料に限定されない。光吸収性組成物に含まれるマトリクスは、典型的には、波長４００ｎｍ～６００ｎｍにおいて高い透過性を有する材料である。例えば、０．１ｍｍの厚みの層をその材料のみで形成したときに、波長４００ｎｍ～６００ｎｍにおけるその層の透過率は、例えば７０％以上であり、望ましくは７５％以上であり、より望ましくは８０％以上であり、さらに望ましくは８５％以上である。
光吸収性組成物に含まれるマトリクスの材料は、例えば樹脂である。光吸収性組成物に含まれる樹脂の種類は、特定の種類に限定されない。その樹脂は、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、変性アクリル樹脂、シリコーン樹脂、又はＰＶＢ等のポリビニル系樹脂である。樹脂は、熱又は光等のエネルギー照射によって硬化しうる硬化性樹脂であってもよい。なお、光吸収性組成物に含まれるマトリクスは、金属成分を含むアルコキシドをゾルゲル法に従って加水分解及び縮重合させることによって形成される有機無機ハイブリッド材料又は無機材料であってもよい。
光吸収性組成物は、必要に応じて、リン酸エステルを含んでいてもよい。リン酸エステルの働きにより、光吸収性組成物及び光吸収性組成物を用いて得られた製品において、光吸収性化合物が適切に分散しやすい。リン酸エステルは、光吸収性化合物の分散剤として機能していてもよく、その一部が金属成分と反応して化合物を形成していてもよい。例えば、リン酸エステルは、銅成分及びホスホン酸を含む光吸収性化合物に配位し、又は、その化合物と反応していてもよい。光吸収性化合物には、これらの化合物又はこれらの銅塩の成分が含まれていてもよい。
リン酸エステルは、特定のリン酸エステルに限定されない。リン酸エステルは、例えば、ポリオキシアルキル基を有する。このようなリン酸エステルとしては、プライサーフＡ２０８Ｎ：ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ１２、Ｃ１３）エーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２０８Ｆ：ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ８）エーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２０８Ｂ：ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２１９Ｂ：ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡＬ：ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２１２Ｃ：ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、又はプライサーフＡ２１５Ｃ：ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルが挙げられる。これらはいずれも第一工業製薬社製の製品である。加えて、リン酸エステルとして、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－２：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－４：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、又はＮＩＫＫＯＬ ＤＤＰ－６：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルが挙げられる。これらは、いずれも日光ケミカルズ社製の製品である。
光吸収性組成物におけるリン酸エステルの含有量は、特定の値に限定されない。光吸収性組成物におけるリン酸エステルの含有量に対するホスホン酸の含有量の比ＲPEは、例えば、質量基準で１．０以上である。これにより、光吸収性組成物を用いて提供される製品は、水蒸気と接触してもリン酸エステルの加水分解が抑制され、良好な耐候性を有しやすい。比ＲPEは、望ましくは、１．５以上である。比ＲPEは、１．０～３．０であってもよい。比ＲPEが３．０以下であることにより、ホスホン酸含有化合物の凝集を防止でき、光吸収性組成物を用いて提供される製品において可視光域に属する光の透過率がより確実に高くなりやすい。良好な耐候性及び良好な光学特性の観点から、比ＲPEは、望ましくは１．５～２．０である。
光吸収性組成物は、例えば、必要に応じて、金属アルコキシド、金属アルコキシドの加水分解縮合物、シリコンアルコキシド、及びシリコンアルコキシドの加水分解縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つをさらに含んでいてもよい。これにより、光吸収性組成物又は光吸収性組成物を用いて提供される製品において、ホスホン酸含有化合物が均一に分散しやすい。光吸収性組成物において、この群から選ばれる少なくとも２つが混合された状態で含まれていてもよい。例えば、リン酸エステル、金属アルコキシド、又はシリコンアルコキシドは、光吸収性組成物の調製において、銅成分及びホスホン酸等の成分とともに混合される。この場合、金属アルコキシド、及びシリコンアルコキシドの一部は、光吸収性組成物の調製において、銅成分又はホスホン酸等の成分やこれらを含む化合物との相互作用により、光吸収性化合物を含む微粒子に含有されていてもよい。
金属アルコキシド又は金属アルコキシドの加水分解縮合物を形成する金属アルコキシドは、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、及びＺｒからなる群より選択される少なくとも１つの金属のアルコキシドである。
光吸収性組成物を用いて、例えば、図１に示す光吸収膜１０を提供できる。光吸収膜１０は、例えば、光吸収性組成物の塗膜を硬化させることによって得られる。このため、光吸収膜１０は、上記の光吸収性化合物と、上記の紫外線吸収性化合物とを含有している。光学フィルタ１ａは、光吸収膜１０を備えており、例えば、光吸収膜１０単体で構成されている。吸収膜１０は、例えば、所定の基材上に光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させて作製できる。作製された光吸収膜１０は基材上から剥離される。基材の材料は、ガラスであってもよく、樹脂であってもよく、金属であってもよい。基材の表面には、フッ素含有化合物を用いたコーティング等の表面処理が施されていてもよい。
光吸収性組成物を用いて、図２に示す光学フィルタ１ｂを提供することもできる。光学フィルタ１ｂは、光吸収膜１０と、透明基材２０とを備えている。光吸収膜１０は、透明基材２０上に形成されている。光学フィルタ１ｂは、例えば、透明基材２０の上に光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって作製できる。
透明基材２０は特定の基材に限定されない。透明基材２０は、ガラスを含んでいてもよく、樹脂を含んでいてもよく、プラスチックを含んでいてもよい。ガラスは、銅含有ガラス等の光吸収性ガラスであってもよい。透明基材２０は、光吸収性化合物を含有している光吸収性のフィルム及びシートであってもよい。透明基材１０は、互いに平行な平面を主面として有する板状の基材であってもよく、レンズ等の曲面を有する基材であってもよく、その表面又は内部に平坦でない微細構造を有する基材であってもよい。そのような基材の例は、回折格子である。
透明基材２０の種類は、特定の種類に限定されない。透明基材２０は、赤外線領域に吸収能を有していてもよい。透明基材２０は、例えば波長３５０ｎｍ～９００ｎｍにおいて９０％以上の平均分光透過率を有していてもよい。透明基材２０の材料がガラスである場合、透明基材２０は、例えば、ソーダ石灰ガラス及びホウケイ酸ガラスなどのケイ酸塩ガラスでできた透明なガラス又はＣｕ及びＣｏ等の着色性の成分を含有するリン酸塩ガラス及び弗リン酸塩ガラスでありうる。着色性の成分を含有するリン酸塩ガラス及び弗リン酸塩ガラスは、例えば赤外線吸収性ガラスであり、それ自体が光吸収性を有する。光吸収膜１０を、赤外線吸収性ガラスの透明基材２０とともに用いる場合には、双方の光吸収性及び透過スペクトルを調整して、所望の光学特性を有する光学フィルタを作製でき、光学フィルタの設計の自由度が高い。
透明基材２０の材料が樹脂である場合、その樹脂は、例えば、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル樹脂、変性アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、又はシリコーン樹脂である。
光吸収膜１０の厚みは特定の値に限定されない。撮像装置等の光吸収膜を備える機器の低背位化の要請に応えるためには、光吸収膜１０の厚みが小さいことが有利である。このため、光吸収膜１０の厚みは、例えば２００μｍ以下であり、望ましくは１８０μｍ以下であり、より望ましくは１５０μｍ以下である。例えば、光吸収膜が所望の光吸収性を発揮しつつ、光吸収性膜の厚みを薄くするために、光吸収性組成物に含有される光吸収性化合物及び紫外線吸収性化合物の濃度を高めることが考えられる。この場合、各化合物の分散性を所望の状態に保てない可能性がある。このため、光吸収膜１０の厚みは、例えば、８０μｍ以上であり、望ましくは１００μｍ以上であり、より望ましくは１２０μｍ以上である。
透明基材２０の波長４５０～７００ｎｍの範囲の透過率の最小値が８０％未満である場合、透明基材２０は光を遮蔽する機能を有し、光吸収膜１０と協働して光の遮蔽に貢献すると理解される。この場合、光学フィルタ１ｂの厚みは、例えば２００μｍ以下であり、望ましくは１８０μｍ以下であり、より望ましくは１５０μｍ以下である。加えて、光学フィルタ１ｂの厚みは、例えば８０μｍ以上であり、望ましくは１００μｍ以上であり、より望ましくは１２０μｍ以上である。波長４５０～７００ｎｍの範囲の透過率の最小値が８０％未満である透明基材２０の例は、赤外線吸収性ガラスを含む基板である。
光学フィルタ１ａは、撮像素子及び光学部品に対して接して形成されていてもよい。一方、上記の光吸収性組成物を撮像素子又は光学部品に塗布して、光吸収性組成物を硬化させることによって、光吸収膜１０が構成されていてもよい。これにより、光吸収膜付撮像素子又は光吸収膜付光学部品を作製できる。光学部品は、例えば、レンズ又はカバーガラスなどである。例えば、光吸収膜付撮像素子又は光吸収膜付光学部品を備えた撮像装置を提供できる。
光学フィルタ１ａ及び１ｂのそれぞれは、赤外線反射膜及び反射防止膜等の他の機能膜をさらに備えるように変更されてもよい。このような機能膜は、光吸収膜１０又は透明基材２０の上に形成されうる。例えば、光学フィルタが反射防止膜を備えることにより、所定の波長の範囲（例えば可視光域）の透過率を高めることができる。反射防止膜は、ＭｇＦ2及びＳｉＯ2等の低屈折率材料の層として構成されていてもよく、このような低屈折率材料の層とＴｉＯ2等の高屈折率材料の層との積層体として構成されていてもよく、誘電体多層膜として構成されていてもよい。このような反射防止膜は、真空蒸着及びスパッタ法等の物理的な反応を伴う方法、又は、ＣＶＤ法及びゾルゲル法等の化学的な反応を伴う方法によって形成されうる。
光学フィルタは、例えば、二枚の板状のガラスの間に光吸収膜１０が配置された状態で構成されていてもよい。これにより、光学フィルタの剛性及び機械的強度が向上する。加えて、光学フィルタの主面が硬質となり、キズ防止等の観点から有利である。特に、光吸収膜１０におけるバインダー又はマトリクスとして比較的柔軟性の高い樹脂を用いた場合に、このような利点が重要である。
実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。まず、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの評価方法について説明する。
（透過スペクトル測定）
日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－６７０を用いて、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの０°の入射角における透過スペクトルを測定した。実施例１～３に係る光学フィルタの透過スペクトルをそれぞれ図４～図６に示す。また、比較例１～３に係る光学フィルタの透過スペクトルをそれぞれ図７～図９に示す。また、図４～図９に示す各透過スペクトルから看取した透過率及び波長に関する特徴的なパラメータを表３に示す。図１０は、透過率に関するパラメータの関係を説明する図である。
日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－６７０を用いて、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの０°の入射角における透過スペクトルを測定した。実施例１～３に係る光学フィルタの透過スペクトルをそれぞれ図４～図６に示す。また、比較例１～３に係る光学フィルタの透過スペクトルをそれぞれ図７～図９に示す。また、図４～図９に示す各透過スペクトルから看取した透過率及び波長に関する特徴的なパラメータを表３に示す。図１０は、透過率に関するパラメータの関係を説明する図である。
（厚み測定）
キーエンス社製のレーザー変位計ＬＫ－Ｈ００８を用いて、光学フィルタの主面間の距離を測定し、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの厚みを決定した。結果を表３に示す。
キーエンス社製のレーザー変位計ＬＫ－Ｈ００８を用いて、光学フィルタの主面間の距離を測定し、各実施例及び各比較例に係る光学フィルタの厚みを決定した。結果を表３に示す。
＜実施例１＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、１－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、１－Ｂ液を得た。次に、１－Ｂ液にメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、１－Ｃ液を得た。１－Ａ液を撹拌しながら１－Ａ液に１－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、１－Ｄ液を得た。この１－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例１に係る１－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散された１－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物４．５００ｇとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、１－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、１－Ｂ液を得た。次に、１－Ｂ液にメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、１－Ｃ液を得た。１－Ａ液を撹拌しながら１－Ａ液に１－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、１－Ｄ液を得た。この１－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例１に係る１－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散された１－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物１．８００ｇと、ＴＨＦ１００ｇとを混合して３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎを１．０２９ｇ加えて３０分間撹拌し、１－Ｆ液を得た。また、ｎ‐ブチルホスホン酸１．１５４ｇにＴＨＦ２０ｇを加えて３０分間撹拌し、１－Ｇ液を得た。１－Ｆ液を撹拌しながら１－Ｆ液に１－Ｇ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエンを４０ｇ加えた後、室温で１分間撹拌し、１－Ｈ液を得た。この１－Ｈ液をフラスコに入れてオイルバスで加温しながら、ロータリーエバポレータによって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例１に係る１－Ｉ液を取り出した。このようにしてブチルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散された１－Ｉ液を得た。
０．６６ｇの紫外線吸収剤Ｕ１と、トルエン９９．３４ｇとを混合して紫外線吸収剤が分散した１－Ｊ液を得た。この１－Ｊ液を光路長０．１ｍｍの日本分光社製石英セル（型番Ｊ／２０／Ｃ／ＣＤ）に入れて試料を作製した。日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－６７０を用いてこの試料の透過スペクトルを計測した。この透過スペクトルを図３に示す。
１－Ｅ液と、１－Ｉ液と、９．１ｇの１－Ｊ液とを混合し、さらにシリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）を８．８０ｇ、アルミニウムアルコキシド化合物（信越化学工業社製、製品名：ＣＡＴ－ＡＣ）０．０９ｇを加えて３０分間撹拌し、実施例１に係る光吸収性組成物である１－Ｋ液を得た。各ホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散した液、紫外線吸収剤が分散した液、及び光吸収性組成物の調製における各材料の添加量を表１に示す。また、特定の材料について材料同士の含有量の関係を表２に示す。
＜実施例２＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、２－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、２－Ｂ液を得た。次に、２－Ｂ液にＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、２－Ｃ液を得た。２－Ａ液を撹拌しながら２－Ａ液に２－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、２－Ｄ液を得た。この２－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例２に係る２－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散している２－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、２－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、２－Ｂ液を得た。次に、２－Ｂ液にＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、２－Ｃ液を得た。２－Ａ液を撹拌しながら２－Ａ液に２－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、２－Ｄ液を得た。この２－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例２に係る２－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散している２－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物３．６００ｇと、ＴＨＦ２００ｇとを混合して３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎを２．０５８ｇ加えて３０分間撹拌し、２－Ｆ液を得た。また、ｎ‐ブチルホスホン酸２.３０９ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、２－Ｇ液を得た。２－Ｆ液を撹拌しながら２－Ｆ液に２－Ｇ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエンを８０ｇ加えた後、室温で１分間撹拌し、２－Ｈ液を得た。この２－Ｈ液をフラスコに入れてオイルバスで加温しながら、ロータリーエバポレータによって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例２に係る２－Ｉ液を取り出した。このようにしてブチルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散した２－Ｉ液を得た。
０．６６ｇの紫外線吸収剤Ｕ１とトルエン９９．３４ｇとを混合して紫外線吸収剤が分散した２－Ｊ液を得た。この２－Ｊ液を光路長０．１ｍｍの日本分光社製石英セル（型番Ｊ／２０／Ｃ／ＣＤ）に入れて作製した試料は、図３に示す透過率スペクトルを示す。
２－Ｅ液と、２－Ｉ液と、９．１ｇの２－Ｊ液とを混合し、さらにシリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）を８．８０ｇ、アルミニウムアルコキシド化合物（信越化学工業社製、製品名：ＣＡＴ－ＡＣ）０．０９ｇを加えて３０分間撹拌して、実施例２に係る光吸収性組成物である２－Ｋ液を得た。各ホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散した液、紫外線吸収剤が分散した液、及び光吸収性組成物の調製における各材料の添加量を表１に示す。また、特定の材料について材料同士の含有量の関係を表２に示す。
＜実施例３＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、３－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、３－Ｂ液を得た。次に、３－Ｂ液にＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、３－Ｃ液を得た。３－Ａ液を撹拌しながら３－Ａ液に３－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、３－Ｄ液を得た。この３－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例３に係る３－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分とを含む化合物の分散液である３－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、３－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、３－Ｂ液を得た。次に、３－Ｂ液にＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、３－Ｃ液を得た。３－Ａ液を撹拌しながら３－Ａ液に３－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、３－Ｄ液を得た。この３－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例３に係る３－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分とを含む化合物の分散液である３－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物３．６００ｇと、ＴＨＦ２００ｇとを混合して３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎを２．０５８ｇ加えて３０分間撹拌し、３－Ｆ液を得た。また、ｎ‐ブチルホスホン酸２．３０９ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、３－Ｇ液を得た。３－Ｆ液を撹拌しながら３－Ｆ液に３－Ｇ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエンを８０ｇ加えた後、室温で１分間撹拌し、３－Ｈ液を得た。この３－Ｈ液をフラスコに入れてオイルバスで加温しながら、ロータリーエバポレータによって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の実施例３に係る３－Ｉ液を取り出した。このようにしてブチルホスホン酸と銅成分とを含む化合物の分散液である３－Ｉ液を得た。
０．６６ｇの紫外線吸収剤Ｕ１とトルエン９９．３４ｇとを混合して紫外線吸収剤が分散した３－Ｊ液を得た。この３－Ｊ液を光路長０．１ｍｍの日本分光社製石英セル（型番Ｊ／２０／Ｃ／ＣＤ）に入れて作製した試料は、図３に示す透過率スペクトルを示す。
３－Ｅ液と、３－Ｉ液と、１８．２ｇの３－Ｊ液とを混合し、さらにシリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）８．８０ｇ、アルミニウムアルコキシド化合物（信越化学工業社製、製品名：ＣＡＴ－ＡＣ）０．０９ｇを加えて３０分間撹拌して、実施例３に係る光吸収性組成物である３－Ｋ液を得た。各ホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散した液、紫外線吸収剤が分散した液、及び光吸収性組成物の調製における各材料の添加量を表１に示す。また、特定の材料について材料同士の含有量の関係を表２に示す。
＜比較例１＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、４－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、４－Ｂ液を得た。次に、４－Ｂ液にＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、４－Ｃ液を得た。４－Ａ液を撹拌しながら４－Ａ液に４－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、４－Ｄ液を得た。この４－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の比較例１に係る４－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散された４－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．４４４ｇ加えて３０分間撹拌し、４－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸３．５７６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、４－Ｂ液を得た。次に、４－Ｂ液にＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとを加えて、さらに１分間撹拌し、４－Ｃ液を得た。４－Ａ液を撹拌しながら４－Ａ液に４－Ｃ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、４－Ｄ液を得た。この４－Ｄ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の比較例１に係る４－Ｅ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散された４－Ｅ液を得た。
酢酸銅一水和物１．８００ｇと、ＴＨＦ１００ｇとを混合して３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎを１．０２９ｇ加えて３０分間撹拌し、４－Ｆ液を得た。また、ｎ‐ブチルホスホン酸１．１５４ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、４－Ｇ液を得た。４－Ｆ液を撹拌しながら４－Ｆ液に４－Ｇ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエンを８０ｇ加えた後、室温で１分間撹拌し、４－Ｈ液を得た。この４－Ｈ液をフラスコに入れてオイルバスで加温しながら、ロータリーエバポレータによって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の比較例１に係る４－Ｉ液を取り出した。このようにしてブチルホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散された４－Ｉ液を得た。
４－Ｅ液と、４－Ｉ液とを混合し、さらにシリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）８．８０ｇ、アルミニウムアルコキシド化合物（信越化学工業社製、製品名：ＣＡＴ－ＡＣ）０．０９ｇを加えて３０分間撹拌して、比較例１に係る光吸収性組成物である４－Ｋ液を得た。ホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散した液及び光吸収性組成物の調製における各材料の添加量を表１に示す。また、特定の材料について材料同士の含有量の関係を表２に示す。
＜比較例３＞
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．６４６ｇ加えて３０分間撹拌し、５－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸０．７０６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、５－Ｂ１液を得た。４‐ブロモフェニルホスホン酸４．２３０ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、５－Ｂ２液を得た。次に、５－Ｂ１液と５－Ｂ２液とを混ぜて１分間撹拌し、ＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとをこの混合液に加えて、さらに１分間撹拌し、５－Ｂ液を得た。５－Ａ液を撹拌しながら５－Ａ液に５－Ｂ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、５－Ｃ液を得た。この５－Ｃ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の比較例３に係る５－Ｄ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と４－ブロモフェニルホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散された５－Ｄ液を得た。
酢酸銅一水和物４．５００ｇとＴＨＦ２４０ｇとを混合して、３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎ（第一工業製薬社製）を１．６４６ｇ加えて３０分間撹拌し、５－Ａ液を得た。フェニルホスホン酸０．７０６ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、５－Ｂ１液を得た。４‐ブロモフェニルホスホン酸４．２３０ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、５－Ｂ２液を得た。次に、５－Ｂ１液と５－Ｂ２液とを混ぜて１分間撹拌し、ＭＴＥＳ（信越化学工業社製、製品名：ＫＢＥ－１３）８．６６４ｇと、ＴＥＯＳ（キシダ化学社製 特級）２．８４０ｇとをこの混合液に加えて、さらに１分間撹拌し、５－Ｂ液を得た。５－Ａ液を撹拌しながら５－Ａ液に５－Ｂ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン１４０ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、５－Ｃ液を得た。この５－Ｃ液をフラスコに入れてオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の比較例３に係る５－Ｄ液を取り出した。このようにしてフェニルホスホン酸と４－ブロモフェニルホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散された５－Ｄ液を得た。
酢酸銅一水和物１．８００ｇと、ＴＨＦ１００ｇとを混合して３時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフＡ２０８Ｎを１．０２９ｇ加えて３０分間撹拌し、５－Ｆ液を得た。また、ｎ‐ブチルホスホン酸１．１５４ｇにＴＨＦ４０ｇを加えて３０分間撹拌し、５－Ｇ液を得た。５－Ｆ液を撹拌しながら５－Ｆ液に５－Ｇ液を加え、室温で１分間撹拌した。次に、この溶液にトルエンを８０ｇ加えた後、室温で１分間撹拌し、５－Ｈ液を得た。この５－Ｈ液をフラスコに入れてオイルバスで加温しながら、ロータリーエバポレータによって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、１０５℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の比較例３に係る５－Ｉ液を取り出した。このようにしてブチルホスホン酸と銅成分を含む化合物が分散された５－Ｉ液を得た。
５－Ｄ液と、５－Ｉ液とを混合し、さらにシリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）８．８０ｇ、アルミニウムアルコキシド化合物（信越化学工業社製、製品名：ＣＡＴ－ＡＣ）０．０９ｇを加えて３０分間撹拌して比較例３に係る光吸収性組成物である５－Ｋ液を得た。ホスホン酸と銅成分とを含む化合物が分散した液及び光吸収性組成物の調製における各材料の添加量を表１に示す。また、特定の材料について材料同士の含有量の関係を表２に示す。
＜光学フィルタの作製＞
表面防汚コーティング剤（ダイキン工業社製、製品名：オプツールＤＳＸ、有効成分の濃度：２０質量％）０．１ｇと、ハイドロフルオロエーテル含有液（３Ｍ社製、製品名：ノベック７１００）１９．９ｇとを混合し、５分間撹拌して、フッ素処理剤（有効成分の濃度：０．１質量％）を調製した。このフッ素処理剤を、７６ｍｍ×７６ｍｍ×０．２１ｍｍの寸法を有するホウケイ酸ガラス（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３ Ｔ ｅｃｏ）の主面上に塗布した。次に、フッ素処理剤が塗布されたガラス基板を、室温で２４時間放置して塗膜を乾燥させた後に、その表面を、ノベック７１００を含んだ無塵布で軽くガラス表面を拭きあげて余分なフッ素処理剤を取り除いた。このようにして、表面がフッ素含有化合物でコーティングされたフッ素処理基板を作製した。実施例及び比較例に係る光学フィルタの数量に適合した枚数のフッ素処理基板を作製した。フッ素処理基板の一方の主面の中心部の４０ｍｍ×４０ｍｍの範囲にディスペンサを用いて、実施例１～３又は比較例１若しくは３に係る光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成した。塗膜を室温で十分に乾燥させた後、加熱用オーブンに入れて４５℃で２時間、８５℃で６時間の熱処理行い、溶媒を揮発させて硬化させた。その後フッ素処理基板から塗膜を引き剥がし、薄いフィルム状の実施例１～３並びに比較例１及び３に係る光学フィルタを作製した。さらに、比較例１に係る光吸収性組成物の塗膜の条件を、比較例２に係る光学フィルタの厚みが比較例１に係る光学フィルタの厚みとは異なるように調整して、比較例２に係る光学フィルタを作製した。
表面防汚コーティング剤（ダイキン工業社製、製品名：オプツールＤＳＸ、有効成分の濃度：２０質量％）０．１ｇと、ハイドロフルオロエーテル含有液（３Ｍ社製、製品名：ノベック７１００）１９．９ｇとを混合し、５分間撹拌して、フッ素処理剤（有効成分の濃度：０．１質量％）を調製した。このフッ素処理剤を、７６ｍｍ×７６ｍｍ×０．２１ｍｍの寸法を有するホウケイ酸ガラス（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３ Ｔ ｅｃｏ）の主面上に塗布した。次に、フッ素処理剤が塗布されたガラス基板を、室温で２４時間放置して塗膜を乾燥させた後に、その表面を、ノベック７１００を含んだ無塵布で軽くガラス表面を拭きあげて余分なフッ素処理剤を取り除いた。このようにして、表面がフッ素含有化合物でコーティングされたフッ素処理基板を作製した。実施例及び比較例に係る光学フィルタの数量に適合した枚数のフッ素処理基板を作製した。フッ素処理基板の一方の主面の中心部の４０ｍｍ×４０ｍｍの範囲にディスペンサを用いて、実施例１～３又は比較例１若しくは３に係る光吸収性組成物を塗布して塗膜を形成した。塗膜を室温で十分に乾燥させた後、加熱用オーブンに入れて４５℃で２時間、８５℃で６時間の熱処理行い、溶媒を揮発させて硬化させた。その後フッ素処理基板から塗膜を引き剥がし、薄いフィルム状の実施例１～３並びに比較例１及び３に係る光学フィルタを作製した。さらに、比較例１に係る光吸収性組成物の塗膜の条件を、比較例２に係る光学フィルタの厚みが比較例１に係る光学フィルタの厚みとは異なるように調整して、比較例２に係る光学フィルタを作製した。
表３に示す通り、各実施例に係る光学フィルタは、ホスホン酸として、ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸及びハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸のみを含有しているものの、上記の（ｉ）～（ｘ）の条件を満たしていた。一方、比較例１に係る光学フィルタは、（ｉ）の条件を満たしていなかった。このことを踏まえて、比較例１に係る光吸収性組成物を用いて、比較例１に係る光学フィルタの厚みよりも大きな厚みを有する比較例２に係る光学フィルタを作製した。表３に示す通り、比較例２に係る光学フィルタは、（ｉ）の条件を満たすものの、（ii）の条件を満たすことができなかった。比較例２に係る光学フィルタの厚みは、２３１μｍであった。このことは、撮像装置等の光吸収膜を備える機器の低背位化の観点から有利であるとは言い難かった。
１ａ、１ｂ 光学フィルタ
１０ 光吸収膜
２０ 透明誘電体基板
１０ 光吸収膜
２０ 透明誘電体基板
Claims (15)
- 光吸収性組成物であって、
ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含有しており、
前記紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有し、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比は、１０～３００であり、
ハロゲンを有するホスホン酸を含有していない、
光吸収性組成物。 - 当該光吸収性組成物を硬化させて得られる光吸収膜の、０度の入射角度における透過スペクトルは、下記（ｉ）、（ii）、（iii）、（iv）、及び（ｖ）の条件を満たす、請求項１に記載の光吸収性組成物。
（ｉ）波長３００～３５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下である。
（ii）波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の平均値が７５％以上である。
（iii）波長７５０～１２００ｎｍにおける透過率の最大値が１０％以下である。
（iv）波長３５０～５００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第一カットオフ波長が３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下である。
（ｖ）波長５５０～７００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第二カットオフ波長が５６０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下である。 - 前記光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（vi）の条件をさらに満たす、請求項２に記載の光吸収性組成物。
（vi）波長５５０～６５０ｎｍにおいて透過率が６０％となる波長が５７０ｎｍ以上６１０ｎｍ以下である。 - 前記光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（vii）の条件をさらに満たす、請求項２又は３に記載の光吸収性組成物。
（vii）波長６５０ｎｍにおける透過率Ｔ650が３０％以下であり、波長７００ｎｍにおける透過率Ｔ700が７％以下であり、前記透過率Ｔ700に対する前記透過率Ｔ650の比が３以上８以下である。 - 前記光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（viii）の条件をさらに満たす、請求項２～４のいずれか１項に記載の光吸収性組成物。
（viii）波長５５０～７００ｎｍにおいて、下記の式（１）によって決定されるλSLOPEの値が－０．９％／ｎｍ以上－０．６５％／ｎｍ以下である。ただし、式（１）においてλ30%は、透過率が３０％となる波長であり、λ70%は、透過率が７０％となる波長である。
λSLOPE＝－４０％／（λ30%－λ70%） 式（１） - 前記光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（ix）の条件をさらに満たす、請求項２～５のいずれか１項に記載の光吸収性組成物。
（ix）第二カットオフ波長と第一カットオフ波長との差の絶対値が１８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である。 - 前記光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（ｘ）の条件をさらに満たす、請求項２～６のいずれか１項に記載の光吸収性組成物。
（ｘ）下記の式（２）、式（３）、及び式（４）によって決定されるΔλM 20%の値が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。ただし、式（３）及び式（４）において、λM 350-700は、波長３５０～７００ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 350-700を示す波長であり、λM-20% 350-700は、λM 350-700より短く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長であり、λM+20% 350-700は、λM 350-700より長く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長である。
ΔλM 20%＝｜ΔλM- 20%－ΔλM+ 20%｜ 式（２）
ΔλM- 20%＝｜λM 350-700－λM-20% 350-700｜ 式（３）
ΔλM+ 20%＝｜λM 350-700－λM+20% 350-700｜ 式（４） - ハロゲンによって置換されていないアリール基を有するホスホン酸と、ハロゲンによって置換されていないアルキル基を有するホスホン酸と、銅成分とを含む光吸収性化合物と、
紫外線吸収性化合物と、を含有しており、
前記紫外線吸収性化合物の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ～４００ｎｍにおいて少なくとも１つの極小値を有し、
前記紫外線吸収性化合物の含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比は、１０～３００であり、
ハロゲンを有するホスホン酸を含有していない、
光吸収膜。 - 当該光吸収膜の０度の入射角度における透過スペクトルは、下記（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）、及び（Ｖ）の条件を満たす、請求項８に記載の光吸収膜。
（Ｉ）波長３００～３５０ｎｍにおける透過率の最大値が１％以下である。
（II）波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の平均値が７５％以上である。
（III）波長７５０～１２００ｎｍにおける透過率の最大値が１０％以下である。
（IV）波長３５０～５００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第一カットオフ波長が３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下である。
（Ｖ）波長５５０～７００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる第二カットオフ波長が５６０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下である。 - 当該光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（VI）の条件をさらに満たす、請求項９に記載の光吸収膜。
（VI）波長５５０～６５０ｎｍにおいて透過率が６０％となる波長が５７０ｎｍ以上６１０ｎｍ以下である。 - 当該光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（VII）の条件をさらに満たす、請求項９又は１０に記載の光吸収膜。
（VII）波長６５０ｎｍにおける透過率Ｔ650が３０％以下であり、波長７００ｎｍにおける透過率Ｔ700が７％以下であり、前記透過率Ｔ700に対する前記透過率Ｔ650の比が３以上８以下である。 - 当該光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（VIII）の条件をさらに満たす、請求項９～１１のいずれか１項に記載の光吸収膜。
（VIII）波長５５０～７００ｎｍにおいて、下記の式（５）によって決定されるλSLOPEの値が－０．９％／ｎｍ以上－０．６５％／ｎｍ以下である。ただし、式（５）においてλ30%は、透過率が３０％となる波長であり、λ70%は、透過率が７０％となる波長である。
λSLOPE＝－４０％／（λ30%－λ70%） 式（５） - 当該光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（IX）の条件をさらに満たす、請求項９～１２のいずれか１項に記載の光吸収膜。
（IX）第二カットオフ波長と第一カットオフ波長との差の絶対値が１８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である。 - 当該光吸収膜の前記透過スペクトルは、下記（Ｘ）の条件をさらに満たす、請求項９～１３のいずれか１項に記載の光吸収膜。
（Ｘ）下記の式（６）、式（７）、及び式（８）によって決定されるΔλM 20%の値が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。ただし、式（７）及び式（８）において、λM 350-700は、波長３５０～７００ｎｍにおける透過率の最大値ＴM 350-700を示す波長であり、λM-20% 350-700は、λM 350-700より短く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長であり、λM+20% 350-700は、λM 350-700より長く、かつ、ＴM 350-700－２０％の透過率を示す波長である。
ΔλM 20%＝｜ΔλM- 20%－ΔλM+ 20%｜ 式（６）
ΔλM- 20%＝｜λM 350-700－λM-20% 350-700｜ 式（７）
ΔλM+ 20%＝｜λM 350-700－λM+20% 350-700｜ 式（８） - 請求項８～１４のいずれか１項に記載の光吸収膜を備えた、光学フィルタ。
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