JP7425930B2 - 半導体プロセスチャンバ - Google Patents
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Description
半導体プロセスチャンバであって、
上方に開口部が設けられるチャンバと、
前記開口部に覆設されるハウジングと、
前記ハウジング内に設けられ、前記開口部の上方に位置する誘電体窓と、
前記ハウジングの内側天壁に環設されるコイルと、
前記ハウジング内に位置し、前記誘電体窓に固定され、前記ハウジングの内側天壁との間に逃し隙間を有し、且つ、前記誘電体窓を加熱するための加熱キャビティと、前記加熱キャビティに連通している少なくとも2つの風路口とを有する熱風フードと、
前記ハウジングに固定して接続され、風路を有する風路構造であって、前記風路は、少なくとも2つの通気端部及び少なくとも2つのアダプタ端部を有し、少なくとも2つの前記通気端部は、いずれも前記ハウジングの外部に位置し、吸気及び排気に用いられ、少なくとも2つの前記アダプタ端部は、いずれも前記ハウジングの内部に位置し、前記アダプタ端部の数は、前記風路口の数と同じであり、且つ両者1対1で対応して連通する風路構造と、を含む。
各前記吸気風路の2つの前記アダプタ端部は、それぞれ前記仕切り板の同じ側に位置する隣接する2つの前記サブ加熱キャビティの前記吸気口に連通しており、
各前記排気風路の2つの前記アダプタ端部は、それぞれ前記仕切り板の同じ側に位置する隣接する2つの前記サブ加熱キャビティの前記排気口に連通している。
1A ホルダーアセンブリ
1B コイルホルダープレート
2 チャンバ
3 第1シールリング
4 コイル
5 固定ベース
6’ 元風路
61 ’元通気端部
62 ’元アダプタ端部
7’ 第2シールリング
8’ 元熱風フード
8A’ 元風路口
8C’元加熱キャビティ
6 風路
61 通気端部
62 アダプタ端部
63 差し込み部
64 環状アリ溝
6A 吸気風路
6B 排気風路
7 シールリング
8 熱風フード
8A 風路口
8B 接続部
8C 加熱キャビティ
8C1 サブ加熱キャビティ
8D1 第1逃がし孔
8D2 第2逃がし孔
8E 仕切り板
9 誘電体窓
10 ノズル
G1 第1ヒータ
G2 第2ヒータ
P 第1ライン
Q 第2ライン
O 逃し隙間
Claims (11)
- 半導体プロセスチャンバであって、
上方に開口部が設けられるチャンバと、
前記開口部に覆設されるハウジングと、
前記ハウジング内に設けられ、前記開口部の上方に位置する誘電体窓と、
前記ハウジングの内側天壁に環設されるコイルと、
前記ハウジング内に位置し、前記誘電体窓に固定され、前記ハウジングの内側天壁との間に逃し隙間を有し、且つ、前記誘電体窓を加熱するための加熱キャビティと、前記加熱キャビティに連通している少なくとも2つの風路口とを有する熱風フードと、
前記ハウジングに固定して接続され、風路を有する風路構造であって、前記風路は、少なくとも2つの通気端部及び少なくとも2つのアダプタ端部を有し、少なくとも2つの前記通気端部は、いずれも前記ハウジングの外部に位置し、吸気及び排気に用いられ、少なくとも2つの前記アダプタ端部は、いずれも前記ハウジングの内部に位置し、前記アダプタ端部の数は、前記風路口の数と同じであり、且つ両者は1対1で対応して連通する風路構造と、を含むことを特徴とする半導体プロセスチャンバ。 - 前記熱風フードは、フード本体と、前記フード本体の外壁に設けられる接続部とを含み、前記フード本体は、前記接続部を介して前記誘電体窓に固定されることを特徴とする請求項1に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記フード本体の底部に開口部を有し、前記フード本体の内壁と前記誘電体窓の天面とが前記加熱キャビティを画定し、前記開口部に位置する前記フード本体の周縁部には、前記加熱キャビティの外部へ折り返されるフランジが設けられ、前記フランジは前記接続部であることを特徴とする請求項2に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記風路構造は少なくとも2つの差し込み部を含み、各差し込み部には前記アダプタ端部が形成され、前記差し込み部は前記風路口に差し込まれることで、前記アダプタ端部を前記風路口に連通させ、前記差し込み部の外壁と前記風路口の内壁との間に前記風路口をシールするためのシールリングが設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記差し込み部の外壁にその周方向に沿って周回する環状アリ溝が設けられ、前記シールリングが前記環状アリ溝内に部分的に設けられ、前記シールリングのうち前記環状アリ溝から延出する部分が前記風路口の内壁に当接していることを特徴とする請求項4に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記加熱キャビティは、互いに間隔を置いた複数のサブ加熱キャビティを含み、各前記サブ加熱キャビティは、いずれもそのうちの2つの前記風路口に連通しており、異なる前記サブ加熱キャビティに連通している前記風路口は異なり、同一の前記サブ加熱キャビティに連通している一方の前記風路口は吸気用の吸気口であり、同一の前記サブ加熱キャビティに連通している他方の前記風路口は排気用の排気口であることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記加熱キャビティは、同心円状に設けられる複数の環状キャビティと、前記環状キャビティに沿って半径方向に延在する仕切り板とを含み、前記仕切り板は各前記環状キャビティを2つの半分環状キャビティに対称的に仕切り、前記半分環状キャビティは前記サブ加熱キャビティであり、同一の前記サブ加熱キャビティに連通している前記吸気口及び前記排気口はいずれも前記サブ加熱キャビティの両端に位置する請求項6に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 隣接し且つ直径が異なる2つの前記サブ加熱キャビティの間に両者を連通させる第1逃がし孔が設けられ、直径が最小の前記サブ加熱キャビティに前記加熱キャビティの外部に連通している第2逃がし孔が設けられることを特徴とする請求項6に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記風路の数が4つであり、2つの前記風路は吸気風路であり、別の2つの前記風路は排気風路であり、2つの前記吸気風路は、それぞれ仕切り板の両側に設けられ、2つの前記排気風路は、それぞれ前記仕切り板の両側に設けられ、各前記吸気風路及び各前記排気風路は、いずれも2つの前記アダプタ端部を有し、各前記吸気風路及び各前記排気風路は、いずれも前記通気端部を有し、
各前記吸気風路の2つの前記アダプタ端部は、それぞれ前記仕切り板の同じ側に位置する隣接する2つの前記サブ加熱キャビティの前記吸気口に連通しており、
各前記排気風路の2つの前記アダプタ端部は、それぞれ前記仕切り板の同じ側に位置する隣接する2つの前記サブ加熱キャビティの前記排気口に連通していることを特徴とする請求項6に記載の半導体プロセスチャンバ。 - 2つの前記吸気風路の前記通気端部は、それぞれ第1ヒータの排気口と第2ヒータの排気口とに連通するためのものであり、2つの前記排気風路の前記通気端部は、それぞれ前記第1ヒータの吸気口と前記第2ヒータの吸気口とに連通するためのものであることを特徴とする請求項9に記載の半導体プロセスチャンバ。
- 前記熱風フードの天面にボスが設けられ、前記風路口が前記ボスの天面から前記加熱キャビティまで貫通し、前記ボスの天面と前記ハウジングの内側天壁との間に前記逃し隙間を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体プロセスチャンバ。
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CN117790356A (zh) * | 2022-09-29 | 2024-03-29 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 热风转接风道,热风系统及半导体工艺设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010141104A (ja) | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置 |
JP2012156275A (ja) | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置 |
US20130087283A1 (en) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Lam Research Corporation | Systems For Cooling RF Heated Chamber Components |
JP2015141957A (ja) | 2014-01-28 | 2015-08-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
WO2019099313A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Lam Research Corporation | Multi-zone cooling of plasma heated window |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0156011B1 (ko) * | 1991-08-12 | 1998-12-01 | 이노우에 아키라 | 플라즈마 처리장치 및 방법 |
US7276122B2 (en) * | 2004-04-21 | 2007-10-02 | Mattson Technology, Inc. | Multi-workpiece processing chamber |
KR101114848B1 (ko) * | 2008-02-08 | 2012-03-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
US10595365B2 (en) * | 2010-10-19 | 2020-03-17 | Applied Materials, Inc. | Chamber lid heater ring assembly |
CN103794457B (zh) * | 2012-10-29 | 2016-08-03 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种等离子体处理设备及其中的温度隔离装置 |
US9406535B2 (en) * | 2014-08-29 | 2016-08-02 | Lam Research Corporation | Ion injector and lens system for ion beam milling |
CN105789009B (zh) * | 2014-12-26 | 2018-05-25 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 用于等离子刻蚀设备的上盖和等离子刻蚀设备 |
JP6600990B2 (ja) * | 2015-01-27 | 2019-11-06 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP6551673B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2019-07-31 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
KR101693145B1 (ko) * | 2016-03-24 | 2017-01-04 | 고강익 | 가스 히팅 장치 및 이를 가지는 프로세스 챔버 |
CN108695148B (zh) * | 2017-04-12 | 2021-07-09 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 介质窗的温控装置及应用其的反应腔室 |
CN110706994B (zh) * | 2018-07-10 | 2022-04-22 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 工艺腔室和半导体处理设备 |
CN109041395B (zh) * | 2018-09-19 | 2019-07-23 | 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 | 一种用于等离子体发生器的气冷装置和等离子体发生器 |
CN110459456B (zh) * | 2019-08-16 | 2022-05-27 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 上电极结构、刻蚀腔室及半导体加工设备 |
CN111063603B (zh) * | 2019-12-30 | 2023-01-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体工艺设备 |
CN111725110B (zh) * | 2020-06-24 | 2023-09-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体加工设备 |
CN112820616B (zh) * | 2021-01-18 | 2024-04-12 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种半导体工艺腔室 |
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US20130087283A1 (en) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Lam Research Corporation | Systems For Cooling RF Heated Chamber Components |
JP2015141957A (ja) | 2014-01-28 | 2015-08-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
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