JP7424329B2 - 浴槽洗浄システム、給湯システムおよび浴槽洗浄制御方法 - Google Patents

Description

本開示は、浴槽洗浄システム、給湯システムおよび浴槽洗浄制御方法に関する。

入浴によって人体から発生した皮脂汚れ成分は、浴水中に溶出する。浴水中に溶出した皮脂汚れ成分は、浴槽の壁面および底面に付着する。浴槽内に付着した皮脂汚れ成分に対して手洗いで洗浄を行うことは大きな負担になるため、浴槽を自動または半自動で洗浄する方策が求められている。

例えば特許文献１には、泡沫生成装置である気液混合装置において、浴槽内の浴水を用いて生成した洗剤水に空気を混合することにより泡沫を生成し、泡沫を浴槽内へ放出することで浴槽内の洗浄を行う給湯装置が開示されている。

特開２０１９－１９０７８２号公報

しかしながら、特許文献１に記載の技術では、泡沫生成装置において浴水を利用して泡沫を生成するため、泡沫生成装置の上流側の流路に浴水の汚れ成分が付着する問題があった。

本開示は、上述した問題を解決するためになされたもので、泡沫生成装置の上流側の流路に付着した浴水の汚れ成分を効果的に洗浄することができる浴槽洗浄システム、給湯システムおよび浴槽洗浄制御方法を提供することを目的とする。

本開示に係る浴槽洗浄システムは、洗剤と水とが混合して生成した洗剤水を貯留する洗剤水貯留部と、浴槽に設けられた吸込口と洗剤水貯留部とを接続する浴水供給流路と、浴槽に設けられた吐出口と洗剤水貯留部とを接続する泡沫供給流路と、浴水供給流路に設けられ浴槽内の浴水を洗剤水貯留部に供給する浴水供給手段と、洗剤水貯留部に貯留された洗剤水に気体を混合して泡沫を生成する泡沫生成装置と、浴水供給流路が開通し泡沫供給流路が遮断された第一状態と泡沫供給流路が開通し浴水供給流路が遮断された第二状態とを切り替える流路切替手段と、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で浴水供給手段を制御して浴水を洗剤水貯留部に供給し洗剤水を生成する洗剤水生成処理と、流路切替手段を制御して第二状態に切り替えた状態で泡沫生成装置を制御して泡沫を浴槽に供給する浴槽洗浄処理と、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で泡沫生成装置を制御して泡沫を浴水供給流路に供給する浴水供給流路洗浄処理と、を実施する制御部と、を備える。

また、本開示に係る浴槽洗浄制御方法は、洗剤と水とが混合して生成した洗剤水を貯留する洗剤水貯留部と、浴槽に設けられた吸込口と洗剤水貯留部とを接続する浴水供給流路と、浴槽に設けられた吐出口と洗剤水貯留部とを接続する泡沫供給流路と、浴水供給流路に設けられ浴槽内の浴水を洗剤水貯留部に供給する浴水供給手段と、洗剤水貯留部に貯留された洗剤水に気体を混合して泡沫を生成する泡沫生成装置と、浴水供給流路が開通し泡沫供給流路が遮断された第一状態と泡沫供給流路が開通し浴水供給流路が遮断された第二状態とを切り替える流路切替手段と、を備えた浴槽洗浄システムに用いられる浴槽洗浄制御方法であって、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で浴水供給手段を制御して浴水を洗剤水貯留部に供給し洗剤水を生成する第一ステップと、流路切替手段を制御して第二状態に切り替えた状態で泡沫生成装置を制御して泡沫を浴槽に供給する第二ステップと、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で泡沫生成装置を制御して泡沫を浴水供給流路に供給する第三ステップと、を備える。

本開示に係る浴槽洗浄システム、給湯システムおよび浴槽洗浄制御方法によれば、泡沫生成装置により生成した泡沫が浴水供給流路に供給される。これにより、泡沫生成装置の上流側の流路である浴水供給流路に付着した浴水の汚れ成分を効果的に洗浄することができる。

実施の形態１の給湯システムを示す構成図である。 実施の形態１の給湯システムの機能を示すブロック図である。 実施の形態１の給湯システムを示す構成図であり、浴水供給流路を示す図である。 実施の形態１の給湯システムを示す構成図であり、泡沫供給流路を示す図である。 実施の形態１の制御部の洗浄運転における動作を示すフローチャートである。 実施の形態１の制御部の洗剤水生成処理における動作を示すフローチャートである。 実施の形態１の制御部の浴槽洗浄処理における動作を示すフローチャートである。 実施の形態１の制御部の浴水供給流路洗浄処理における動作を示すフローチャートである。 実施の形態２の給湯システムを示す構成図である。 実施の形態２の給湯システムの機能を示すブロック図である。 実施の形態２の給湯システムを示す構成図であり、浴水供給流路を示す図である。 実施の形態２の給湯システムを示す構成図であり、泡沫供給流路を示す図である。 実施の形態２の変形例の給湯システムを示す構成図であり、吐出流路を示す図である。

以下、図面を参照して実施の形態について説明する。なお、各図において共通する要素には、同一の符号を付して、重複する説明を簡略化または省略する。本開示は、以下の各実施の形態で説明する構成のうち、組み合わせ可能な構成のあらゆる組み合わせを含み得る。また、以下の説明において、「水」との表記は、その温度にかかわらず、冷水から熱湯まで、液状の水全般を含みうるものとする。また、以下の説明において、泡沫とは、気泡が多数集まることでクリーム状の塊を形成する泡を意味する。すなわち、泡沫とは、フォーム（ｆｏａｍ）を意味する。また、以下の説明において、洗剤すなわち界面活性剤が混合された水を「洗剤水」と称する。また、以下の説明において、浴槽内に溜められた水を「浴水」と呼ぶことがある。

実施の形態１．
図１を用いて、実施の形態１の浴槽洗浄システムを備えた給湯システム１００の構成を説明する。図１は、実施の形態１の給湯システム１００を示す構成図である。

図１に示すように、実施の形態１の給湯システム１００は、給湯装置１、浴槽洗浄装置２、リモコン装置３および制御装置４を備える。

給湯装置１は、水を加熱し、加熱した水を浴槽２００へ供給する装置である。給湯装置１は、貯湯タンク１０、加熱装置１１、加熱回路１２、給水流路１３、給湯流路１４および浴水循環回路１５を有する。本実施の形態において、給湯装置１は貯湯式の給湯装置である。給湯装置１は、貯湯式の給湯装置でなく、例えば瞬間式の給湯装置であってもよい。

貯湯タンク１０は、加熱装置１１により加熱された水を貯留する。貯湯タンク１０内には、温度による水の密度の違いにより、上側が高温で下側が低温の温度成層が形成される。

加熱装置１１は、貯湯タンク１０から導かれた水を加熱する加熱手段である。本実施の形態において、加熱装置１１は、ヒートポンプサイクルを利用して水を加熱するヒートポンプ式の加熱装置である。加熱装置１１は、ヒートポンプ式の加熱装置でなく、例えば燃料式または電気ヒータ式の加熱装置であってもよい。

加熱回路１２は、貯湯タンク１０内の水を加熱装置１１に送り、加熱装置１１により加熱された水を貯湯タンク１０内に戻す回路である。加熱回路１２は、第一加熱配管２１、第二加熱配管２２および加熱循環ポンプ２３を備える。

第一加熱配管２１は、貯湯タンク１０の下部と加熱装置１１の水入口とを接続する。第二加熱配管２２は、加熱装置１１の湯出口と貯湯タンク１０の上部とを接続する。加熱循環ポンプ２３は、貯湯タンク１０内の水を加熱装置１１に送る。本実施の形態において、加熱循環ポンプ２３は、第一加熱配管２１の途中に設けられる。

給水流路１３は、水道等の水源から給湯装置１に水を供給する流路である。給水流路１３は、第一給水配管３１および第二給水配管３２を備える。

第一給水配管３１は、水源と後述する混合弁４３とを接続する。第二給水配管３２は、第一給水配管３１の途中と貯湯タンク１０の下部とを接続する。

給湯流路１４は、加熱装置１１により加熱され貯湯タンク１０に貯留された高温の水を浴槽２００へ供給する流路である。給湯流路１４は、第一給湯配管４１、第二給湯配管４２、混合弁４３および給湯用電磁弁４４を備える。

第一給湯配管４１は、貯湯タンク１０の上部と混合弁４３とを接続する。第二給湯配管４２は、混合弁４３と浴水循環回路１５とを接続する。

混合弁４３は、三方弁であり、入口となるａポートおよびｂポートと、出口となるｃポートと、を有する。混合弁４３のａポートには、第一給湯配管４１が接続される。混合弁４３のｂポートには、第一給水配管３１が接続される。混合弁４３のｃポートには、第二給湯配管４２が接続される。混合弁４３は、ａポートから流入する水と、ｂポートから流入する水との混合比を調整することにより、ｃポートから流出する水の温度を調整する。

給湯用電磁弁４４は、第二給湯配管４２の途中に設けられる。給湯用電磁弁４４は、第二給湯配管４２内の流路を開閉する開閉弁である。

浴水循環回路１５は、浴槽２００内の浴水を循環させる回路である。浴水循環回路１５は、第一風呂配管５１、第二風呂配管５２、加熱部５３、浴水循環ポンプ５４および水位センサ５５を備える。

第一風呂配管５１は、浴槽２００の内壁に取り付けられた浴槽アダプタ１１０と加熱部５３とを接続する。第二風呂配管５２は、加熱部５３と浴槽アダプタ１１０とを接続する。第一風呂配管５１の途中には、第二給湯配管４２が接続される。

浴槽アダプタ１１０は、吸込口１１１および吐出口１１２を有する。吸込口１１１には、第一風呂配管５１が接続される。吸込口１１１は、浴槽２００内の浴水を浴水循環回路１５内に吸い込み可能である。吐出口１１２には、第二風呂配管５２が接続される。吐出口１１２は、浴水循環回路１５を循環する浴水を浴槽２００へ吐出可能である。本実施の形態において、吸込口１１１は、鉛直方向において吐出口１１２よりも低い位置に設けられる。

加熱部５３は、浴水循環回路１５を循環する浴水を加熱する。本実施の形態において、加熱部５３は、貯湯タンク１０から供給される高温水との熱交換によって浴水を加熱する熱交換器である。加熱部５３は、例えば、電気ヒータによって浴水を加熱してもよいし、燃料の燃焼熱によって浴水を加熱してもよい。

浴水循環ポンプ５４は、浴槽２００内の浴水を浴水循環回路１５に循環させる。本実施の形態において、浴水循環ポンプ５４は第一風呂配管５１の途中に設けられ、浴槽２００から加熱部５３へ向かう水の流れを発生させる。

水位センサ５５は、浴槽２００内の水位を検出する水位検出手段である。本実施の形態において、水位センサ５５は第一風呂配管５１の途中に設けられ、第一風呂配管５１内の水圧に基づいて浴槽２００内の水位を検出する。

浴槽洗浄装置２は、浴槽２００を洗浄するための泡沫を浴槽２００へ供給する装置である。浴槽洗浄装置２は、浴水循環回路１５の途中に設けられる。浴槽洗浄装置２は、流路切替弁６１、第一洗浄配管６２、第二洗浄配管６３、洗剤タンク６４、洗剤用電磁弁６５、洗剤水タンク６６および泡沫生成装置６７を備える。

流路切替弁６１は、流路を切り替える流路切替手段である。流路切替弁６１は、浴水循環回路１５の途中に設けられる。本実施の形態において、流路切替弁６１は、第二風呂配管５２の途中に設けられる。流路切替弁６１は、三方弁であり、ａポート、ｂポートおよびｃポートを有する。流路切替弁６１のａポートには、加熱部側第二風呂配管５２ａの一端が接続される。加熱部側第二風呂配管５２ａは、第二風呂配管５２における流路切替弁６１よりも加熱部５３側の部分である。加熱部側第二風呂配管５２ａの他端は、加熱部５３に接続される。流路切替弁６１のｂポートには、浴槽側第二風呂配管５２ｂの一端が接続される。浴槽側第二風呂配管５２ｂは、第二風呂配管５２における流路切替弁６１よりも浴槽２００側の部分である。浴槽側第二風呂配管５２ｂの他端は、浴槽アダプタ１１０の吐出口１１２に接続される。流路切替弁６１のｃポートには、第一洗浄配管６２の一端が接続される。第一洗浄配管６２の他端は、洗剤水タンク６６に接続される。流路切替弁６１は、ａ－ｂ流路、ａ－ｃ流路およびｂ－ｃ流路の３つの流路の間で流路を切替可能である。

第一洗浄配管６２の途中には、第二洗浄配管６３の一端が接続される。第二洗浄配管６３の他端は、洗剤タンク６４に接続される。

洗剤タンク６４は、浴槽２００を洗浄するために用いる洗剤を貯蔵する洗剤貯蔵部である。本実施の形態では洗剤タンク６４に液体洗剤が貯蔵されている場合の例を説明するが、洗剤は例えば粉末洗剤であってもよい。

洗剤用電磁弁６５は、第二洗浄配管６３の途中に設けられる。洗剤用電磁弁６５は、第二洗浄配管６３内の流路を開閉する開閉弁である。洗剤用電磁弁６５が開くことにより、洗剤タンク６４内の洗剤が重力によって洗剤水タンク６６へ供給される。洗剤用電磁弁６５は、洗剤タンク６４に貯蔵された洗剤を洗剤水タンク６６へ供給する洗剤供給手段の一例である。なお、洗剤供給手段として、例えば、洗剤タンク６４に貯蔵された洗剤を洗剤水タンク６６へ供給するポンプを備えていてもよい。

洗剤水タンク６６は、浴水循環回路１５を通って送られてきた浴水と、洗剤タンク６４から送られてきた洗剤とが混合して生成した洗剤水を貯留する洗剤水貯留部である。

泡沫生成装置６７は、洗剤水タンク６６に貯留された洗剤水に気体を混合して泡沫を生成する装置である。本実施の形態において、泡沫生成装置６７は、洗剤水循環回路７１、洗剤水循環ポンプ７２、気液混合装置７３、給気通路７４および給気用電磁弁７５を備える。

洗剤水循環回路７１は、洗剤水タンク６６に貯留された洗剤水を循環させる回路である。洗剤水循環回路７１は、一端および他端が洗剤水タンク６６に接続される。洗剤水循環ポンプ７２は、洗剤水循環回路７１に設けられ、洗剤水タンク６６から気液混合装置７３へ向かう洗剤水の流れを発生させる。気液混合装置７３は、洗剤水循環回路７１に設けられる。気液混合装置７３は、気体と液体とを混合する装置である。給気通路７４は、一端が気液混合装置７３に接続され、他端が給気用電磁弁７５に接続される。給気用電磁弁７５は、給気通路７４内の通路を開閉する開閉弁である。給気用電磁弁７５は、気液混合装置７３へ気体を供給する給気手段である。

気液混合装置７３は、例えば、流路を縮径させる縮径部を有するエジェクタを備える。洗剤水循環ポンプ７２により洗剤水循環回路７１に洗剤水が循環している状態で給気用電磁弁７５が開くと、気液混合装置７３の縮径部に発生する負圧により、給気通路７４を通って気体が気液混合装置７３に供給される。これにより、気液混合装置７３を通過する洗剤水に気体が注入され、泡沫が発生する。

なお、泡沫生成装置６７は上述した構造に限られない。例えば、泡沫生成装置６７は、気液混合装置７３へ気体を供給する給気手段として空気ポンプを備えていてもよい。この場合、気液混合装置７３はエジェクタを備えていなくてもよく、空気ポンプによって供給される気体と洗剤水循環回路７１を循環する洗剤水とを混合できる構造であればよい。

リモコン装置３は、使用者からの操作を受け付ける操作端末である。リモコン装置３は、例えば浴室内に設置される。リモコン装置３は、表示部３ａおよび操作部３ｂを有する。表示部３ａは、給湯システム１００の状態に関する情報を表示する。表示部３ａは、例えば液晶ディスプレイによって構成される。表示部３ａは、使用者に情報を報知する報知手段の一例である。操作部３ｂは、給湯システム１００に関する使用者からの操作を受け付ける。操作部３ｂは、例えばボタンまたはキーによって構成される。

なお、表示部３ａは、操作部の機能を兼ね備えたタッチパネルであってもよい。また、報知手段として表示部３ａではなくスピーカ等の音声装置を備え、音声によって使用者に情報を報知するようにしてもよい。また、リモコン装置３は、浴室内ではなく、例えば台所またはリビングに設置されていてもよい。また、例えばスマートフォンのような携帯情報端末が操作端末としての機能を有するようにしてもよい。

制御装置４は、給湯システム１００が備える各機器の動作を制御する。本実施の形態において、制御装置４は給湯装置１に搭載される。制御装置４は、給湯装置１以外の場所に設置されていてもよい。

また、制御装置４は、浴槽２００の底部に設けられた自動排水栓２１０の動作を制御可能である。自動排水栓２１０は、制御装置４の制御により自動で開閉する。自動排水栓２１０が閉じているときは、浴槽２００内に浴水を溜めることができる。自動排水栓２１０が開くと、浴槽２００内に溜められた浴水が浴槽２００の外部に排出される。

なお、実施の形態１の浴槽洗浄システムは、少なくとも浴槽洗浄装置２、浴水循環回路１５および制御装置４によって実現される。

図２は、実施の形態１の給湯システム１００の機能を示すブロック図である。図２に示すように、制御装置４は、給湯装置１、浴槽洗浄装置２、リモコン装置３および自動排水栓２１０とそれぞれ通信可能に接続されている。制御装置４には、操作部３ｂおよび水位センサ５５からの情報が入力される。制御装置４は、入力されたこれらの情報に基づいて、表示部３ａ、加熱装置１１、加熱循環ポンプ２３、混合弁４３、給湯用電磁弁４４、浴水循環ポンプ５４、流路切替弁６１、洗剤用電磁弁６５、洗剤水循環ポンプ７２、給気用電磁弁７５および自動排水栓２１０の動作を制御する。

制御装置４は、制御部８１および記憶部８２を備える。制御部８１は、記憶部８２に記憶された制御プログラムに従って各種処理を実行する。記憶部８２は、制御部８１が実行する制御プログラムおよび制御プログラムの実行に必要なデータを記憶する。

制御部８１の機能は、例えばプロセッサがメモリに記憶された制御プログラムを実行することにより実現される。記憶部８２の機能は、例えばメモリにデータが記憶されることにより実現される。プロセッサは、例えばＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）である。メモリは、例えばＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、フラッシュメモリ等の不揮発性または揮発性の半導体メモリである。

次に、実施の形態１の給湯システム１００の動作について説明する。実施の形態１の給湯システム１００は、沸き上げ運転、湯張り運転、追い焚き運転および洗浄運転を実施可能である。

沸き上げ運転は、加熱装置１１により加熱された水を貯湯タンク１０内に貯留する運転である。沸き上げ運転において、制御部８１は、加熱装置１１および加熱循環ポンプ２３を駆動する。これにより、貯湯タンク１０内の下部の低温水が第一加熱配管２１を通って加熱装置１１に送られる。加熱装置１１で加熱されて生成した高温水は、第二加熱配管２２を通って貯湯タンク１０内の上部に流入する。

湯張り運転は、加熱装置１１により加熱されて貯湯タンク１０内に貯留された湯を浴槽２００へ供給する運転である。湯張り運転において、制御部８１は、給湯用電磁弁４４を開く。これにより、水源から供給された水が第一給水配管３１および第二給水配管３２を通って、貯湯タンク１０内の下部に流入する。貯湯タンク１０内の下部に水が流入すると、貯湯タンク１０内の上部から高温の水が取り出される。貯湯タンク１０内の上部から取り出された高温水は、第一給湯配管４１を通って、混合弁４３のａポートに流入する。また、水源から供給された低温の水は、第一給水配管３１を通って、混合弁４３のｂポートに流入する。混合弁４３では、貯湯タンク１０内の上部から供給された高温水と、水源から供給された低温水とが混合される。混合弁４３で混合されて温度調整された水は、二通りの流路で浴槽２００内へ流入する。一つ目の流路は、第二給湯配管４２、第一風呂配管５１および吸込口１１１を通って浴槽２００内へ流入する流路である。二つ目の流路は、第二給湯配管４２、第二風呂配管５２および吐出口１１２を通って浴槽２００内へ流入する流路である。

追い焚き運転は、浴槽２００内の浴水を加熱する運転である。追い焚き運転において、制御部８１は、流路切替弁６１をａポートとｂポートとが連通した状態に切り替える。また、制御部８１は、浴水循環ポンプ５４を駆動する。これにより、浴槽２００内の浴水が浴水循環回路１５を循環して加熱部５３で加熱され、加熱されて温度上昇した浴水が浴槽２００内に流入する。

洗浄運転は、浴槽２００内の洗浄を行う運転である。本実施の形態の給湯システム１００は、洗浄運転において、洗剤水生成処理、浴槽洗浄処理および浴水供給流路洗浄処理を実施する。

洗剤水生成処理は、浴槽２００内の浴水と、洗剤タンク６４内の洗剤とを混合して洗剤水を生成する処理である。図３には、洗剤水生成処理において浴水が通過する浴水供給流路１６を太線で示す。図３は、実施の形態１の給湯システム１００を示す構成図であり、浴水供給流路１６を示す図である。図３に示すように、浴水供給流路１６は、洗剤水タンク６６と吸込口１１１とを接続する流路である。本実施の形態において、浴水供給流路１６は、第一風呂配管５１、加熱部側第二風呂配管５２ａおよび第一洗浄配管６２により構成される。なお、本実施の形態において、浴水循環ポンプ５４は、浴水供給流路１６に設けられ、浴槽２００内の浴水を洗剤水タンク６６に供給する浴水供給手段である。

浴槽洗浄処理は、泡沫生成装置６７によって生成した泡沫を、吐出口１１２から浴槽２００内に供給することにより、浴槽２００内の洗浄を行う処理である。図４には、浴槽洗浄処理において泡沫が通過する泡沫供給流路１７を太線で示す。図４は、実施の形態１の給湯システム１００を示す構成図であり、泡沫供給流路１７を示す図である。図４に示すように、泡沫供給流路１７は、洗剤水タンク６６と吐出口１１２とを接続する流路である。本実施の形態において、泡沫供給流路１７は、第一洗浄配管６２および浴槽側第二風呂配管５２ｂにより構成される。

浴水供給流路洗浄処理は、泡沫生成装置６７によって生成した泡沫を浴水供給流路１６に供給することにより、浴水供給流路１６の洗浄を行う処理である。

次に、洗浄運転における制御部８１の具体的な動作について説明する。図５は、実施の形態１の制御部８１の洗浄運転における動作を示すフローチャートである。図５に示す洗浄運転の処理は、例えば湯張り運転が終了した後に開始される。

ステップＳ１において、制御部８１は、操作部３ｂにより洗浄運転を開始する洗浄指令を受けたか否かを判定する。制御部８１は、操作部３ｂにより洗浄指令を受けていない場合にはステップＳ１で待機し、操作部３ｂにより洗浄指令を受けた場合にはステップＳ２に進む。

ステップＳ２において、制御部８１は、自動排水栓２１０を開く。これにより、浴槽２００内の排水が開始される。

ステップＳ３において、制御部８１は、水位センサ５５によって検出された浴槽２００内の水位が吐出口１１２の位置以下であるか否かを判定する。制御部８１は、水位センサ５５によって検出された水位が吐出口１１２の位置よりも高い場合にはステップＳ３で待機し、水位センサ５５によって検出された水位が吐出口１１２の位置以下である場合にはステップＳ４に進む。

ステップＳ４において、制御部８１は、自動排水栓２１０を閉じる。これにより、浴槽２００内の排水が停止される。すなわち、浴槽２００内の水位が吸込口１１１と吐出口１１２との間の位置になった状態で保たれる。なお、図１には、浴槽２００内の浴水の液面２０１が、吸込口１１１と吐出口１１２との間の位置にある状態を示している。

ステップＳ５において、制御部８１は、洗剤水生成処理を実施する。すなわち、制御部８１は、浴槽２００内の浴水と洗剤タンク６４内の洗剤とを混合して洗剤水を生成する。洗剤水生成処理における具体的な処理は後述する。

ステップＳ６において、制御部８１は、浴槽洗浄処理を実施する。すなわち、制御部８１は、ステップＳ５の洗剤水生成処理で生成した洗剤水を用いて、泡沫生成装置６７によって泡沫を生成し、生成した泡沫を浴槽２００に供給して浴槽２００を洗浄する。浴槽洗浄処理における具体的な処理は後述する。

ステップＳ７において、制御部８１は、浴水供給流路洗浄処理を実施する。すなわち、制御部８１は、ステップＳ５の洗剤水生成処理で生成した洗剤水を用いて、泡沫生成装置６７によって泡沫を生成し、生成した泡沫を浴水供給流路１６に供給して浴水供給流路１６を洗浄する。浴水供給流路洗浄処理における具体的な処理は後述する。ステップＳ７の処理が終了すると、制御部８１は、図５に示す洗浄運転を終了する。

次に、図６を用いて、洗剤水生成処理における制御部８１の具体的な動作について説明する。図６は、実施の形態１の制御部８１の洗剤水生成処理における動作を示すフローチャートである。図６に示す洗剤水生成処理は、図５のステップＳ５の処理において実施される。

ステップＳ１１において、制御部８１は、洗剤用電磁弁６５を開く。これにより、洗剤タンク６４内に貯蔵された洗剤が、洗剤水タンク６６に供給される。

ステップＳ１２において、制御部８１は、洗剤水タンク６６に供給された洗剤量が設定洗剤量に達したか否かを判定する。制御部８１は、洗剤水タンク６６に供給された洗剤量が設定洗剤量に達していないと判定した場合にはステップＳ１２で待機し、洗剤水タンク６６に供給された洗剤量が設定洗剤量に達したと判定した場合には、ステップＳ１３に進む。

なお、洗剤水タンク６６に供給された洗剤量が設定洗剤量に達した否かは、例えば以下の方法で判定する。洗剤水タンク６６に供給された洗剤の量は、洗剤用電磁弁６５を開いてからの経過時間に基づいて推定できる。制御部８１は、洗剤用電磁弁６５を開いてからの経過時間が予め設定された設定時間に達した場合に、洗剤水タンク６６に供給された洗剤量が設定洗剤量に達したと判定する。

ステップＳ１３において、制御部８１は、洗剤用電磁弁６５を閉じる。これにより、洗剤水タンク６６への洗剤の供給が停止される。

ステップＳ１４において、制御部８１は、流路切替弁６１を制御して第一状態に切り替える。第一状態は、流路切替弁６１のａポートとｃポートとが連通した状態である。すなわち、第一状態では、吸込口１１１から洗剤水タンク６６に至る浴水供給流路１６が開通し、洗剤水タンク６６から吐出口１１２に至る泡沫供給流路１７が遮断される。

ステップＳ１５において、制御部８１は、浴水循環ポンプ５４を駆動する。これにより、浴槽２００内の浴水が浴水供給流路１６を通って、洗剤水タンク６６に供給される。洗剤水タンク６６では、洗剤と浴水とが混合して洗剤水が生成する。

ステップＳ１６において、制御部８１は、洗剤水タンク６６に供給された浴水の量が設定水量に達したか否かを判定する。制御部８１は、洗剤水タンク６６に供給された浴水の量が設定水量に達していないと判定した場合にはステップＳ１６で待機し、洗剤水タンク６６に供給された浴水の量が設定水量に達したと判定した場合にはステップＳ１７に進む。

なお、洗剤水タンク６６に供給された浴水の量が設定水量に達した否かは、例えば以下の方法で判定する。洗剤水タンク６６に供給された浴水の量は、浴水循環ポンプ５４の回転数と、浴水循環ポンプ５４の駆動を開始してからの経過時間とに基づいて推定できる。制御部８１は、浴水循環ポンプ５４を予め設定された設定回転数で駆動し、浴水循環ポンプ５４の駆動を開始してからの経過時間が予め設定された設定時間に達した場合に、洗剤水タンク６６に供給された浴水の量が設定水量に達したと判定する。

ステップＳ１７において、制御部８１は、浴水循環ポンプ５４の駆動を停止する。これにより、洗剤水タンク６６への浴水の供給が停止される。ステップＳ１７の処理が終了すると、制御部８１は、図６に示す洗剤水生成処理を終了する。

次に、図７を用いて、浴槽洗浄処理における制御部８１の具体的な処理動作について説明する。図７は、実施の形態１の制御部８１の浴槽洗浄処理における動作を示すフローチャートである。図７に示す浴槽洗浄処理は、図５のステップＳ６の処理において実施される。

ステップＳ２１において、制御部８１は、流路切替弁６１を制御して第二状態に切り替える。第二状態は、流路切替弁６１のｂポートとｃポートとが連通した状態である。すなわち、第二状態では、洗剤水タンク６６から吐出口１１２に至る泡沫供給流路１７が開通し、洗剤水タンク６６から吸込口１１１に至る浴水供給流路１６が遮断される。

ステップＳ２２において、制御部８１は、泡沫生成装置６７を駆動する。本実施の形態において、制御部８１は、洗剤水循環ポンプ７２を駆動し、給気用電磁弁７５を開く。これにより、洗剤水タンク６６内の洗剤水が洗剤水循環回路７１を通って気液混合装置７３に供給される。また、給気通路７４を通って、気体が気液混合装置７３に供給される。気液混合装置７３において、洗剤水に気体が注入され、泡沫が発生する。発生した泡沫は、洗剤水循環回路７１を通って洗剤水タンク６６内に流入する。洗剤水タンク６６内に流入した泡沫は、洗剤水タンク６６内の洗剤水の液面上に蓄積する。洗剤水タンク６６内が泡沫で満たされると、第一洗浄配管６２および浴槽側第二風呂配管５２ｂが順次泡沫で満たされ、吐出口１１２から浴槽２００内に泡沫が吐出される。吐出口１１２から吐出された泡沫は、浴槽２００内の液面２０１上に蓄積する。液面２０１上に蓄積した泡沫は、吐出口１１２から続いて吐出される泡沫に押されて、上方へ盛り上がる。このようにして、浴槽２００内の液面２０１よりも上の空間が泡沫で満たされる。これにより、浴槽２００の内壁の全周にわたって泡沫が付着するので、浴槽２００の内壁の全周に対して泡沫による洗浄効果を及ぼすことができる。

なお、本実施の形態において、浴槽２００に吐出される泡沫の泡径は、例えば１μｍから５０００μｍの範囲とする。泡径とは、個々の気泡の直径を算術平均した値を意味するものとする。浴槽２００に吐出される泡沫の泡径は、直径５０μｍ以下の気泡を含むことが望ましい。直径５０μｍ以下の気泡を含む泡沫によれば、特に優れた洗浄性能が得られる。浴槽２００に吐出される泡沫の泡径は、直径５００μｍ以上の気泡を含むようにしてもよい。直径５００μｍ以上の比較的大きい径の気泡を含む泡沫を浴槽２００内に吐出することにより、浴槽２００内に泡沫をより迅速に満たすことができる。

ステップＳ２３において、制御部８１は、浴槽２００内が泡沫で満たされたか否かを判定する。制御部８１は、例えば、浴槽２００内の泡沫上面２０２の位置が予め設定された設定位置以上となった場合に、浴槽２００内が泡沫で満たされたと判定する。本実施の形態において、制御部８１は、浴槽２００内の泡沫上面２０２の位置が浴槽２００の上端に近い位置になった場合に、浴槽２００内が泡沫で満たされたと判定する。図１には、浴槽２００の上端に近い位置まで泡沫が満たされたときの泡沫上面２０２の位置を示す。浴槽２００の上端に近い位置まで泡沫が満たされるようにすることにより、浴槽２００の上端に近い位置まで泡沫による洗浄効果を及ぼすことができる。制御部８１は、浴槽２００内が泡沫で満たされていないと判定した場合にはステップＳ２３で待機し、浴槽２００内が泡沫で満たされたと判定した場合にはステップＳ２４に進む。

なお、浴槽２００内における泡沫上面２０２の位置は、例えば、浴槽洗浄処理の開始時に水位センサ５５によって検出された浴槽２００内の水位と、浴槽２００のサイズと、浴槽２００内に供給された泡沫の体積とに基づいて推定できる。浴槽２００のサイズは、湯張り運転時における水の供給量と浴槽２００内の水位との関係に基づいて推定できる。浴槽２００内に供給された泡沫の体積は、泡沫生成装置６７の駆動時間から推定できる。

また、浴槽２００内における泡沫上面２０２の位置は、水位センサ５５による検出値に基づいて推定できる。この場合、水位センサ５５による検出値と、泡沫の体積との関係が予め記憶部８２に記憶される。制御部８１は、浴槽洗浄処理の開始時において水位センサ５５により検出された浴槽２００内の水位と、浴槽洗浄処理中における水位センサ５５の検出値の変化とに基づいて、泡沫上面２０２の位置を推定する。

ステップＳ２４において、制御部８１は、泡沫生成装置６７の駆動を停止する。すなわち、制御部８１は、洗剤水循環ポンプ７２の駆動を停止し、給気用電磁弁７５を閉じる。これにより、泡沫の生成が停止される。

ステップＳ２５において、制御部８１は、自動排水栓２１０を開く。これにより、浴槽２００内の浴水が排水されるとともに、浴槽２００内に蓄積された泡沫の位置が低下し、浴槽２００内の壁面および底面の全体に泡沫が付着する。つまり、浴槽２００内の全体に対して、泡沫による洗浄効果を及ぼすことができる。ステップＳ２５の処理が終了すると、制御部８１は、図７に示す浴槽洗浄処理を終了する。

次に、図８を用いて、浴水供給流路洗浄処理における制御部８１の具体的な処理動作について説明する。図８は、実施の形態１の制御部８１の浴水供給流路洗浄処理における動作を示すフローチャートである。図８に示す浴水供給流路洗浄処理は、図５のステップＳ７の処理において実施される。すなわち、浴水供給流路洗浄処理は、浴槽洗浄処理において自動排水栓２１０が開き、浴槽２００内の排水が開始された後に実施される。

ステップＳ３１において、制御部８１は、流路切替弁６１を制御して第一状態に切り替える。すなわち、制御部８１は、浴水供給流路１６が開通し泡沫供給流路１７が遮断された状態に切り替える。

ステップＳ３２において、制御部８１は、泡沫生成装置６７を駆動する。すなわち、制御部８１は、洗剤水循環ポンプ７２を駆動し、給気用電磁弁７５を開く。これにより、気液混合装置７３において、洗剤水に気体が注入され、泡沫が発生する。発生した泡沫は、洗剤水タンク６６内の洗剤水の液面上に蓄積し、洗剤水タンク６６、第一洗浄配管６２、加熱部側第二風呂配管５２ａ、第一風呂配管５１が順次泡沫で満たされ、吸込口１１１から浴槽２００内に泡沫が吐出される。これにより、洗剤水タンク６６から吸込口１１１に至る浴水供給流路１６に対して泡沫による洗浄効果を及ぼすことができる。

なお、本実施の形態において、浴水供給流路１６に供給される泡沫の泡径は、例えば１μｍから５０００μｍの範囲とする。浴水供給流路１６に供給される泡沫の泡径は、直径５０μｍ以下の気泡を含むことが望ましい。直径５０μｍ以下の気泡を含む泡沫によれば、特に優れた洗浄性能が得られる。浴水供給流路１６に供給される泡沫の泡径は、直径５００μｍ以上の気泡を含むようにしてもよい。直径５００μｍ以上の比較的大きい径の気泡を含む泡沫を浴水供給流路１６に供給することにより、浴水供給流路１６内に泡沫をより迅速に満たすことができる。

ステップＳ３３において、制御部８１は、浴水供給流路１６内が泡沫で満たされたか否かを判定する。制御部８１は、浴水供給流路１６内が泡沫で満たされていないと判定した場合にはステップＳ３３で待機し、浴水供給流路１６内が泡沫で満たされたと判定した場合にはステップＳ３４に進む。

なお、浴水供給流路１６内が泡沫で満たされたか否かは、例えば以下の方法で判定する。浴水供給流路１６に供給された泡沫の量は、泡沫生成装置６７の駆動を開始してからの経過時間に基づいて推定できる。制御部８１は、泡沫生成装置６７の駆動を開始してからの経過時間が予め設定された設定時間に達した場合に、浴水供給流路１６内が泡沫で満たされたと判定する。

ステップＳ３４において、制御部８１は、泡沫生成装置６７の駆動を停止する。すなわち、制御部８１は、洗剤水循環ポンプ７２の駆動を停止し、給気用電磁弁７５を閉じる。これにより、泡沫の生成が停止される。

ステップＳ３５において、制御部８１は、給湯用電磁弁４４を開く。このとき、制御部８１は、流路切替弁６１をａポートとｂポートとが連通した状態に切り替える。これにより、混合弁４３で温度調整された水が、第二給湯配管４２、第一風呂配管５１、第二風呂配管５２、吸込口１１１および吐出口１１２を通って浴槽２００内へ流入する。すなわち、浴水供給流路１６内の泡沫のすすぎ処理が行われる。したがって、浴水供給流路１６内に泡沫由来の洗剤が残留することを抑制することができる。なお、混合弁４３で温度調整された水を用いて浴水供給流路１６内のすすぎを行う例を説明したが、貯湯タンク１０内の水または水源の水を温度調整せずに浴水供給流路１６に供給するようにしてもよい。洗剤を含まない水を浴水供給流路１６に供給できれば洗剤のすすぎは可能である。

ステップＳ３６において、制御部８１は、予め設定されたすすぎ時間が経過したか否かを判定する。すすぎ時間は、予め設定された値であり、記憶部８２に記憶されている。制御部８１は、すすぎ時間が経過していないと判定した場合にはステップＳ３６で待機し、すすぎ時間が経過したと判定した場合にはステップＳ３７に進む。

ステップＳ３７において、制御部８１は、給湯用電磁弁４４を閉じる。これにより、浴水供給流路１６内のすすぎ処理が終了する。ステップＳ３７の処理が終了すると、制御部８１は、図８に示す浴水供給流路洗浄処理を終了する。

なお、浴水供給流路洗浄処理が終了した後、使用者がシャワー等を用いて浴槽２００内の泡沫のすすぎを行ってもよいし、浴槽２００内に水を噴射する噴射部を設け、噴射部により自動で浴槽２００内のすすぎを行うようにしてもよい。

実施の形態１の浴槽洗浄システムによれば、洗剤と水とが混合して生成した洗剤水を貯留する洗剤水貯留部（洗剤水タンク６６が該当）と、浴槽２００に設けられた吸込口１１１と洗剤水貯留部とを接続する浴水供給流路１６と、浴槽２００に設けられた吐出口１１２と洗剤水貯留部とを接続する泡沫供給流路１７と、浴水供給流路１６に設けられ浴槽２００内の浴水を洗剤水貯留部に供給する浴水供給手段（浴水循環ポンプ５４が該当）と、洗剤水貯留部に貯留された洗剤水に気体を混合して泡沫を生成する泡沫生成装置６７と、浴水供給流路１６が開通し泡沫供給流路１７が遮断された第一状態と泡沫供給流路１７が開通し浴水供給流路１６が遮断された第二状態とを切り替える流路切替手段（流路切替弁６１が該当）と、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で浴水供給手段を制御して浴水を洗剤水貯留部に供給し洗剤水を生成する洗剤水生成処理と、流路切替手段を制御して第二状態に切り替えた状態で泡沫生成装置６７を制御して泡沫を浴槽２００に供給する浴槽洗浄処理と、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で泡沫生成装置６７を制御して泡沫を浴水供給流路１６に供給する浴水供給流路洗浄処理と、を実施する制御部８１と、を備える。したがって、浴水を利用して洗剤水を生成して浴槽２００の洗浄を行う給湯システム１００において、洗剤水生成時に浴水が通過する浴水供給流路１６を泡沫によって効果的に洗浄することができる。

また、実施の形態１の浴槽洗浄システムによれば、洗剤水貯留部に洗剤を供給する洗剤供給手段（洗剤用電磁弁６５が該当）を備え、制御部８１は、洗剤水生成処理において、洗剤供給手段を制御して洗剤を洗剤水貯留部に供給する。これにより、洗剤水貯留部に洗剤を自動で供給することができ、使用者が洗剤水を生成するために都度洗剤を供給する手間を削減することができる。

また、実施の形態１の浴槽洗浄システムによれば、制御部８１は、浴槽２００に設けられた自動排水栓２１０の開閉を制御可能であり、浴槽洗浄処理を実施した後において自動排水栓２１０を開いた場合に、浴水供給流路洗浄処理を開始する。浴槽２００内の排水が開始されると、浴槽２００内の水位が下がり、水位が吸込口１１１よりも低くなる。このため、浴水供給流路１６に供給された泡沫が吸込口１１１まで供給されて吸込口１１１から浴槽２００内に吐出されるので、洗剤水タンク６６から吸込口１１１に至る浴水供給流路１６の全体に対して泡沫による洗浄効果を及ぼすことができる。

また、実施の形態１の浴槽洗浄システムによれば、制御部８１は、洗剤水生成処理を実施し、浴槽洗浄処理を実施した後に、浴水供給流路洗浄処理を実施する。これにより、洗剤水の生成から、浴槽２００内の洗浄および浴水供給流路１６の洗浄までを自動で順次実施することができ、使用者の利便性を向上させることができる。

また、実施の形態１の浴槽洗浄システムによれば、水源の水を浴水供給流路１６に供給する給水手段（給湯用電磁弁４４が該当）を備え、制御部８１は、浴水供給流路洗浄処理において、泡沫を浴水供給流路１６に供給した後、給水手段を制御して水源の水を浴水供給流路１６に供給するすすぎ処理を実施する。これにより、浴水供給流路１６内に洗剤が残留することを抑制することができる。なお、給水手段により供給する水源の水とは、水源から浴水供給流路１６内に直接供給される水だけでなく、水源から供給され加熱装置１１で加熱された水も含む。

また、実施の形態１の給湯システム１００によれば、水源の水を加熱する加熱装置１１を備え、制御部８１は、浴水供給流路１６のすすぎ処理において、加熱装置１１により加熱された水を浴水供給流路１６に供給する。これにより、水源の水を加熱せずに浴水供給流路１６に直接供給する場合と比較して、浴水供給流路１６内の汚れをより落としやすくすることができる。

また、実施の形態１の浴槽洗浄制御方法によれば、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で浴水供給手段を制御して浴水を洗剤水貯留部に供給し洗剤水を生成する第一ステップ（ステップＳ５が該当）と、流路切替手段を制御して第二状態に切り替えた状態で泡沫生成装置６７を制御して泡沫を浴槽２００に供給する第二ステップ（ステップＳ６が該当）と、流路切替手段を制御して第一状態に切り替えた状態で泡沫生成装置６７を制御して泡沫を浴水供給流路１６に供給する第三ステップ（ステップＳ７が該当）と、を備える。これにより、洗剤水生成時に浴水が通過する浴水供給流路１６を泡沫によって効果的に洗浄することができる。

実施の形態１の変形例について説明する。

実施の形態１では、制御部８１は、洗浄運転のステップＳ２からステップＳ４において、浴槽２００内の水位が吸込口１１１と吐出口１１２との間の位置になるように自動排水栓２１０の開閉を制御していた。しかし、ステップＳ２およびステップＳ４の処理は省略してもよい。すなわち、使用者が手動で自動排水栓２１０を開閉し、浴槽２００内の水位が吸込口１１１と吐出口１１２との間の位置になった場合に、ステップＳ５の洗剤水生成処理に進むようにしてもよい。

また、実施の形態１では、制御部８１は、洗浄運転において、浴槽２００内の水位が吸込口１１１と吐出口１１２との間の位置になった状態で洗剤水生成処理を開始していた。しかし、制御部８１は、浴槽２００内の水位が吐出口１１２より高い位置において洗剤水生成処理を開始するようにしてもよい。浴槽２００内の水位が吸込口１１１より高い位置であれば、洗剤水生成処理において洗剤水タンク６６に浴水を供給可能である。また、浴槽洗浄処理においては、浴槽２００内の水位が吐出口１１２より低い位置になっていれば、浴槽２００内の水位が吸込口１１１より低い位置になっていたとしても、浴槽２００内に泡沫を供給可能である。

また、実施の形態１では、制御部８１は、洗浄運転において、洗剤水生成処理を実施した後に浴槽洗浄処理および浴水供給流路洗浄処理を実施していた。しかし、制御部８１は、洗浄運転を開始する際に、洗剤水タンク６６内に既に洗剤水が生成されている場合、洗剤水生成処理を省略するようにしてもよい。

また、実施の形態１では、制御部８１は、洗浄運転において、浴槽洗浄処理を実施した後に浴水供給流路洗浄処理を実施していた。しかし、浴水供給流路洗浄処理を単独で実施できるように構成されていてもよい。すなわち、制御部８１は、例えばリモコン装置３により浴水供給流路洗浄処理を開始する指令を受けた場合に、浴水供給流路洗浄処理を開始するようにしてもよい。

また、実施の形態１では、制御部８１は、浴槽洗浄処理のステップＳ２２からステップＳ２４において、浴槽２００内の泡沫上面２０２の位置が浴槽２００の上端に近い位置になるまで浴槽２００内に泡沫を供給していた。しかし、制御部８１は、浴槽２００から泡沫があふれ出るまで浴槽２００内に泡沫を供給するようにしてもよい。これにより、浴槽２００の上端の縁部に対しても、泡沫による洗浄効果を及ぼすことができる。

また、浴槽２００内の入浴による皮脂汚れ成分は、入浴時の最大水位の高さに集中している。このため、制御部８１は、入浴中の最大水位に応じて泡沫の供給量を調節するようにしてもよい。具体的には、制御部８１は、浴槽洗浄処理の開始時に水位センサ５５により検出された水位と入浴中に水位センサ５５により検出された最大水位との水位差が第一水位差である場合、水位差が第一水位差よりも小さい第二水位差である場合よりも、浴槽洗浄処理において浴槽２００に供給する泡沫の量が多くなるように泡沫生成装置６７を制御する。これにより、浴槽２００内の汚れ成分が付着した位置に応じた量の泡沫を浴槽２００に供給することができ、泡沫を生成するために使用する洗剤水の量を必要最小限に抑えることができる。なお、制御部８１は、例えば、湯張り運転が終了してから洗浄運転が開始するまでの間に水位センサ５５により検出された水位を用いて、入浴中の最大水位を求める。また、使用者が入浴中であるか否かを検出する人検出センサを備える場合、制御部８１は、人検出センサを用いて使用者が入浴中であるか否かを判断し、入浴中に水位センサ５５により検出された水位を用いて、入浴中の最大水位を求めるようにしてもよい。

また、入浴中の最大水位に応じて泡沫の供給量を調節する場合、泡沫の供給量に応じて洗剤水タンク６６に供給する洗剤および浴水の量を調節するようにしてもよい。この場合、制御部８１は、水位差が第一水位差である場合、水位差が第二水位差である場合よりも、洗剤水生成処理において洗剤水タンク６６に供給する洗剤および浴水の量が多くなるように洗剤用電磁弁６５および浴水循環ポンプ５４を制御する。これにより、浴槽洗浄処理において浴槽２００に供給する泡沫の量に応じた量の洗剤および浴水で洗剤水を生成することができ、使用する洗剤の量を必要最小限に抑えることができる。

また、実施の形態１では、制御部８１は、浴槽洗浄処理において、浴槽２００内に泡沫を供給した後、ステップＳ２５において自動排水栓２１０を開くことによって、浴槽２００内の排水を行っていた。しかし、ステップＳ２５の処理は省略してもよい。すなわち、使用者が手動で自動排水栓２１０を開くことにより、浴槽２００内の排水を行うようにしてもよい。

また、実施の形態１では、制御部８１は、浴槽洗浄処理のステップＳ２５において自動排水栓２１０を開いた場合に、浴水供給流路洗浄処理を開始していた。しかし、制御部８１は、浴槽洗浄処理を実施した後において、水位センサ５５により浴槽２００内の水位の低下が検出された場合に、浴槽２００内の排水が開始されたことを判断し、浴水供給流路洗浄処理を開始するようにしてもよい。

また、実施の形態１では、制御部８１は、浴水供給流路洗浄処理において、洗剤水タンク６６から吸込口１１１に至る浴水供給流路１６の全体に泡沫が供給されるようにしていた。しかし、制御部８１は、浴水供給流路１６の少なくとも一部に泡沫が供給されればよい。浴水供給流路１６の少なくとも一部に泡沫を供給することができれば、従来のように浴水供給流路１６に泡沫を供給しない場合と比較して、浴水供給流路１６を泡沫によって効果的に洗浄することができる。

また、実施の形態１では、浴槽２００に自動で開閉可能な自動排水栓２１０が設けられている例を説明したが、自動排水栓２１０でなく、手動で開閉可能な排水栓が設けられていてもよい。

また、実施の形態１において、洗剤タンク６４に貯蔵された洗剤の量を検出する洗剤残量検出手段を備えていてもよい。洗剤として液体洗剤を用いる場合、洗剤残量検出手段は、例えば、洗剤タンク６４内の水圧に基づいて洗剤の量を検出する圧力センサであってもよいし、洗剤タンク６４内の水位を検出する赤外線センサであってもよい。制御部８１は、洗剤残量検出手段により検出された洗剤の量が予め設定された設定洗剤量未満になった場合、洗剤タンク６４に貯蔵された洗剤の量が少なくなった旨の報知を行うように、報知手段である表示部３ａを制御する。これにより、洗剤がなくなり浴槽洗浄処理および浴水供給流路洗浄処理が実施できない状態となることを防止することができる。

また、リモコン装置３によって、浴水供給流路洗浄処理を実施するか否かを使用者が設定可能に構成されていてもよい。この場合、浴水供給流路１６の汚れが少ない状態で頻繁に浴水供給流路洗浄処理が実施されることを防止することができ、洗剤の消費量が増えて不経済になることを抑制することができる。また、浴水供給流路洗浄処理にかかる時間により、使用者の利便性が損なわれることを抑制することができる。

また、実施の形態１では、洗剤タンク６４および洗剤用電磁弁６５により、洗剤水タンク６６に自動で洗剤を供給可能な構成としていた。しかし、洗剤タンク６４および洗剤用電磁弁６５を備えず、例えば、洗剤水タンク６６に使用者が直接洗剤を投入可能な構成となっていてもよい。

実施の形態２．
図９を用いて、実施の形態２の浴槽洗浄システムを備えた給湯システム１００ｂの構成について説明する。図９は、実施の形態２の給湯システム１００ｂを示す構成図である。前述した実施の形態１との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分については説明を簡略化または省略する。

図９に示すように、実施の形態２の給湯システム１００ｂは、実施の形態１の給湯システム１００と比較して、浴槽洗浄装置２ｂの構成が異なる。また、浴槽２００には、浴槽アダプタ１１０に加えて、第二浴槽アダプタ１２０が取り付けられる。また、第二浴槽アダプタ１２０が吐出口１１２を有し、浴槽アダプタ１１０は吐出口１１２でなく第二吐出口１１３を有する。

第二浴槽アダプタ１２０は、鉛直方向において浴槽アダプタ１１０よりも高い位置に設けられる。すなわち、吐出口１１２は、鉛直方向において浴槽アダプタ１１０よりも高い位置に設けられる。また、浴槽アダプタ１１０の第二吐出口１１３は、鉛直方向において吐出口１１２よりも低く、吸込口１１１よりも高い位置に設けられる。

実施の形態２の浴槽洗浄装置２ｂは、流路切替手段として、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを備える。また、浴槽洗浄装置２ｂは、実施の形態１の浴槽洗浄装置２に加えて、第三洗浄配管６８および第四洗浄配管６９を備える。

第一流路切替弁６１ａは、三方弁であり、ａポート、ｂポートおよびｃポートを有する。第一流路切替弁６１ａのａポートには、第三洗浄配管６８の一端が接続される。第三洗浄配管６８の他端は、第二流路切替弁６１ｂに接続される。第一流路切替弁６１ａのｂポートには、第四洗浄配管６９の一端が接続される。第四洗浄配管６９の他端は、第二浴槽アダプタ１２０の吐出口１１２に接続される。第一流路切替弁６１ａのｃポートには、第一洗浄配管６２が接続される。第一流路切替弁６１ａは、ａ－ｂ流路、ａ－ｃ流路およびｂ－ｃ流路の３つの流路の間で流路を切替可能である。

第二流路切替弁６１ｂは、浴水循環回路１５の途中に設けられる。実施の形態２において、第二流路切替弁６１ｂは、第二風呂配管５２の途中に設けられる。第二流路切替弁６１ｂは、三方弁であり、ａポート、ｂポートおよびｃポートを有する。第二流路切替弁６１ｂのａポートには、、加熱部側第二風呂配管５２ｃの一端が接続される。加熱部側第二風呂配管５２ｃは、第二風呂配管５２における第二流路切替弁６１ｂよりも加熱部５３側の部分である。加熱部側第二風呂配管５２ｃの他端は、加熱部５３に接続される。第二流路切替弁６１ｂのｂポートには、浴槽側第二風呂配管５２ｄの一端が接続される。浴槽側第二風呂配管５２ｄは、第二風呂配管５２における第二流路切替弁６１ｂよりも浴槽２００側の部分である。浴槽側第二風呂配管５２ｄの他端は、浴槽アダプタ１１０の第二吐出口１１３に接続される。第二流路切替弁６１ｂのｃポートには、第三洗浄配管６８が接続される。第二流路切替弁６１ｂは、ａ－ｂ流路、ａ－ｃ流路およびｂ－ｃ流路の３つの流路の間で流路を切替可能である。

なお、実施の形態２の浴槽洗浄システムは、少なくとも浴槽洗浄装置２ｂ、浴水循環回路１５および制御装置４によって実現される。

図１０は、実施の形態２の給湯システム１００ｂの機能を示すブロック図である。図１０に示すように、制御装置４は、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂと通信可能に接続されている。制御装置４は、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂの動作を制御する。

次に、実施の形態２の給湯システム１００ｂの動作について説明する。実施の形態２の給湯システム１００ｂは、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して、浴水供給流路１６ｂが開通し泡沫供給流路１７ｂが遮断された第一状態と、泡沫供給流路１７ｂが開通し浴水供給流路１６ｂが遮断された第二状態と、浴水循環回路１５が開通し浴水供給流路１６ｂが遮断された第三状態とを切り替え可能である。制御部８１は、洗剤水生成処理および浴水供給流路洗浄処理においては第一状態とし、浴槽洗浄処理においては第二状態とし、湯張り運転および追い焚き運転においては第三状態とする。

図１１には、実施の形態２の浴水供給流路１６ｂを太線で示す。図１１は、実施の形態２の給湯システム１００ｂを示す構成図であり、浴水供給流路１６ｂを示す図である。図１１に示すように、浴水供給流路１６ｂは、洗剤水タンク６６と吸込口１１１とを接続する流路である。実施の形態２において、浴水供給流路１６ｂは、第一風呂配管５１、加熱部側第二風呂配管５２ｃ、第三洗浄配管６８および第一洗浄配管６２により構成される。

図１２には、実施の形態２の泡沫供給流路１７ｂを太線で示す。図１２は、実施の形態２の給湯システム１００ｂを示す構成図であり、泡沫供給流路１７ｂを示す図である。図１２に示すように、泡沫供給流路１７ｂは、洗剤水タンク６６と吐出口１１２とを接続する流路である。実施の形態２において、泡沫供給流路１７ｂは、第一洗浄配管６２および第四洗浄配管６９により構成される。

洗剤水生成処理における制御部８１の動作は、実施の形態１と同様であるが、ステップＳ１４における具体的な処理が異なる。

ステップＳ１４において、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して第一状態に切り替える。具体的には、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａのａポートとｃポートとが連通し、第二流路切替弁６１ｂのａポートとｃポートとが連通した状態に切り替える。すなわち、第一状態では、吸込口１１１から洗剤水タンク６６に至る浴水供給流路１６ｂが開通し、洗剤水タンク６６から吐出口１１２に至る泡沫供給流路１７ｂが遮断される。

また、浴槽洗浄処理における制御部８１の動作は、実施の形態１と同様であるが、ステップＳ２１における具体的な処理が異なる。

ステップＳ２１において、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して第二状態に切り替える。具体的には、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａのｂポートとｃポートとが連通した状態に切り替える。すなわち、第二状態では、洗剤水タンク６６から吐出口１１２に至る泡沫供給流路１７ｂが開通し、吸込口１１１から洗剤水タンク６６に至る浴水供給流路１６ｂが遮断される。

また、浴水供給流路洗浄処理における制御部８１の具体的な処理動作は、実施の形態１と同様であるが、ステップＳ３１およびステップＳ３５における具体的な処理が異なる。

ステップＳ３１において、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して第一状態に切り替える。すなわち、制御部８１は、浴水供給流路１６ｂが開通し、泡沫供給流路１７ｂが遮断された状態に切り替える。これにより、ステップＳ３２において制御部８１が泡沫生成装置６７を駆動すると、泡沫生成装置６７により発生した泡沫が浴水供給流路１６ｂに供給される。

また、ステップＳ３５において、制御部８１は、給湯用電磁弁４４を開く。このとき、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａのａポートとｂポートとが連通し、第二流路切替弁６１ｂのａポートとｃポートとが連通した状態にする。これにより、浴水供給流路１６内の泡沫のすすぎ処理が行われる。

また、湯張り運転および追い焚き運転においては、制御部８１は、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して第三状態に切り替える。具体的には、制御部８１は、第二流路切替弁６１ｂのａポートとｂポートとが連通した状態に切り替える。すなわち、第三状態では、浴水循環回路１５が開通し浴水供給流路１６ｂが遮断される。

実施の形態２の浴槽洗浄システムによれば、浴槽２００に設けられた第二吐出口１１３と浴水供給流路１６ｂとが接続されることによって形成され、第二吐出口１１３と吸込口１１１とを接続する浴水循環回路１５を備え、第二吐出口１１３は、吐出口１１２よりも低い位置に設けられ、流路切替手段（第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂが該当）は、浴水供給流路１６ｂが開通し泡沫供給流路１７ｂが遮断された第一状態と、泡沫供給流路１７ｂが開通し浴水供給流路１６ｂが遮断された第二状態と、浴水循環回路１５が開通し浴水供給流路１６ｂが遮断された第三状態と、を切り替え可能である。ここで、浴槽洗浄処理においては、浴槽２００内の浴水の液面２０１が吐出口１１２より低い位置にある必要がある。実施の形態２の浴槽洗浄システムによれば、吐出口１１２は、湯張り運転または追い焚き運転などの運転において浴水循環回路１５を通過した浴水が吐出される第二吐出口１１３よりも高い位置に設けられる。このため、浴槽２００内の浴水の液面２０１が比較的高い位置にあっても浴槽洗浄処理を実施可能である。よって、実施の形態１よりも早い段階で浴槽洗浄処理を開始することができる。また、浴槽２００内の浴水の液面２０１が比較的高い位置にある状態で浴槽洗浄処理を実施することで、実施の形態１と比較して、浴槽２００内の壁面を洗浄するために必要な泡沫の量を減らすことができるので、使用する洗剤の量を減らすことができ、また、浴槽洗浄処理に必要な時間を短縮することができる。

実施の形態２の変形例について説明する。

実施の形態２では、制御部８１は、浴水供給流路洗浄処理において、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して第一状態に切り替えていた。しかし、制御部８１は、浴水供給流路洗浄処理において、第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して第一状態と第四状態とを切り替え可能であってもよい。第四状態は、第二吐出口１１３と洗剤水タンク６６とを接続する吐出流路１８が開通し、浴水供給流路１６ｂおよび泡沫供給流路１７ｂが遮断された状態である。

図１３には、吐出流路１８を太線で示す。図１３は、実施の形態２の変形例の給湯システム１００ｂを示す構成図であり、吐出流路１８を示す図である。図１３に示すように、吐出流路１８は、第二吐出口１１３と浴水供給流路１６ｂとが接続されることによって形成され、第二吐出口１１３と洗剤水タンク６６とを接続する流路である。実施の形態２において、吐出流路１８は、第一洗浄配管６２、第三洗浄配管６８および浴槽側第二風呂配管５２ｄにより構成される。制御部８１は、第一流路切替弁６１ａのａポートとｃポートとが連通し、第二流路切替弁６１ｂのｂポートとｃポートとが連通した状態に切り替えることにより、吐出流路１８が開通し浴水供給流路１６ｂおよび泡沫供給流路１７ｂが遮断された第四状態に切り替えることができる。

実施の形態２の変形例の浴槽洗浄システムによれば、制御部８１は、浴水供給流路洗浄処理において、流路切替手段である第一流路切替弁６１ａおよび第二流路切替弁６１ｂを制御して、浴水供給流路１６ｂが開通し泡沫供給流路１７ｂが遮断された第一状態と、吐出流路１８が開通し浴水供給流路１６ｂおよび泡沫供給流路１７ｂが遮断された第四状態とを切り替え可能である。これにより、浴水供給流路１６ｂだけでなく吐出流路１８に対しても、泡沫による効果的な洗浄を行うことができる。

以上、本開示の浴槽洗浄システムについて実施の形態を挙げて説明したが、本開示の浴槽洗浄システムは上述した実施の形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施の形態では、給湯システム１００，１００ｂが浴槽洗浄システムを備える例を説明したが、浴槽洗浄システムは給湯システム１００，１００ｂとは別に設けられていてもよい。すなわち、上述した実施の形態では、浴水供給流路１６に第二給湯配管４２が接続され、加熱装置１１により加熱された水が浴水供給流路１６に供給される構成となっていたが、浴水供給流路１６には第二給湯配管４２でなく水道等の水源が接続され、水源の水が浴水供給流路１６に直接供給される構成となっていてもよい。また、上述した実施の形態では、給湯装置１と浴槽洗浄装置２，２ｂとが分離したものとして説明したが、一部若しくは全部の部品を共有するように構成してもよい。

１ 給湯装置、２，２ｂ 浴槽洗浄装置、３ リモコン装置、３ａ 表示部、３ｂ 操作部、４ 制御装置、１０ 貯湯タンク、１１ 加熱装置、１２ 加熱回路、１３ 給水流路、１４ 給湯流路、１５ 浴水循環回路、１６，１６ｂ 浴水供給流路、１７，１７ｂ 泡沫供給流路、１８ 吐出流路、２１ 第一加熱配管、２２ 第二加熱配管、２３加熱循環ポンプ、３１ 第一給水配管、３２ 第二給水配管、４１ 第一給湯配管、４２ 第二給湯配管、４３ 混合弁、４４ 給湯用電磁弁、５１ 第一風呂配管、５２ 第二風呂配管、５２ａ 加熱部側第二風呂配管、５２ｂ 浴槽側第二風呂配管、５２ｃ 加熱部側第二風呂配管、５２ｄ 浴槽側第二風呂配管、５３ 加熱部、５４ 浴水循環ポンプ、５５ 水位センサ、６１ 流路切替弁、６１ａ 第一流路切替弁、６１ｂ 第二流路切替弁、６２ 第一洗浄配管、６３ 第二洗浄配管、６４ 洗剤タンク、６５ 洗剤用電磁弁、６６ 洗剤水タンク、６７ 泡沫生成装置、６８ 第三洗浄配管、６９ 第四洗浄配管、７１ 洗剤水循環回路、７２ 洗剤水循環ポンプ、７３ 気液混合装置、７４ 給気通路、７５ 給気用電磁弁、８１ 制御部、８２ 記憶部、１００，１００ｂ 給湯システム、１１０ 浴槽アダプタ、１１１ 吸込口、１１２ 吐出口、１１３ 第二吐出口、１２０ 第二浴槽アダプタ、２００ 浴槽、２０１ 液面、２０２ 泡沫上面、２１０ 自動排水栓。

Claims (14)

1. 洗剤と水とが混合して生成した洗剤水を貯留する洗剤水貯留部と、
   浴槽に設けられた吸込口と前記洗剤水貯留部とを接続する浴水供給流路と、
   前記浴槽に設けられた吐出口と前記洗剤水貯留部とを接続する泡沫供給流路と、
   前記浴水供給流路に設けられ前記浴槽内の浴水を前記洗剤水貯留部に供給する浴水供給手段と、
   前記洗剤水貯留部に貯留された前記洗剤水に気体を混合して泡沫を生成する泡沫生成装置と、
   前記浴水供給流路が開通し前記泡沫供給流路が遮断された第一状態と前記泡沫供給流路が開通し前記浴水供給流路が遮断された第二状態とを切り替える流路切替手段と、
   前記流路切替手段を制御して前記第一状態に切り替えた状態で前記浴水供給手段を制御して前記浴水を前記洗剤水貯留部に供給し前記洗剤水を生成する洗剤水生成処理と、前記流路切替手段を制御して前記第二状態に切り替えた状態で前記泡沫生成装置を制御して前記泡沫を前記浴槽に供給する浴槽洗浄処理と、前記流路切替手段を制御して前記第一状態に切り替えた状態で前記泡沫生成装置を制御して前記泡沫を前記浴水供給流路に供給する浴水供給流路洗浄処理と、を実施する制御部と、
   を備えた浴槽洗浄システム。
2. 前記洗剤水貯留部に前記洗剤を供給する洗剤供給手段を備え、
   前記制御部は、前記洗剤水生成処理において、前記洗剤供給手段を制御して前記洗剤を前記洗剤水貯留部に供給する請求項１に記載の浴槽洗浄システム。
3. 前記洗剤供給手段によって前記洗剤水貯留部に供給される前記洗剤を貯蔵する洗剤貯蔵部と、
   前記洗剤貯蔵部に貯蔵された前記洗剤の量を検出する洗剤量検出手段と、
   を備え、
   前記制御部は、前記洗剤量検出手段により検出された前記洗剤の量が予め設定された設定洗剤量未満になった場合、前記洗剤貯蔵部に貯蔵された前記洗剤の量が少なくなった旨の報知を行うように報知手段を制御する請求項２に記載の浴槽洗浄システム。
4. 前記浴槽内の水位を検出する水位検出手段を備え、
   前記制御部は、前記浴槽洗浄処理の開始時に前記水位検出手段により検出された水位と入浴中に前記水位検出手段により検出された最大水位との水位差が第一水位差である場合、前記水位差が前記第一水位差よりも小さい第二水位差である場合よりも、前記浴槽洗浄処理において前記浴槽に供給する前記泡沫の量が多くなるように前記泡沫生成装置を制御する請求項２または３に記載の浴槽洗浄システム。
5. 前記制御部は、前記水位差が前記第一水位差である場合、前記水位差が前記第二水位差である場合よりも、前記洗剤水生成処理において前記洗剤水貯留部に供給する前記洗剤および前記浴水の量が多くなるように前記洗剤供給手段および前記浴水供給手段を制御する請求項４に記載の浴槽洗浄システム。
6. 前記浴槽内の水位を検出する水位検出手段を備え、
   前記制御部は、前記浴槽洗浄処理を実施した後において、前記水位検出手段により前記浴槽内の水位の低下が検出された場合に、前記浴水供給流路洗浄処理を開始する請求項１から３のいずれか一項に記載の浴槽洗浄システム。
7. 前記制御部は、前記浴槽に設けられた自動排水栓の開閉を制御可能であり、前記浴槽洗浄処理を実施した後において前記自動排水栓を開いた場合に、前記浴水供給流路洗浄処理を開始する請求項１から６のいずれか一項に記載の浴槽洗浄システム。
8. 前記制御部は、前記洗剤水生成処理を実施し、前記浴槽洗浄処理を実施した後に、前記浴水供給流路洗浄処理を実施する請求項１から７のいずれか一項に記載の浴槽洗浄システム。
9. 前記浴水供給流路洗浄処理を実施するか否かを設定可能な操作端末を備える請求項１から８のいずれか一項に記載の浴槽洗浄システム。
10. 前記浴槽に設けられた第二吐出口と前記浴水供給流路とが接続されることによって形成され、前記第二吐出口と前記吸込口とを接続する浴水循環回路を備え、
    前記第二吐出口は、前記吐出口よりも低い位置に設けられ、
    前記流路切替手段は、前記第一状態と前記第二状態と前記浴水循環回路が開通し前記浴水供給流路が遮断された第三状態とを切り替え可能である請求項１から９のいずれか一項に記載の浴槽洗浄システム。
11. 前記第二吐出口と前記浴水供給流路とが接続されることによって形成され、前記第二吐出口と前記洗剤水貯留部とを接続する吐出流路を備え、
    前記流路切替手段は、前記第一状態と前記第二状態と前記第三状態と前記吐出流路が開通し前記浴水供給流路および前記泡沫供給流路が遮断された第四状態とを切り替え可能であり、
    前記制御部は、前記浴水供給流路洗浄処理において、前記流路切替手段を制御して前記第一状態と前記第四状態とを切り替え可能である請求項１０に記載の浴槽洗浄システム。
12. 水源の水を前記浴水供給流路に供給する給水手段を備え、
    前記制御部は、前記浴水供給流路洗浄処理において、前記泡沫を前記浴水供給流路に供給した後、前記給水手段を制御して前記水源の水を前記浴水供給流路に供給するすすぎ処理を実施する請求項１から１１のいずれか一項に記載の浴槽洗浄システム。
13. 請求項１２に記載の浴槽洗浄システムと、
    前記水源の水を加熱する加熱装置と、
    を備え、
    前記制御部は、前記すすぎ処理において、前記加熱装置により加熱された水を前記浴水供給流路に供給する給湯システム。
14. 洗剤と水とが混合して生成した洗剤水を貯留する洗剤水貯留部と、浴槽に設けられた吸込口と前記洗剤水貯留部とを接続する浴水供給流路と、前記浴槽に設けられた吐出口と前記洗剤水貯留部とを接続する泡沫供給流路と、前記浴水供給流路に設けられ前記浴槽内の浴水を前記洗剤水貯留部に供給する浴水供給手段と、前記洗剤水貯留部に貯留された前記洗剤水に気体を混合して泡沫を生成する泡沫生成装置と、前記浴水供給流路が開通し前記泡沫供給流路が遮断された第一状態と前記泡沫供給流路が開通し前記浴水供給流路が遮断された第二状態とを切り替える流路切替手段と、を備えた浴槽洗浄システムに用いられる浴槽洗浄制御方法であって、
    前記流路切替手段を制御して前記第一状態に切り替えた状態で前記浴水供給手段を制御して前記浴水を前記洗剤水貯留部に供給し前記洗剤水を生成する第一ステップと、
    前記流路切替手段を制御して前記第二状態に切り替えた状態で前記泡沫生成装置を制御して前記泡沫を前記浴槽に供給する第二ステップと、
    前記流路切替手段を制御して前記第一状態に切り替えた状態で前記泡沫生成装置を制御して前記泡沫を前記浴水供給流路に供給する第三ステップと、
    を備えた浴槽洗浄制御方法。

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