JP7423570B2 - スラリの希釈洗浄方法 - Google Patents
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Description
第1発明は、不純物が溶解する原料スラリからなる被処理液をろ過装置に供給し、前記ろ過装置で被処理液を不純物が含有するろ液と不純物が減少した洗浄後スラリに分離し、前記洗浄後スラリと新たに加えた洗浄液からなる被処理液をろ過装置に供給して不純物を除去する希釈洗浄方法において、
前記ろ過装置で分離されたろ液に溶解する不純物が、理論勾配Aの延長線上に沿って減少する場合には、前記洗浄後スラリに所定の第1液量の洗浄液を加え、前記ろ液に溶解する不純物が、前記理論勾配Aの延長線上から外れて勾配Bに沿って減少する場合には、前記洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加え、
前記理論勾配Aと勾配Bは、横軸に前記ろ液の液量 [kg]をとり、縦軸に前記ろ液の導電率[μS/cm]を対数表示した片対数グラフの勾配であることを特徴とする。
ろ過装置で分離されたろ液に溶解する不純物の含有量に応じて、洗浄後スラリに加える洗浄液の供給方法を変更するので、ろ液に溶解する不純物の含有量に応じて洗浄液の液量や供給時間を変えて希釈洗浄で必要な洗浄液を抑制するとともに洗浄廃液の量を抑制することができる。
勾配Bの傾き角度B1を、理論勾配Aの傾き角度A1で除算した割合が80%以下の場合には、洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加えるので、洗浄液からろ液への切替えを確実に行うことができる。
洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加えた後に、ろ液に溶解する不純物が増加した場合には、洗浄後スラリに第1液量よりも少ない所定の第3液量の洗浄液を加えるので、希釈洗浄で必要な洗浄液をさらに抑制することができる。
洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加えて所定の時間経過した後に、ろ液に溶解する不純物が増加した場合には、洗浄後スラリに第1液量よりも少ない所定の第3液量の洗浄液を加えるので、希釈洗浄で必要な洗浄液をさらに抑制することができ、また、洗浄後スラリ中の粒子中に包含されていた不純物を洗浄後スラリに溶出させることができる。
ろ液に溶解する不純物が10%増加した場合には、洗浄後スラリに所定の第3液量の洗浄液を加えるので、ろ液から洗浄液への切替えを確実に行うことができる。
第3液量は、ろ液に溶解する不純物の減少に応じて減少させるので、希釈洗浄で必要な洗浄液をより一層抑制することができる。
ろ過装置は、複数のろ液室と複数の攪拌羽根を備え、ろ液室の表面には複数の開口部が形成されたスクリーン又はろ過膜が装着されたので、被洗浄液をろ液と洗浄後スラリに効率良く分離することができる。
ろ過装置の本体部の内周部にろ液室を固定し、本体部に架設された回転軸に攪拌羽根を固定し、回転軸を駆動装置で回動させたので、不純物をスクリーン又はろ過膜を介してろ液室に効率良く流通することができる。
ろ過装置の本体部の内周部に攪拌羽根を固定し、本体部に架設された回転軸にろ液室を固定し、回転軸を駆動装置で回動させたので、不純物をスクリーン又はろ過膜を介してろ液室に効率良く流通することができる。
図1に示すように、希釈洗浄システムは、原料スラリと洗浄液からなる被処理液を貯留するスラリタンク1と、スラリタンク1から供給されてくる被処理液中に溶解する不純物を除去するろ過装置2から構成されている。
図2に示すように、コントローラ70の入力側には、スラリタンク1に貯留された被処理液の液面高さを測定する液面高さセンサ14と、配管17を流通する洗浄液の流量を測定する流量センサ19と、ろ過装置2に供給される被処理液に加えられている圧力を測定する圧力センサ22と、配管42を流通するろ液に溶解する不純物を測定するセンサ43が所定の入力インターフェース回路を介して接続されている。
図3に示すように、ステップS1で、コントローラ70は、開閉弁16を所定の時間開いて原料スラリタンク3から所定の量の原料スラリである金属微粒子スラリをスラリタンク1に供給してステップS2に進む。なお、以下では、理解を容易にするために、図4に図示された金属微粒子スラリを希釈洗浄した結果を参酌しながら説明を行う。なお、図4は、横軸に洗浄ろ液量 [kg]をとり、縦軸にろ液導電率[μS/cm]を対数表示した片対数グラフである。
30 本体部
33 ろ液室
33A スクリーン
33B スクリーン
36 回転軸
37 攪拌羽根
38 駆動装置
A 理論勾配
A1 傾き角度
B 勾配
B1 傾き角度
Claims (9)
- 不純物が溶解する原料スラリからなる被処理液をろ過装置に供給し、前記ろ過装置で被処理液を不純物が含有するろ液と不純物が減少した洗浄後スラリに分離し、前記洗浄後スラリと新たに加えた洗浄液からなる被処理液をろ過装置に供給して不純物を除去する希釈洗浄方法において、
前記ろ過装置で分離されたろ液に溶解する不純物が、理論勾配Aの延長線上に沿って減少する場合には、前記洗浄後スラリに所定の第1液量の洗浄液を加え、前記ろ液に溶解する不純物が、前記理論勾配Aの延長線上から外れて勾配Bに沿って減少する場合には、前記洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加え、
前記理論勾配Aと勾配Bは、横軸に前記ろ液の液量 [kg]をとり、縦軸に前記ろ液の導電率[μS/cm]を対数表示した片対数グラフの勾配であることを特徴とするスラリの希釈洗浄方法。 - 前記勾配Bの傾き角度B1を、前記理論勾配Aの傾き角度A1で除算した割合が80%以下の場合には、前記洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加える請求項1記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加えた後に、前記ろ液に溶解する不純物が増加した場合には、前記洗浄後スラリに第1液量よりも少ない所定の第3液量の洗浄液を加える請求項1又は2記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記洗浄後スラリに所定の第2液量のろ液を加えて所定の時間経過した後に、前記ろ液に溶解する不純物が増加した場合には、前記洗浄後スラリに第1液量よりも少ない所定の第3液量の洗浄液を加える請求項1又は2記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記ろ液に溶解する不純物が10%増加した場合には、前記洗浄後スラリに所定の第3液量の洗浄液を加える請求項3又は4記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記第3液量は、前記ろ液に溶解する不純物の減少に応じて減少させる請求項3~5のいずれか1項に記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記ろ過装置は、複数のろ液室と複数の攪拌羽根を備え、前記ろ液室の表面にはスクリーン又はろ過膜が装着された請求項1~6のいずれか1項に記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記ろ過装置の本体部の内周部にろ液室を固定し、前記本体部に架設された回転軸に攪拌羽根を固定し、前記回転軸を駆動装置で回動させた請求項7記載のスラリの希釈洗浄方法。
- 前記ろ過装置の本体部の内周部に攪拌羽根を固定し、前記本体部に架設された回転軸にろ液室を固定し、前記回転軸を駆動装置で回動させた請求項7記載のスラリの希釈洗浄方法。
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