JP7422868B2 - 画素配列最適化方法、透光表示パネル及び表示パネル - Google Patents

Description

本願は、２０２０年０３月１７日に提出された「画素配列最適化方法、装置、透光表示パネル及び表示パネル」の発明の名称の中国特許出願第２０２０１０１８４３０９．６号の優先権を主張し、当該出願の全ての内容は本文に援用される。

本願は、表示技術分野に関し、具体的に、画素配列最適化方法、画素配列最適化装置、透光表示パネル及び表示パネルに関する。

電子機器の急速な発展に伴い、ユーザーのスクリーン占有率に対する要求がますます高くなり、電子機器のフルスクリーン表示が業界でますます多く注目されている。

電子機器、例えば携帯電話、タブレットコンピュータ等は、フロントカメラ、受話器及び赤外線感知素子等を集積する必要がある。従来技術において、スクリーンに溝（Ｎｏｔｃｈ）又は開孔を設置して、外部の光を画面上の溝又は開孔により画面の下方に位置する感光素子に入光させることができる。しかしながら、このようなスクリーンはいずれも本当の意味におけるフルスクリーンではなく、画面全体の各領域にいずれも表示が行われることができず、例えばそのフロントカメラに対応する領域は、画面を表示することができない。

本願は、画素配列最適化方法を提供し、当該方法は、各サブ画素の第１の電極が初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを有する初期画素配列構造モデルを構築するステップと、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整して、最適化画素配列構造モデルを取得するステップであって、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上であるステップと、を含む。

第１態様の可能な実施形態において、最適化画素配列構造モデルを取得した後に、前記方法は、最適化画素配列構造モデルの各第１の電極に対応する図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、目標透光表示パネルにおける対応する第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを設置するステップをさらに含む。

第１態様の可能な実施形態において、初期画素配列構造モデルを構築するステップは、目標透光表示パネルの画素配列構造及び目標透光表示パネルの各サブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを取得するステップと、目標透光表示パネルの画素配列構造及び各サブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータに応じて、初期画素配列構造モデルを構築するステップと、を含む。

第１態様の可能な実施形態において、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整して、最適化画素配列構造モデルを取得するステップであって、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上であるステップは、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、初期画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと初期画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比がいずれも８５％以上であるか否かを判断するステップと、そうでなければ、最適化画素配列構造モデルが得られるまで、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを絶えず調整して、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上になるようにするステップと、を含む。

本願の実施例は、透光表示パネルを提供し、前記透光表示パネルは、アレイ基板と、アレイ基板上に位置する発光層であって、発光層は重複ユニットを含み、重複ユニットにおける各サブ画素の第１の電極はパターン化して配置され、且つパターン化して配置される第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと透光表示パネルの光透過エネルギーとは、

の関係式を満たす発光層と、を含み、ここで、Ｉ_０は、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーであり、Ｉ_ｘは、透光表示パネルの光透過エネルギーである。

本願の実施例の画素配列最適化方法によれば、初期画素配列構造モデルを構築し、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部のサブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整することにより、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上になるようにし、０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、非０次回折スポットエネルギーの占有率を低下させることで、回折現象を減少できる第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得する。

本願の実施例の透光表示パネルによれば、透光表示パネルにおける第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと透光表示パネルの光透過エネルギーとの比が８５％以上になるようにし、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、その非０次回折スポットエネルギーの占有率を低下させることができるため、透光表示パネルの回折現象を減少させ、アンダースクリーンで集積された例えばカメラの感光アセンブリの感光品質を向上することができる。

以下の図面を参照して行われる非限定的な実施例に対する詳細な説明により、本願の他の特徴、目的及び利点はより明らかになり、ここで、同一又は類似の図面の符号は同一又は類似の特徴を示し、図面は実際の比率に応じて描画されていない。

本願の一実施例に係る画素配列最適化方法のフローチャートを示す。 本願の一実施例に係る画素配列最適化装置の構造概略図を示す。 本願の一実施例に係る透光表示パネルの構造概略図を示す。 図３におけるＱ領域の第１例の部分拡大上面概略図を示す。 図３におけるＱ領域の第２例の部分拡大上面概略図を示す。 図３におけるＱ領域の第３例の部分拡大上面概略図を示す。 図３におけるＱ領域の第４例の部分拡大上面概略図を示す。 本願の一実施例に係る表示パネルの上面概略図を示す。

以下に本願の各態様の特徴及び例示的な実施例を詳細に説明し、本願の目的、技術的解決手段及び利点をより明確にするために、以下に図面及び具体的な実施例を参照して、本願をさらに詳細に説明する。理解すべきことは、ここで説明される具体的な実施例は本願を解釈するためのものであり、本願を限定するものではない。当業者にとって、本願は、これらの具体的な細部のうちのいくつかの細部を必要とせずに実施することができる。以下、実施例に対する説明は、本願の例を示すことにより本願をよりよく理解するためのものである。

例えば、携帯電話及びタブレットコンピュータ等の電子機器において、表示パネルを設置する一側にフロントカメラ、赤外線センサ、近接光センサ等の感光アセンブリを集積する必要がある。いくつかの実施例において、上記電子機器に透光表示領域を設置し、感光アセンブリを透光表示領域の背面に設置することができ、感光アセンブリが正常に動作することを保証する前提で、電子機器のフルスクリーン表示を実現することができる。

現在、表示パネルの透光表示領域において、依然として比較的深刻な回折現象が存在し、アンダースクリーン感光アセンブリの感光品質に影響を与える。

上記課題を解決するために、本願の実施例は、画素配列最適化方法、画素配列最適化装置、透光表示パネル及び表示パネルを提供する。以下に、図面を参照して、画素配列最適化方法、画素配列最適化装置、透光表示パネル及び表示パネルの各実施例を説明する。

図１は、本願の一実施例に係る画素配列最適化方法のフローチャートを示す。図１に示すように、当該画素配列最適化方法は、ステップ１０及びステップ２０を含む。

ステップ１０において、初期画素配列構造モデルを構築し、初期画素配列構造モデルにおける各サブ画素の第１の電極は、初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを有する。

いくつかの実施例において、任意の画素配列構造を選択することができ、当該画素配列構造における各サブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを設置し、さらに、シミュレーションソフトウェアにおいて初期画素配列構造モデルを構築する。

他のいくつかの実施例において、目標透光表示パネルの画素配列構造及び目標透光表示パネルの各サブ画素の第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得することができ、目標透光表示パネルの画素配列構造及び各サブ画素の第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、初期画素配列構造モデルを構築する。目標透光表示パネルは、既定のプロセスに応じて製造される実際の透光表示パネルであってもよく、目標透光表示パネルの各第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータをシミュレーションソフトウェアに導入し、シミュレーションソフトウェアを利用して目標透光表示パネルのデジタル化モデルを構築することができるが、シミュレーションソフトウェアは、ｃｏｍｓｏｌ、ｆｄｔｄ、ｒｓｏｆｔ等のソフトウェアであってもよい。目標透光表示パネルは、第１の電極を含み、アレイ基板、様々な配線構造、発光構造、第２の電極等をさらに含み、構築された初期画素配列構造モデルは、目標透光表示パネルの各膜層パラメータを含み得る。

目標透光表示パネルに対応する初期画素配列構造モデルを構築し、さらに当該初期画素配列構造モデルを利用して目標透光表示パネルに対応する最適化パラメータを取得し、実際に生成された様々なパラメータにおける目標透光表示パネルと比較して最適化パラメータを取得することで、コストを節約し、効率を向上することができる。

ステップ２０において、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整して、最適化画素配列構造モデルを取得し、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比は、８５％以上である。

例示的に、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が大きいほど、当該最適化画素配列構造を使用する表示パネルの回折効果をより良好に減少し、さらに表示パネルの非光出射側に位置する感光アセンブリの感光品質をよりよく向上させる。

いくつかの実施例において、ステップ２０は、具体的に、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、初期画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと初期画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比がいずれも８５％以上であるか否かを判断するステップと、そうでなければ、最適化画素配列構造モデルが得られるまで、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを絶えず調整して、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上になるようにするステップと、を含むことができる。

照射波長の波長範囲は、４００ナノメートル乃至８００ナノメートルであってもよい。視野は、アンダースクリーン感光アセンブリの感光視野であり、例えば、カメラの視野である。仮想物体モデルを構築し、且つ当該仮想物体モデルと初期画素配列構造モデルとの様々な距離を設置することができる。光透過エネルギーは、画素配列構造モデルが透過可能な光のエネルギーである。

例示的に、先ず、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、初期画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと初期画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比がいずれも８５％以上であるか否かを判断し、当該初期画素配列構造モデルが上記条件に合致する場合、当該初期画素配列構造モデルの第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータが最適化パラメータであり、当該初期画素配列構造モデルが上記条件に合致しない場合、最適化画素配列構造モデルが得られるまで、第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータの少なくとも一つを絶えず調整し、且つ毎回調整後の画素配列構造モデルが上記条件に合致するか否かを判断する。

本願の実施例によれば、最終的に得られる最適化画素配列構造モデルは、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、その０次回折スポットエネルギーと光透過エネルギーとの比が８５％以上であるため、様々な条件でいずれも回折現象を減少できる第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得する。

いくつかの実施例において、ステップ２０の後、当該方法は、さらに、最適化画素配列構造モデルの各第１の電極に対応する図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、目標透光表示パネルにおける対応する第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを設置するステップを含む。

最適化された第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得した後、最適化された第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、実際の目標透光表示パネルを製造することにより、目標透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと光透過エネルギーとの比を８５％以上にして、目標透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、目標透光表示パネルの非０次回折スポットエネルギーの占有率を減少させることができるため、目標透光表示パネルの回折現象を減少させ、目標透光表示パネルの非光出射側に集積される感光アセンブリの感光品質を向上することができる。

上記実施例において、初期図形パラメータは、第１の電極の形状パラメータ及び寸法パラメータであってもよく、初期位置パラメータは、第１の電極の座標パラメータ又は第１の電極間の相対位置パラメータであってもよい。

また、出願人は、表示パネルにおいて周期的に配列される陽極が透光領域の回折に対する影響が比較的大きく、各サブ画素に対応する陽極の形状、大きさ及び配列を調整することにより、非０次回折スポットエネルギーを減少させ、０次回折スポットエネルギーを向上することができるため、エネルギーを幾何学的像点により多く集中させ、回折効果を減少させ、アンダースクリーンカメラのイメージング品質を向上できることを見出した。したがって、上記実施例において、第１の電極は、陽極であってもよい。

上記のように、本願の実施例の画素配列最適化方法によれば、初期画素配列構造モデルを構築し、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部のサブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整することにより、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比を８５％以上にして、０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、非０次回折スポットエネルギーの占有率を低下させることで、回折現象を減少できる第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得する。

図２は、本願の一実施例に係る画素配列最適化装置の構造概略図を示す。図２に示すように、本願の実施例により提供される画素配列最適化装置は、初期画素配列構造モデルを構築するモデル構築モジュール２０１であって、初期画素配列構造モデルにおける各サブ画素の第１の電極が共に初期第１の電極マトリックスを形成し、各第１の電極が初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを有するモデル構築モジュール２０１と、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整して、最適化画素配列構造モデルを取得するパラメータ調整モジュール２０２であって、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上であるパラメータ調整モジュール２０２と、を含む。

いくつかの実施例において、当該画素配列最適化構造は、パラメータ設置モジュールをさらに含み、パラメータ設置モジュールは、最適化画素配列構造モデルの各第１の電極に対応する図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、目標透光表示パネルにおける対応する第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを設置する。

いくつかの実施例において、モデル構築モジュール２０１は、具体的に、目標透光表示パネルの画素配列構造及び目標透光表示パネルの各サブ画素の第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得し、目標透光表示パネルの画素配列構造及び各サブ画素の第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、初期画素配列構造モデルを構築するために用いられる。

いくつかの実施例において、パラメータ調整モジュール２０２は、具体的に、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、初期画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと初期画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比がいずれも８５％以上であるか否かを判断し、そうでなければ、最適化画素配列構造モデルが得られるまで、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを絶えず調整して、異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上になるようにするために用いられる。

本願の実施例の画素配列最適化装置によれば、初期画素配列構造モデルを構築し、初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部のサブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整することにより、最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比を８５％以上にして、０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、非０次回折スポットエネルギーの占有率を低下させることで、回折現象を減少できる第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを取得する。

図３は、本願の一実施例に係る透光表示パネルの構造概略図を示し、図４乃至図７は、図３におけるＱ領域の四種類の例の局部放大図を示す。第１の電極の構造を明確に示すために、図４乃至図７は、透光表示パネル１００の他の構造を隠して図示する。

図３及び図４乃至図７に示すように、透光表示パネル１００は、アレイ基板３０及び発光層４０を含む。発光層４０は、アレイ基板３０上に位置する。発光層４０は、重複ユニット４１０を含み、重複ユニット４１０における各サブ画素の第１の電極は、パターン化して配列され、且つパターン化して配列される第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、透光表示パネル１００の０次回折スポットエネルギーと透光表示パネルの光透過エネルギーとは関係式（１）を満たす。

上記式（１）において、Ｉ_０は、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーであり、Ｉ_ｘは、透光表示パネルの光透過エネルギーである。

当該透光表示パネル１００は、有机発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示パネルであってもよい。

いくつかの実施例において、アレイ基板３０は、画素回路、配線構造等を含んでもよく、透光表示パネル１００の透光率を向上させるために、アレイ基板３０における画素回路は、できるだけ各サブ画素の真下に設置することができ、配線構造は湾曲して配置されることで、サブ画素間の領域をできるだけ少なく占用することができる。サブ画素の発光材料は、透光率の低い陽極に蒸着され、サブ画素の陰極は、全面が材料で蒸着される。さらに、出願人は、表示パネルにおいて周期的に配列される陽極の透光領域に対する回折の影響が比較的大きく、各サブ画素に対応する陽極の形状、大きさ及び配列を調整することにより、非０次回折スポットエネルギーを減少させ、０次回折スポットエネルギーを向上することができるため、エネルギーを幾何学的像点により多く集中させ、回折効果を減少させ、アンダースクリーンカメラのイメージング品質を向上できることを見出した。したがって、第１の電極は、サブ画素の陽極であってもよい。

例示的に、当該透光表示パネルにおける各第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータは、上記画素配列最適化方法により得られる最適化パラメータであってもよい。

本願の実施例の透光表示パネルによれば、透光表示パネルにおける第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと透光表示パネルの光透過エネルギーとの比を８５％以上にして、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、その非０次回折スポットエネルギーの占有率を低下させることで、透光表示パネルの回折現象を減少させ、アンダースクリーンで集積された例えばカメラの感光アセンブリの感光品質を向上することができる。

いくつかの実施例において、各色のサブ画素は、順次に積層される第１の電極、発光構造及び第２の電極を含む。第１の電極、第２の電極のうちの一つが陽極であり、他の一つが陰極である。本実施例において、第１の電極が陽極であり、第２の電極が陰極であることを例として説明する。

発光構造は、ＯＬＥＤ発光層を含むことができ、発光構造の設計需要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層又は電子輸送層のうちの少なくとも１種類をさらに含んでもよい。

いくつかの実施例において、第１の電極は、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）層又は酸化インジウム亜鉛層を含む。いくつかの実施例において、第１の電極は、反射電極であって、第１の透光導電層、第１の透光導電層に位置する反射層、及び反射層に位置する第２の透光導電層を含む。ここで、第１の透光導電層、第２の透光導電層は、ＩＴＯ、酸化インジウム亜鉛等であってもよく、反射層は、金属層であってもよく、例えば銀材質で製造される。

いくつかの実施例において、第２の電極は、マグネシウム銀合金層を含む。いくつかの実施例において、第２の電極は、互いに接続されて共通電極を形成してもよい。

いくつかの実施例において、図４を続いて参照すると、重複ユニット４１０は、第１の方向Ｘに沿って分布される第１の画素群０１及び第２の画素群０２を含み、第１の画素群０１は、第２の方向Ｙにおいて分布される第１色のサブ画素、第２色のサブ画素、第３色のサブ画素を含み、第２の画素群０２は、第２の方向において分布される第３色のサブ画素、第１色のサブ画素、第２色のサブ画素を含み、第１の方向Ｘと第２の方向Ｙとは交差する。ここで、第１色のサブ画素及び第３色のサブ画素の第１の電極４１１，４１３のアレイ基板における正投影は円形であり、第２色のサブ画素の第１の電極４１２のアレイ基板における正投影は楕円形である。さらに、第１色のサブ画素の第１の電極４１１の直径の範囲は、５μｍ～２５μｍであり、第３色のサブ画素の第１の電極４１３の直径の範囲は、８μｍ～３０μｍであり、第２色のサブ画素の第１の電極４１２的長軸の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、短軸の範囲は、８μｍ～２０μｍである。

例示的に、最適化される前に、オリジナル透光表示パネルの３色のサブ画素の第１の電極のアレイ基板における正投影はいずれも楕円形であり、この際に透光表示パネルの非０次回折スポットエネルギーの占有率が比較的高く、明らかな回折現象が存在し、本願は、オリジナル透光表示パネルの第１の電極に対して最適化設置を行い、一部の色のサブ画素の第１の電極の形状及び寸法を調整し、第１の電極の周期的構造をさらに乱し、これにより透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を向上させ、透光表示パネルの回折現象を減少させる。

いくつかの実施例において、先ず各重複ユニット４１０の中心点Ｏの座標を設置することができ、さらに、第１の画素群０１における第１色のサブ画素の第１の電極４１１と重複ユニット４１０の中心点Ｏとの第１の方向Ｘにおける距離の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、第２の方向Ｙにおける距離の範囲は、４５μｍ～６５μｍであり、第１の画素群０１における第２色のサブ画素の第１の電極４１１の中心点と重複ユニット４１０の中心点Ｏとの第１の方向Ｘにおける距離の範囲は、２５μｍ～４０μｍで、第２の方向Ｙにおける距離の範囲は、２０μｍ～４０μｍであり、第１の画素群０１における第３色のサブ画素の第１の電極４１３の中心点と重複ユニット４１０の中心点Ｏとの第１の方向Ｘにおける距離の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、第２の方向Ｙにおける距離の範囲は、１５μｍ～３０μｍである。

及び／又は、第２の画素群０２における第１色のサブ画素の第１の電極４１１と重複ユニット４１０の中心点Ｏとの第１の方向Ｘにおける距離の範囲は、１０μｍ～２５μｍで、第２の方向Ｙにおける距離の範囲は、０μｍ～２０μｍであり、第２の画素群０２における第２色のサブ画素の第１の電極４１２の中心点と重複ユニット４１０の中心点Ｏとの第１の方向Ｘにおける距離の範囲は、２５μｍ～４０μｍで、第２の方向Ｙにおける距離の範囲は、３０μｍ～５０μｍであり、第２の画素群０２における第３色のサブ画素の第１の電極４１３の中心点と重複ユニット４１０の中心点Ｏとの第１の方向Ｘにおける距離の範囲は、２５μｍ～４０μｍで、第２の方向Ｙにおける距離の範囲は、４０μｍ～５５μｍである。

このような設置により、第１の電極の周期的構造をさらに乱すことにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を向上させ、透光表示パネルの回折現象を減少させる。

いくつかの実施例において、図５を参照すると、重複ユニット４１０は、第２の方向Ｙに沿って分布される２個の画素群を含み、当該２個の画素群は、それぞれ、第１の画素群０１及び第２の画素群０２である。各画素群は、１個の第１色のサブ画素、１個の第２色のサブ画素及び１個の第３色のサブ画素を含み、各画素群における３個のサブ画素の第１の電極の中心点間の連結線は三角形を形成し、１個の画素群が第１の方向Ｘに沿って１８０度反転した後の配列構造と重複ユニット４１０における他の１個の画素群の配列構造とは同じであり、第１の方向Ｘと第２の方向Ｙとは交差する。ここで、各サブ画素の第１の電極４１１，４１２，４１３のアレイ基板における正投影はいずれも円形であり、さらに、第１色のサブ画素の第１の電極４１１の直径の範囲は、５μｍ～２５μｍであり、第２色のサブ画素の第１の電極４１２の直径の範囲は、１０μｍ～３０μｍであり、第３色のサブ画素の第１の電極４１３の直径の範囲は、１０μｍ～３０μｍである。

及び／又は、各画素群における３色のサブ画素の第１の電極４１１，４１２，４１３の中心点間の距離は、１５μｍ～５０μｍであり、及び／又は、各画素群における３色のサブ画素の第１の電極４１１，４１２，４１３の中心点間の連結線は、二等辺三角形又は正三角形を構成する。

例示的に、最適化される前に、オリジナル透光表示パネルの３色のサブ画素の第１の電極のアレイ基板における正投影はいずれも菱形であり、この際に透光表示パネルの非０次回折スポットエネルギーの占有率は比較的高く、明らかな回折現象が存在し、本願は、オリジナル透光表示パネルの第１の電極に対して最適化設置を行い、第１の電極の形状及び寸法を調整し、第１の電極の周期的構造をさらに乱し、これにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を向上させ、透光表示パネルの回折現象を減少させる。

またいくつかの実施例において、図６を参照すると、重複ユニット４１０は、第２の方向Ｙに沿って分布される２個の画素群を含み、当該２個の画素群は、それぞれ、第１の画素群０１及び第２の画素群０２である。各画素群は、１個の第１色のサブ画素、１個の第２色のサブ画素及び１個の第３色のサブ画素を含み、各画素群における３個のサブ画素の第１の電極４１１，４１２，４１３の中心点間の連結線は三角形を形成し、１個の画素群が第１の方向Ｘに沿って１８０度反転した後の配列構造と重複ユニット４１０における他の１個の画素群の配列構造とは同じであり、第１の方向Ｘと第２の方向Ｙとは交差する。第１色のサブ画素及び第３色のサブ画素の第１の電極４１１，４１３のアレイ基板における正投影は円形であり、第２色のサブ画素の第１の電極４１２のアレイ基板における正投影は八角形であり、且つ八角形の四辺の仮想延長線は矩形を構成する。

さらに、第１色のサブ画素の第１の電極４１１の直径の範囲は、５μｍ～２５μｍであり、第３色のサブ画素の第１の電極４１３の直径の範囲は、１０μｍ～３０μｍであり、第２色のサブ画素の第１の電極４１２に対応する矩形の長辺の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、短辺の範囲は、５μｍ～２５μｍである。及び／又は、２個の第１色のサブ画素の第１の電極４１１の中心点間の距離は、３０μｍ～９０μｍであり、２個の第２色のサブ画素の第１の電極４１２の中心点間の距離は、２５μｍ～６０μｍであり、２個の第３色のサブ画素の第１の電極４１３の中心点間の距離は、２５μｍ～６０μｍであり、及び／又は、２個の第１色のサブ画素の第１の電極４１１の中心点と２個の第３色のサブ画素の第１の電極４１３の中心点との連結線は、平行四辺形を構成する。

例示的に、最適化される前に、オリジナル透光表示パネルの第１色のサブ画素の第１の電極のアレイ基板における正投影は菱形であり、第２色のサブ画素及び第３色のサブ画素の第１の電極のアレイ基板における正投影はいずれも八角形であり、この際に透光表示パネルの非０次回折スポットエネルギーの占有率が比較的高く、明らかな回折現象が存在し、本願は、オリジナル透光表示パネルの第１の電極に対して最適化設置を行い、一部の色のサブ画素の第１の電極の形状及び寸法を調整し、第１の電極の周期的構造をさらに乱し、これにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を向上させ、透光表示パネルの回折現象を減少させる。

いくつかの実施例において、図７を参照すると、重複ユニット４１０は、第２の方向Ｙに沿って分布される第１の画素群０１及び第２の画素群０２を含み、第１の画素群０１は、第１の方向Ｘにおいて分布される１個の第１色のサブ画素、２個の第２色のサブ画素及び１個の第３色のサブ画素を含み、第２の画素群０２は、第１の方向Ｘにおいて分布される１個の第３色のサブ画素、１個の第１色のサブ画素及び２個の第２色のサブ画素を含み、且つ第１の画素群０１及び第２の画素群０２における２個の第２色のサブ画素は第２の方向Ｙに沿って分布され、第１の方向Ｘと第２の方向Ｙとは交差する。ここで、各色のサブ画素の第１の電極４１１，４１２，４１３のアレイ基板における正投影はいずれも円形である。

さらに、第１色のサブ画素の第１の電極４１１の直径の範囲は、５μｍ～３０μｍであり、第２色のサブ画素の第１の電極４１２の直径の範囲は、５μｍ～３０μｍであり、第３色のサブ画素の第１の電極４１３の直径の範囲は、１０μｍ～４０μｍであり、及び／又は、２個の第１色のサブ画素の第１の電極４１１の中心点間の距離は、５０μｍ～２５０μｍであり、各画素群における２個の第２色のサブ画素の第１の電極４１２の中心点間の距離は、１０μｍ～３０μｍであり、２個の第３色のサブ画素の第１の電極４１３の中心点間の距離は、１０μｍ～６０μｍであり、及び／又は、重複ユニット４１０全体は平行四辺形を構成する。

例示的に、最適化される前に、オリジナル透光表示パネルの第１色のサブ画素及び第３色のサブ画素の第１の電極のアレイ基板における正投影はいずれも六角形であり、第２色のサブ画素の第１の電極のアレイ基板における正投影はいずれも五角形であり、この際に、透光表示パネルの非０次回折スポットエネルギーの占有率が比較的高く、明らかな回折現象が存在し、本願は、オリジナル透光表示パネルの第１の電極に対して最適化設置を行い、各サブ画素の第１の電極の形状及び寸法を調整し、第１の電極の周期的構造をさらに乱し、これにより、透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を向上させ、透光表示パネルの回折現象を減少させる。

さらに、図７に示すように、重複ユニット４１０の分布密度をより大きく設置して、透光表示パネルの回折現象を減少させることができる。

上記の例において、第１色のサブ画素は赤色サブ画素であってもよく、第２色のサブ画素は緑色サブ画素であってもよく、第３色のサブ画素は青色サブ画素であってもよい。

図８は、本願の一実施例に係る表示パネルの上面概略図を示す。図８に示すように、表示パネル２００は、第１の表示領域ＡＡ１と、第２の表示領域ＡＡ２と、第１の表示領域ＡＡ１及び第２の表示領域ＡＡ２を囲む非表示領域ＮＡとを有し、第１の表示領域ＡＡ１の透光率は、第２の表示領域ＡＡ２の透光率より大きい。

本明細書において、第１の表示領域ＡＡ１の透光率は、１５％以上であることが好ましい。第１の表示領域ＡＡ１の透光率が１５％より大きく、さらに４０％より大きく、さらにより高い透光率を有することを確保するために、本実施例における表示パネル１００の少なくとも一部の機能膜層の透光率は８０％より大きく、さらに少なくとも一部の機能膜層の透光率は８５％より大きい。

表示パネル２００は、対向する第１の表面及び第２の表面を含み、ここで、第１の表面は、表示面である。感光アセンブリは、表示パネル２００の第２の表面側に設置されてもよく、且つ感光アセンブリは第１の表示領域ＡＡ１と位置が対応する。

感光アセンブリは、画像収集装置であってもよく、外部画像情報を収集するために用いられる。本実施例において、感光アセンブリは、相補型金属酸化物半導体（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ、ＣＭＯＳ）画像収集装置である。他のいくつかの実施例において、感光アセンブリは、電荷結合素子（Ｃｈａｒｇｅ－ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ，ＣＣＤ）画像収集装置等の他の形式の画像収集装置であってもよい。理解すべきことは、感光アセンブリは、画像収集装置に限定されず、例えばいくつかの実施例において、感光アセンブリは、赤外線センサ、近接センサ、赤外線レンズ、投光器（Ｆｌｏｏｄ ｉｌｌｕｍｉｎａｔｏｒ）、周辺光センサ及びドットマトリクス投影器等の光センサであってもよい。なお、表示パネル２００の第２の表面にさらに他の部材、例えば受話器、スピーカ等を集積することもできる。

本願の実施例の表示装置によれば、第１の表示領域ＡＡ１の透光率を第２の表示領域ＡＡ２の透光率より大きくすることにより、表示パネル２００は第１の表示領域ＡＡ１の背面に感光アセンブリを集積することができ、例えば画像収集装置のような感光アセンブリのアンダースクリーン集積を実現することができると同時に、第１の表示領域ＡＡ１が画面を表示することができるため、表示パネル２００の表示面積を向上させ、表示装置のフルスクリーン設計を実現することができる。

第１の表示領域ＡＡ１における第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、表示パネルの０次回折スポットエネルギーと表示パネルの光透過エネルギーとの比を８５％以上にして、表示パネルの０次回折スポットエネルギーの占有率を増加させ、その非０次回折スポットエネルギーの占有率を低下させることで、透光表示領域の回折現象を減少させ、アンダースクリーンで集積された例えばカメラの感光アセンブリの感光品質を向上することができる。

例示的に、表示パネル２００はさらに封止層と封止層の上方に位置する偏光板及び蓋板とを含んでもよいし、偏光板を設置せずに、封止層の上方に直接蓋板を設置してもよい。或いは、少なくとも第１の表示領域ＡＡ１の封止層の上方に、偏光板を設置せずに、直接蓋板を設置することで、偏光板が第１の表示領域ＡＡ１の下方に対応して設置される感光素子の光線の収集量に影響を及ぼすことを回避することができる。当然のことながら、第１の表示領域ＡＡ１の封止層の上方に偏光板が設置されてもよい。

本願の上記実施例は全ての細部を詳述するものではなく、本願の範囲を限定するものでもない。当然のことながら、上記の説明によれば、当業者は多くの修正及び変更を行うことができる。本明細書がこれらの実施例を具体的に説明したことは、本願の原理及び実際の応用をよりよく説明するためであり、当業者であれば、本願及び本願を基にする修正使用をよく利用することができる。本願の範囲は、添付した特許請求の範囲によってのみに限定される。

Claims (9)

1. 透光表示パネルであって、
   アレイ基板と、
   前記アレイ基板上に位置する発光層であって、前記発光層は重複ユニットを含み、前記重複ユニットにおける各サブ画素の第１の電極はパターン化して配置され、且つパターン化して配置される前記第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、前記透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと前記透光表示パネルの光透過エネルギーとが、
   

   

   
   の関係式を満たすようにする発光層と、を含み、
   ここで、Ｉ_０は、前記透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーであり、Ｉ_ｘは、前記透光表示パネルの光透過エネルギーであり、
   前記重複ユニットは、第１の方向に沿って分布される第１の画素群及び第２の画素群を含み、前記第１の画素群は、第２の方向において分布される第１色のサブ画素、第２色のサブ画素、第３色のサブ画素を含み、前記第２の画素群は、前記第２の方向において分布される第３色のサブ画素、第１色のサブ画素、第２色のサブ画素を含み、前記第１の方向と前記第２の方向とは交差し、
   ここで、前記第１色のサブ画素及び前記第３色のサブ画素の第１の電極の前記アレイ基板における正投影は円形であり、前記第２色のサブ画素の第１の電極の前記アレイ基板における正投影は楕円形である、
   透光表示パネル。
2. 前記第１色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、５μｍ～２５μｍであり、前記第３色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、８μｍ～３０μｍであり、前記第２色のサブ画素の第１の電極の長軸の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、短軸の範囲は、８μｍ～２０μｍであるか、
   或いは、前記第１の画素群における第１色のサブ画素の第１の電極の中心点と前記重複ユニットの中心点との前記第１の方向における距離の範囲は、１０μｍ～３０μｍであり、前記第２の方向における距離の範囲は、４５μｍ～６５μｍであり、前記第１の画素群における第２色のサブ画素の第１の電極の中心点と前記重複ユニットの中心点との前記第１の方向における距離の範囲は、２５μｍ～４０μｍで、前記第２の方向における距離の範囲は、２０μｍ～４０μｍであり、前記第１の画素群における第３色のサブ画素の第１の電極の中心点と前記重複ユニットの中心点との前記第１の方向における距離の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、前記第２の方向における距離の範囲は、１５μｍ～３０μｍであるか、
   或いは、前記第２の画素群における第１色のサブ画素の第１の電極の中心点と前記重複ユニットの中心点との前記第１の方向における距離の範囲は、１０μｍ～２５μｍで、前記第２の方向における距離の範囲は、０μｍ～２０μｍであり、前記第２の画素群における第２色のサブ画素の第１の電極の中心点と前記重複ユニットの中心点との前記第１の方向における距離の範囲は、２５μｍ～４０μｍで、前記第２の方向における距離の範囲は、３０μｍ～５０μｍであり、前記第２の画素群における第３色のサブ画素の第１の電極の中心点と前記重複ユニットの中心点との前記第１の方向における距離の範囲は、２５μｍ～４０μｍで、前記第２の方向における距離の範囲は、４０μｍ～５５μｍである、請求項１に記載の透光表示パネル。
3. 透光表示パネルであって、
   アレイ基板と、
   前記アレイ基板上に位置する発光層であって、前記発光層は重複ユニットを含み、前記重複ユニットにおける各サブ画素の第１の電極はパターン化して配置され、且つパターン化して配置される前記第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、前記透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと前記透光表示パネルの光透過エネルギーとが、
   

   

   
   の関係式を満たすようにする発光層と、を含み、
   ここで、Ｉ_０は、前記透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーであり、Ｉ_ｘは、前記透光表示パネルの光透過エネルギーであり、
   前記重複ユニットは、第２の方向に沿って分布される２個の画素群を含み、各前記画素群は、１個の第１色のサブ画素、１個の第２色のサブ画素及び１個の第３色のサブ画素を含み、各前記画素群における３個のサブ画素の第１の電極の中心点間の連結線は、三角形を形成し、１個の前記画素群が第１の方向に沿って１８０度反転した後の配列構造は、前記重複ユニットにおける他の１個の画素群の配列構造と同じであり、前記第１の方向と前記第２の方向とは交差し、
   前記第１色のサブ画素及び前記第３色のサブ画素の第１の電極の前記アレイ基板における正投影は、円形であり、前記第２色のサブ画素の第１の電極の前記アレイ基板における正投影は八角形であり、且つ前記八角形の四辺の仮想延長線は矩形を構成する、
   透光表示パネル。
4. 前記第１色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、５μｍ～２５μｍであり、前記第３色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、１０μｍ～３０μｍであり、前記第２色のサブ画素の第１の電極に対応する矩形の長辺の範囲は、１０μｍ～３０μｍで、短辺の範囲は、５μｍ～２５μｍであるか、
   或いは、２個の前記第１色のサブ画素の第１の電極の中心点間の距離は、３０μｍ～９０μｍであり、２個の前記第２色のサブ画素の第１の電極の中心点間の距離は、２５μｍ～６０μｍであり、２個の前記第３色のサブ画素の第１の電極の中心点間の距離は、２５μｍ～６０μｍであり、及び／又は、２個の前記第１色のサブ画素の第１の電極の中心点と２個の前記第３色のサブ画素の第１の電極の中心点との連結線は、平行四辺形を構成する、請求項３に記載の透光表示パネル。
5. 透光表示パネルであって、
   アレイ基板と、
   前記アレイ基板上に位置する発光層であって、前記発光層は重複ユニットを含み、前記重複ユニットにおける各サブ画素の第１の電極はパターン化して配置され、且つパターン化して配置される前記第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータの組み合わせにより、前記透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーと前記透光表示パネルの光透過エネルギーとが、
   

   

   
   の関係式を満たすようにする発光層と、を含み、
   ここで、Ｉ_０は、前記透光表示パネルの０次回折スポットエネルギーであり、Ｉ_ｘは、前記透光表示パネルの光透過エネルギーであり、
   前記重複ユニットは、第２の方向に沿って分布される第１の画素群及び第２の画素群を含み、前記第１の画素群は、第１の方向において分布される１個の第１色のサブ画素、２個の第２色のサブ画素及び１個の第３色のサブ画素を含み、前記第２の画素群は、前記第１の方向において分布される１個の第３色のサブ画素、１個の第１色のサブ画素及び２個の第２色のサブ画素を含み、且つ前記第１の画素群及び前記第２の画素群における２個の第２色のサブ画素は、前記第２の方向に沿って分布され、前記第１の方向と前記第２の方向とは交差し、
   ここで、各サブ画素の第１の電極の前記アレイ基板における正投影はいずれも円形であり、
   前記第１色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、５μｍ～３０μｍであり、前記第２色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、５μｍ～３０μｍであり、前記第３色のサブ画素の第１の電極の直径の範囲は、１０μｍ～４０μｍであり、
   ２個の前記第１色のサブ画素の第１の電極の中心点間の距離は、５０μｍ～２５０μｍであり、各前記画素における２個の前記第２色のサブ画素の第１の電極の中心点間の距離は、１０μｍ～３０μｍであり、２個の前記第３色のサブ画素の第１の電極の中心点間の距離は、１０μｍ～６０μｍであり、及び／又は、前記重複ユニット全体は、平行四辺形を構成する、透光表示パネル。
6. 表示パネルであって、
   互いに隣接する第１の表示領域及び第２の表示領域を有し、前記第１の表示領域の透光率は、前記第２の表示領域の透光率より大きく、ここで、前記表示パネルの前記第１の表示領域は、請求項１に記載の透光表示パネルとして配置される、表示パネル。
7. 画素配列最適化方法であって、
   初期画素配列構造モデルを構築するステップであって、前記初期画素配列構造モデルにおける各サブ画素の第１の電極が初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを有するステップと、
   前記初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の前記第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整して、請求項１に記載の透光表示パネルの最適化画素配列構造モデルを取得するステップであって、前記最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと前記最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上であるステップと、
   を含む方法。
8. 前記最適化画素配列構造モデルを取得した後に、前記方法は、
   前記最適化画素配列構造モデルの各第１の電極に対応する図形パラメータ及び位置パラメータに応じて、目標透光表示パネルにおける対応する第１の電極の図形パラメータ及び位置パラメータを設置するステップを
   さらに含む請求項７に記載の方法。
9. 前記初期画素配列構造モデルを構築するステップは、
   目標透光表示パネルの画素配列構造及び前記目標透光表示パネルの各サブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータを取得するステップと、
   前記目標透光表示パネルの画素配列構造及び各サブ画素の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータに応じて、前記初期画素配列構造モデルを構築するステップと、
   を含み、
   前記初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の前記第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを調整して、最適化画素配列構造モデルを取得するステップであって、前記最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと前記最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上であるステップは、
   異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、前記初期画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと前記初期画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比がいずれも８５％以上であるか否かを判断するステップと、
   そうでなければ、前記最適化画素配列構造モデルが得られるまで、前記初期画素配列構造モデルにおける少なくとも一部の第１の電極の初期図形パラメータ及び初期位置パラメータにおける少なくとも一つを絶えず調整して、前記異なる照射波長、視野及び物体距離の条件で、前記最適化画素配列構造モデルの０次回折スポットエネルギーと前記最適化画素配列構造モデルの光透過エネルギーとの比が８５％以上になるようにするステップと、
   を含む請求項７に記載の方法。

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