JP7418970B2 - 副生水素生成装置 - Google Patents
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Description
[2]前記反応容器は複数の反応炉を含む構造である、上記[1]に記載の副生水素生成装置。;
[3]複数の反応炉は垂直方向に積載された構造である、上記[2]に記載の副生水素生成装置。;
[4]複数の反応炉を含む反応容器を2以上備える、上記[2]又は[3]に記載の副生水素生成装置。;
[5]さらに、反応容器を冷却するための冷却手段を備え、該冷却手段が水冷式の冷却装置である、上記[1]~[4]のいずれかに記載の副生水素生成装置。;
[6]さらに、ガス排出手段から排出される水素ガスを固定化する固定化手段を備える、上記[1]~[5]のいずれかに記載の副生水素生成装置。
本発明の副生水素生成装置は、酸化物を生成する際に水素を発生する金属Mと水蒸気との反応を利用して水素ガスを製造する装置である。図1に示すように、本実施の形態の副生水素生成装置1は、金属Mを充填する反応容器2と、反応開始時に酸水素ガスに着火する加熱手段3と、反応容器内で発生した水素ガスを反応容器外に取り出すガス排出手段4とを備える。
反応容器2は、複数の反応炉(図1中、反応炉5、6、7及び8)を含む構造であることが好ましい。複数の反応炉を含む構造とすることによって、同量の原料を一つの反応炉において反応させる場合に比べて、金属Mと水蒸気との接触効率を向上させ、結果として生産効率を向上させることができる。さらに、反応容器2が複数の反応炉に分割された形態では、同じ体積で反応炉が分割されていない反応容器2を用いる場合に比べて、反応炉の冷却効率を高めることができ、酸化反応後の反応容器2の冷却時間の短縮が可能である。特に、反応容器2を複数の反応炉に分割し、且つ、水冷式等の冷却機を用いることで、炉内壁面の温度を低く保つことができる点で好ましい。
本発明の副生水素生成装置1において実施される、上記酸化物を生成する際に水素を発生する金属Mと水蒸気との反応は、下記式(1)に示すものであり、本発明は、金属Mと水蒸気との反応により金属Mの酸化物が生成する際に水素ガスが発生するという現象を利用するものである。
本発明では、金属Mと水蒸気を接触させて起こる反応を利用して水素ガスを製造する。金属Mに接触する水蒸気の温度が、用いる金属Mの融点以上となると上記式(1)の反応が開始する。また一旦反応が開始すると、上述のように、上記式(1)による酸化反応は発熱を伴う反応であり、反応が進行するにつれて反応系全体が加熱された状態となるので、その熱量により反応が連続的に進行する。
上記のように金属Mに接触する水蒸気の温度を用いる金属Mの融点以上とするために、本発明の副生水素生成装置1は、反応開始時に酸水素ガス(HHOガス)に着火する加熱手段3を備える。酸水素ガスを用いて着火をすることで、着火のために炉内温度の上昇を待たずに済む。過熱水蒸気やヒーターなどで着火を行う場合、着火させる金属Mの周辺も加熱し蓄熱させる必要があるが、酸水素ガスを用いて着火する場合は、酸水素ガスが接触した金属の温度を急激に上昇させる特性があり、この上昇にともなう熱量が過熱水蒸気やヒーターによるものよりも遥かに高いため、着火点周辺の金属Mの蓄熱が不要となり短時間で着火を行うことができる。
本発明の副生水素生成装置1は、水蒸気を発生させる酸水素ガスの燃焼反応と、該燃焼反応により生成した水蒸気と金属Mとの反応とが、いずれも発熱を伴う反応であるため、反応容器2が発熱反応により過度に昇温する場合がある。そのため、本発明においては、この過度な昇温を回避するために、副生水素生成装置1が反応容器2を冷却するための冷却手段を備える態様とすることが好ましい。
発生した水素ガスは、ガス排出手段4により反応容器2外に取り出される。ガス排出手段4は、反応容器2に備えられた配管などを適用することができる。反応容器2のガス排出手段4から排出された水素ガスと未反応の水蒸気とは、例えば、一次冷却塔(不図示)に送られ、100℃未満に冷却することで、水蒸気は凝縮して温水となり水素ガスと分離される。
本発明においては、必要に応じて、反応容器2内の水蒸気の流出を促すなどの目的で、担体ガスを使用してもよい。担体ガスは、たとえば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、窒素、または空気が挙げられる。これらの担体ガスは、酸水素ガスの燃焼反応による水蒸気の発生を妨げない範囲で適用することが望ましい。
本発明の副生水素生成装置1は、中央制御装置11により加熱手段3を制御する。中央制御装置11は、加熱手段3にて検知された水蒸気の圧力又は発生量を通信等により受信すると、発生した水蒸気の圧力又は発生量に関する情報に基づいて、加熱手段3により反応炉5、反応炉6、反応炉7及び反応炉8に供給される水蒸気量を制御するための制御情報を生成する機能を有する。また、生成された制御情報は、通信により加熱手段3に送信される。加熱手段3は、送信された制御情報を受信し、該制御情報をもとに、反応炉5、反応炉6、反応炉7及び反応炉8に供給される水蒸気量を調整する。
2 反応容器
3 加熱手段
4 ガス排出手段
5,6,7,8 反応炉
9 配管
10 固定化手段
11 中央制御装置
Claims (7)
- 酸化物を生成する際に水素を発生する金属Mと水蒸気との反応を利用して水素ガスを製造する副生水素生成装置であって、
前記反応は、金属Mの酸化物MαOβ(α、βはそれぞれ1~4のいずれかの整数であり、αとβは同じあっても異なるものであってもよい。)と水素ガスとを少なくとも生成するものであり、
前記反応は、酸水素ガスに着火することにより開始されるものであり、
金属Mを充填する反応容器と、
反応容器に水蒸気を供給する供給手段と
を備える、副生水素生成装置。 - 前記反応容器は複数の反応炉を含む構造である、請求項1に記載の副生水素生成装置。
- 複数の反応炉は垂直方向に積載された構造である、請求項2に記載の副生水素生成装置。
- 複数の反応炉を含む反応容器を2以上備える、請求項2又は3に記載の副生水素生成装置。
- さらに、反応容器を冷却するための冷却手段を備え、
該冷却手段が水冷式の冷却装置である、請求項1~4のいずれかに記載の副生水素生成装置。 - 反応容器内で発生した水素ガスを反応容器外に取り出すガス排出手段と、
ガス排出手段から排出される水素ガスを固定化する固定化手段と
を備える、請求項1~5のいずれかに記載の副生水素生成装置。 - 酸化物を生成する際に水素を発生する金属Mと水蒸気との反応を利用して水素ガスを製造する方法であって、
前記反応は、金属Mの酸化物MαOβ(α、βはそれぞれ1~4のいずれかの整数であり、αとβは同じあっても異なるものであってもよい。)と水素ガスとを少なくとも生成するものであり、
前記反応は、酸水素ガスに着火することにより開始されるものであり、
金属Mを充填した反応容器に水蒸気を供給する、方法。
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