JP7402808B2 - 放射遮蔽デバイス及びそのような遮蔽デバイスを備えた装置 - Google Patents
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[0001] この出願は、2018年3月6日出願の欧州出願第18160096.6号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
Claims (13)
- a.感熱デバイスと、
b.動作時に前記感熱デバイスに向かって伝搬する電磁放射を発生させる放射要素と、
c.動作時に前記電磁放射が衝突するように前記放射要素と前記感熱デバイスの間に配置された放射遮蔽デバイスと、を備えた装置であって、
前記放射遮蔽デバイスが、
d.中に第1の流路が配置され、第1の表面及び第2の表面を有し、前記第1の表面が前記第2の表面よりも前記放射要素に近接して配置された第1の遮蔽要素と、
e.中に第2の流路が配置され、第3の表面及び第4の表面を有し、前記第3の表面が前記第4の表面よりも前記放射要素に近接して配置された第2の遮蔽要素と、を備え、
前記第1の遮蔽要素が前記第2の遮蔽要素よりも前記放射要素に近接して配置され、前記第2の遮蔽要素が前記第1の遮蔽要素よりも前記感熱デバイスに近接して配置され、前記第1の遮蔽要素と前記第2の遮蔽要素が互いに離間され、前記第2の表面と前記第3の表面が互いに対向し、前記第2の遮蔽要素が、前記放射要素から発生される電磁放射、及び/又は、前記放射要素から発生した電磁放射を吸収した前記第1の遮蔽要素の前記第2の表面から発生される電磁放射を吸収することで、前記感熱デバイスに到達する放射熱負荷を抑制するように構成され、
前記第1の遮蔽要素に前記第1の流路に流体を流すための第1の流体ポート及び第2の流体ポートが設けられ、前記第2の遮蔽要素に前記第2の流路に流体を流すための第3の流体ポート及び第4の流体ポートが設けられ、
前記放射遮蔽デバイスに要求される前記感熱デバイスについての熱負荷抑制を、前記第1の遮蔽要素の熱負荷抑制と前記第2の遮蔽要素の熱負荷抑制とで達成するように、前記第1の遮蔽要素に流される前記流体の流量と前記第2の遮蔽要素に流される前記流体の流量とが決定され、
前記装置が、パターニングデバイスから基板にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であり、前記装置に前記基板にパターン付き電磁放射ビームを投影するための光学システムが設けられ、前記光学システムが前記感熱デバイスに結合された、装置。 - 前記第1及び第2の遮蔽要素のうちの少なくとも一方の前記流体ポートに、前記流体を調節し、前記第1及び第2の遮蔽要素のうちの前記少なくとも一方の前記流路に前記流体を流すための流体調節システムが結合された、請求項1に記載の装置。
- 前記第2の流体ポートと前記第3の流体ポートが結合され、前記第1の流体ポート及び前記第4の流体ポートに、前記流体を調節し前記第1及び第2の流路に前記流体を流すための流体調節システムが結合された、請求項1に記載の装置。
- 前記放射遮蔽デバイスが、前記放射要素から前記感熱デバイスへと延びる放射方向に対して横向きの遮蔽面内に延在する、請求項1に記載の装置。
- a.感熱デバイスと、
b.動作時に前記感熱デバイスに向かって伝搬する電磁放射を発生させる放射要素と、
c.動作時に前記電磁放射が衝突するように前記放射要素と前記感熱デバイスの間に配置された放射遮蔽デバイスと、を備えた装置であって、
前記放射遮蔽デバイスが、
d.中に第1の流路が配置され、第1の表面及び第2の表面を有し、前記第1の表面が前記第2の表面よりも前記放射要素に近接して配置された第1の遮蔽要素と、
e.中に第2の流路が配置され、第3の表面及び第4の表面を有し、前記第3の表面が前記第4の表面よりも前記放射要素に近接して配置された第2の遮蔽要素と、を備え、
前記第1の遮蔽要素が前記第2の遮蔽要素よりも前記放射要素に近接して配置され、前記第2の遮蔽要素が前記第1の遮蔽要素よりも前記感熱デバイスに近接して配置され、前記第1の遮蔽要素と前記第2の遮蔽要素が互いに離間され、前記第2の表面と前記第3の表面が互いに対向し、
前記放射遮蔽デバイスが、前記放射要素から前記感熱デバイスへと延びる放射方向に対して横向きの遮蔽面内に延在し、
前記第1の遮蔽要素に前記遮蔽面に平行に延在する第1の貫通孔が設けられ、前記第2の遮蔽要素に前記遮蔽面に平行に延在する第2の貫通孔が設けられ、前記第1の貫通孔及び前記第2の貫通孔が、前記放射方向に伝搬し前記第1の貫通孔を通過する前記電磁放射が前記第2の遮蔽要素に衝突するように配置され、
前記装置が、パターニングデバイスから基板にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であり、前記装置に前記基板にパターン付き電磁放射ビームを投影するための光学システムが設けられ、前記光学システムが前記感熱デバイスに結合された、装置。 - 前記放射遮蔽デバイスの第1の側に干渉計システムが配置され、前記第1の側と反対の前記放射遮蔽デバイスの第2の側にある前記感熱デバイスに前記干渉計システムを較正するために用いる波長トラッキングシステムが配置された、請求項5に記載の装置。
- 前記パターン付き電磁放射ビームが4~20nmの範囲の波長を有するEUV放射を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記感熱デバイスが前記光学システムの一部を支持するフレームである、請求項1に記載の装置。
- 前記放射要素が、ケーブル、管及びアクチュエータを含む放射要素の一群に含まれる前記要素の1つである、請求項1に記載の装置。
- 前記装置が、
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与して前記パターン付きビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、
前記基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、を備えた、請求項1に記載の装置。 - 放射要素からの電磁放射から感熱デバイスを保護するように構成された放射遮蔽デバイスであって、前記放射遮蔽デバイスが、
a.中に第1の流路が配置され、第1の表面及び第2の表面を有する第1の遮蔽要素と、
b.中に第2の流路が配置され、第3の表面及び第4の表面を有する第2の遮蔽要素と、を備え、
前記第1の遮蔽要素と前記第2の遮蔽要素が互いに離間され、前記第2の表面と前記第3の表面が互いに対向するように配置され、前記第2の遮蔽要素が、前記放射要素から発生される電磁放射、及び/又は、前記放射要素から発生した電磁放射を吸収した前記第1の遮蔽要素の前記第2の表面から発生される電磁放射を吸収することで、前記感熱デバイスに到達する放射熱負荷を抑制するように構成され、
前記放射遮蔽デバイスが、前記放射要素から前記感熱デバイスへと延びる放射方向に対して横向きの遮蔽面内に延在し、
前記第1の遮蔽要素に前記遮蔽面に平行に延在する第1の貫通孔が設けられ、前記第2の遮蔽要素に前記遮蔽面に平行に延在する第2の貫通孔が設けられ、前記第1の貫通孔及び前記第2の貫通孔が、前記放射方向に伝搬し前記第1の貫通孔を通過する前記電磁放射が前記第2の遮蔽要素に衝突するように配置され、
前記感熱デバイスが、パターニングデバイスから基板にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置中に含まれており、前記リソグラフィ装置に前記基板にパターン付き電磁放射ビームを投影するための光学システムが設けられ、前記光学システムが前記感熱デバイスに結合された、放射遮蔽デバイス。 - 放射要素からの電磁放射から感熱デバイスを保護する方法であって、前記方法が、
a.中に第1の流路が配置され、第1の表面及び第2の表面を有する第1の遮蔽要素を前記放射要素と前記感熱デバイスの間に配置すること、
b.中に第2の流路が配置され、第3の表面及び第4の表面を有する第2の遮蔽要素を、前記第1の遮蔽要素と前記第2の遮蔽要素が互いに離間されるように配置され、前記第2の表面と前記第3の表面が互いに対向するように、前記第1の遮蔽要素と前記感熱デバイスの間に配置すること、及び
c.前記第1の流路及び前記第2の流路に流体を流すこと、を含み、
前記第2の遮蔽要素が、前記放射要素から発生される電磁放射、及び/又は、前記放射要素から発生した電磁放射を吸収した前記第1の遮蔽要素の前記第2の表面から発生される電磁放射を吸収することで、前記感熱デバイスに到達する放射熱負荷を抑制するように構成され、
前記感熱デバイスのために要求される熱負荷抑制を、前記第1の遮蔽要素の熱負荷抑制と前記第2の遮蔽要素の熱負荷抑制とで達成するように、前記第1の遮蔽要素に流される前記流体の流量と前記第2の遮蔽要素に流される前記流体の流量とが決定され、
前記感熱デバイスが、パターニングデバイスから基板にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置中に含まれており、前記リソグラフィ装置に前記基板にパターン付き電磁放射ビームを投影するための光学システムが設けられ、前記光学システムが前記感熱デバイスに結合された、方法。 - ステップcがさらに、前記第1の流路及び前記第2の流路のうちの少なくとも一方を流れる前記流体を調節することを含む、請求項12に記載の方法。
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