JP7401057B2 - 液晶素子基板 - Google Patents
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Description
[1] 表面に金属酸化物を有する基材上に含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸に由来する層を有する基板。
[2] 前記金属酸化物と前記含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸とが共有結合している、[1]に記載の基板。
[3] 前記含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸が下記式(1)により表される、[1]又は[2]に記載の基板。
[式(1)中、Rは、少なくとも1個の水素原子がフッ素原子により置換されている炭素原子数4乃至32の炭化水素基である。]
[4] 前記金属酸化物が導電性透明電極である、[1]乃至[3]のいずれか一項に記載の基板。
[5] 前記基材がガラス又はポリマーを主たる材料として含む、[1]乃至[4]のいずれか一項に記載の基板。
[6] 一対の基板、一対の基板間に挟持された液晶層、及び一対の基板を貼り合わせるシール材を含んで構成され、前記一対の基板の少なくとも一方が[1]乃至[5]のいずれか一項に記載の基板である液晶セル。
[7] 表面に金属酸化物を有する基材に、含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸を適用する工程を含む、基板の製造方法。
[8] 表面に金属酸化物を有する基材上に含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸に由来する層を有する基板を製造するための、下記式(1)により表される含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸の使用。
[式(1)中、Rは、少なくとも1個の水素原子がフッ素原子により置換されている炭素原子数4乃至32の炭化水素基である。]
本発明に使用される基材は特に限定されないが、ガラス又はポリマーを主材料として含むものが好ましい。ガラスはアルカリガラス、無アルカリガラスのいずれでもよい。好ましくは、液晶ディスプレイ用に使用されるガラスである。ポリマーに特に限定はないが、好ましくは透明性のあるものである。可視光の透過度が90%以上、又は95%以上のポリマーが好ましい。
ホスホン酸とはリンのオキソ酸(H3PO3)をいう。
炭化水素基とは、炭素原子と水素原子からなる官能基をいい、直鎖、分岐、環状のアルキル、アルケニル、若しくはアルキニル基、アリール基、又はこれらが組み合わさった基をいう。
本願にいう「含フッ素」とは、炭化水素基の少なくとも一つの水素原子がフッ素原子によって置換されていることをいう。
好ましくは、含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸は下記式(1)により表される。
含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸に由来する層は、基材上に含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸が物理的に積層されていてもよく、基材上の金属酸化物との間の化学結合を介して積層されていてもよい。すなわち、「由来する」とは、含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸の分子がそのまま維持される場合と、化学反応によって変化している場合のいずれの積層状態をも包含する趣旨である。
金属酸化物と含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸とが共有結合を形成していることが好ましい。このような共有結合は、含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸のホスホニル基と金属酸化物の酸素原子又は水酸基との間の脱水反応によって容易に形成させることができる。その結果、金属酸化物にホスホニル基を介して結合した含フッ素炭化水素基が基材の上方へ伸長した構造が生成し、この構造に起因して本発明の特に好ましい効果がもたらされると推定される。
本発明に係る基板の製造方法は、表面に金属酸化物を有する基材に、含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸を適用する工程を含む。この工程は、例えば、塗布、スプレー、浸漬、スピンコーティング等の公知の手段を用いて実施することができる。
一対の基板、一対の基板間に挟持された液晶層、及び一対の基板を貼り合わせるシール材を含んで構成される液晶セルにおいて、本発明に係る基板を前記一対の基板の少なくとも一方、好ましくは両方として用いることができる。
本発明に係る基板に重合性液晶分子を塗布するには、例えばバーコーター法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を採用することができる。
加熱による重合の場合、加熱条件は、使用する重合性液晶分子の種類によって適宜選択することができる。好ましい加熱温度、加熱時間はそれぞれ、40~80℃、0.5~5分である。光照射による重合の場合、照射光としては、200~500nmの範囲の波長を有する非偏光の紫外線を採用することが好ましく、その照射量としては、好ましくは50~10,000mJ/cm2、より好ましくは100~5,000mJ/cm2である。
形成される液晶層の厚みとしては、所望の光学特性に従って適宜設定することができる。例えば、波長540nmの可視光における1/2波長板を製造する場合は、位相差フィルムの位相差が240~300nmとなるような厚みが好適であり、1/4波長板を製造する場合は、位相差が120~150nmとなるような厚みが好適である。
このようにして得られた光学素子は、位相差フィルムとして使用することができ、通常、液晶表示素子と偏光板の間に配置される。その他の使用法として、偏光板の外側面に貼合した反射防止機能素子がある。
市販のITO付きガラス基板を、卓上型UVオゾン洗浄改質装置PL16-110を用いて30分間表面処理した。処理後のガラス基板を、下記表1に記載の含フッ素ホスホン酸化合物を所定濃度で含むイソプロパノール溶液中に、所定時間浸漬した。浸漬後、基板の表面を、イソプロパノールを用いて洗浄し、風乾して含フッ素ホスホン酸化合物処理基板を得た。
液晶組成物としては(株)CHIRACOL社製のOCMV-180を使用した(N-I転移点:148℃、Δn=0.082、Δε=-2.8)。
上記含フッ素ホスホン酸化合物処理基板と未処理の基板を用いてセル厚4ミクロンの空セルを作製した。また、対照として一対の未処理の基板を用いてセル厚4ミクロンの空セルを作製した。これらの各々に、上記液晶組成物を充填、封入し、液晶セルを得た。
得られた液晶セルに下記の条件で電圧を印加し、LEDバックライト、直交ニコル下にて透過光量を観察した。
印加周波数 100Hz
印加電圧 矩形波(3~3.5V)
(A)は、例1の含フッ素ホスホン酸化合物処理基板を用いて作成した液晶セルの、LEDバックライト、直交ニコル下にて透過光量を観察したときの写真であり、
(B)は、例3の含フッ素ホスホン酸化合物処理基板を用いて作成した液晶セルの、LEDバックライト、直交ニコル下にて透過光量を観察したときの写真であり、
(C)は、対照として一対の未処理の基板を用いて作成した液晶セルの、LEDバックライト、直交ニコル下にて透過光量を観察したときの写真である。
Claims (7)
- 前記金属酸化物と前記含フッ素炭化水素基を有するホスホン酸とが共有結合している、請求項1に記載の液晶素子基板。
- 前記金属酸化物が導電性透明電極である、請求項1又は2に記載の液晶素子基板。
- 前記基材がガラス又はポリマーを主たる材料として含む、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶素子基板。
- 一対の基板、一対の基板間に挟持された液晶層、及び一対の基板を貼り合わせるシール材を含んで構成され、前記一対の基板の少なくとも一方が請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液晶素子基板である液晶セル。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006251593A (ja) | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Ricoh Co Ltd | 表示媒体とそれを用いた表示装置と可逆表示体 |
Family Cites Families (1)
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002060979A (ja) | 2000-04-18 | 2002-02-28 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | マイクロコンタクト・プリンティングによるパターン化されたインジウム亜鉛酸化物フィルムおよびインジウムすず酸化物フィルムの形成方法 |
JP2006251593A (ja) | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Ricoh Co Ltd | 表示媒体とそれを用いた表示装置と可逆表示体 |
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