JP7397205B2 - 製膜用霧化装置、製膜装置及び製膜方法 - Google Patents
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Description
前記原料液体を収容する原料容器と、
前記原料液体に前記超音波を伝播するための媒体としての中間液を収容する伝播槽と、
前記原料容器を、該原料容器の少なくとも一部が前記中間液中に位置するように支持する支持機構と、
前記中間液を循環させる循環機構と、
前記超音波を発生させ、前記伝播槽に印加する超音波発生器と、
前記中間液中の気体を前記製膜用霧化装置の系外に排出する脱気機構と
を具備するものであることを特徴とする製膜用霧化装置を提供する。
この場合、例えば、前記脱気機構を、前記伝播槽と前記原料容器を保持する前記支持機構とで囲まれる空間の内部と外部とを空間的に接続したものとすることができる。
本発明の製膜用霧化装置と、
前記製膜機と、
前記製膜用霧化装置により霧化して生成される前記原料ミストをキャリアガスによって前記製膜機に供給するように構成された供給機構と
を具備するものであることを特徴とする製膜装置を提供する。
本発明の製膜用霧化装置により原料液体を霧化するステップと
前記霧化された原料液体とキャリアガスを混合して混合気を形成するステップと、
前記混合気を下地基板に供給して製膜を行うステップと
を含むことを特徴とする製膜方法を提供する。
前記原料液体を収容する原料容器と、
前記原料液体に前記超音波を伝播するための媒体としての中間液を収容する伝播槽と、
前記原料容器を、該原料容器の少なくとも一部が前記中間液中に位置するように支持する支持機構と、
前記中間液を循環させる循環機構と、
前記超音波を発生させ、前記伝播槽に印加する超音波発生器と、
前記中間液中の気体を前記製膜用霧化装置の系外に排出する脱気機構と
を具備するものであることを特徴とする製膜用霧化装置である。
本発明の製膜用霧化装置と、
前記製膜機と、
前記製膜用霧化装置により霧化して生成される前記原料ミストをキャリアガスによって前記製膜機に供給するように構成された供給機構と
を具備するものであることを特徴とする製膜装置である。
本発明の製膜用霧化装置により原料液体を霧化するステップと
前記霧化された原料液体とキャリアガスを混合して混合気を形成するステップと、
前記混合気を下地基板に供給して製膜を行うステップと
を含むことを特徴とする製膜方法である。
本発明の製膜用霧化装置は、超音波によって原料液体を霧化して原料ミストを生成する製膜用霧化装置であって、
前記原料液体を収容する原料容器と、
前記原料液体に前記超音波を伝播するための媒体としての中間液を収容する伝播槽と、
前記原料容器を、該原料容器の少なくとも一部が前記中間液中に位置するように支持する支持機構と、
前記中間液を循環させる循環機構と、
前記超音波を発生させ、前記伝播槽に印加する超音波発生器と、
前記中間液中の気体を前記製膜用霧化装置の系外に排出する脱気機構と
を具備するものであることを特徴とする。
このような霧化装置であれば、原料容器内における原料液体の深さを均一にすることができ、それにより原料液体をより十分に霧化することができる。その結果、原料液体の霧化を継続的により高い効率で行うことができる。しかも、装置形状を単純化でき、装置コストの低減も計られる。
本発明の製膜装置は、製膜機に原料ミストを供給して、該製膜機に配置される下地基板上に薄膜を形成するように構成された製膜装置であって、
本発明の製膜用霧化装置と、
前記製膜機と、
前記製膜用霧化装置により霧化して生成される前記原料ミストをキャリアガスによって前記製膜機に供給するように構成された供給機構と
を具備するものであることを特徴とする。
本発明の製膜方法は、製膜機に原料ミストを供給して、該製膜機に配置される下地基板上に薄膜を形成する製膜方法であって、
本発明の製膜用霧化装置により原料液体を霧化するステップと
前記霧化された原料液体とキャリアガスを混合して混合気を形成するステップと、
前記混合気を下地基板に供給して製膜を行うステップと
を含むことを特徴とする。
実施例1では、以下の手順で、図1に示した製膜用霧化装置100を用いて、原料液体114の霧化を行い、霧化量を測定した。
比較例1では、循環機構131を含まない霧化装置を用いた、すなわち伝播槽121の水126の循環をせず、投げ込み式チラーで伝播槽121内の水を25℃に保ったことの他は実施例1と同様にして、霧化を実施した。
実施例2では、以下の手順で、図1に示した製膜用霧化装置100を具備した、図4に示した製膜装置400を用いて、α-酸化ガリウム膜の製膜を行った。
比較例2では、循環機構131を含まない霧化装置を用いた、すなわち伝播槽121の水126の循環をせず、投げ込み式チラーで液槽内の水を25℃に保ったことの他は実施例2と同様に製膜を行った。
Claims (9)
- 超音波によって原料液体を霧化して原料ミストを生成する製膜用霧化装置であって、
前記原料液体を収容する原料容器と、
前記原料液体に前記超音波を伝播するための媒体としての中間液を収容する伝播槽と、
前記原料容器を、該原料容器の少なくとも一部が前記中間液中に位置するように支持する支持機構と、
前記中間液を循環させる循環機構と、
前記超音波を発生させ、前記伝播槽に印加する超音波発生器と、
前記中間液中の気体を前記製膜用霧化装置の系外に排出する脱気機構と
を具備し、
前記中間液の循環により、前記原料容器の底面の下方における前記中間液に生じる気泡を排出するものであることを特徴とする製膜用霧化装置。 - 前記循環機構から前記中間液を前記伝播槽へ注入する注入口が、前記原料容器の底面より低位置に配置されているものであることを特徴とする請求項1に記載の製膜用霧化装置。
- 前記伝播槽から前記中間液を前記循環機構へ排出する排出口が、前記原料容器の底面より高位置に配置されているものであることを特徴とする請求項1または2に記載の製膜用霧化装置。
- 前記原料容器は、水平な底面を具備するものであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の製膜用霧化装置。
- 前記脱気機構が前記伝播槽に設けられているものであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の製膜用霧化装置。
- 前記脱気機構が前記伝播槽と前記原料容器を保持する前記支持機構とで囲まれる空間の内部と外部とを空間的に接続したものであることを特徴とする請求項5に記載の製膜用霧化装置。
- 前記脱気機構が前記循環機構に設けられているものであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の製膜用霧化装置。
- 製膜機に原料ミストを供給して、該製膜機に配置される下地基板上に薄膜を形成するように構成された製膜装置であって、
請求項1から7のいずれか1項に記載の製膜用霧化装置と、
前記製膜機と、
前記製膜用霧化装置により霧化して生成される前記原料ミストをキャリアガスによって前記製膜機に供給するように構成された供給機構と
を具備するものであることを特徴とする製膜装置。 - 製膜機に原料ミストを供給して、該製膜機に配置される下地基板上に薄膜を形成する製膜方法であって、
請求項1~7のいずれか1項に記載の製膜用霧化装置により原料液体を霧化するステップと
前記霧化された原料液体とキャリアガスを混合して混合気を形成するステップと、
前記混合気を下地基板に供給して製膜を行うステップと
を含むことを特徴とする製膜方法。
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