JP7391334B2 - 偏光板、およびディスプレイ装置 - Google Patents

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Description

関連出願との相互引用
本出願は、２０１９年０１月１４日付韓国特許出願第１０－２０１９－０００４８３８号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、偏光板、およびディスプレイ装置に関するものである。
有機電界発光素子（ＯＥＬＤ）、または液晶表示素子（ＬＣＤ）のような画像表示装置においては、外光の反射または像の映りによるコントラストの低下や、視認性の低下を防止することが要求される。このために、光の散乱または光学干渉などを用いて像の映りや反射などを減らすために、画像表示装置の表面に反射防止フィルムなどの光学積層フィルムが形成されている。
例えば、液晶表示素子などにおいては、以前から防眩層を含む光学積層フィルムが一般に形成されてきた。このような防眩層は主にバインダーと、このようなバインダー内に含まれている微粒子を含み、このような微粒子は通常バインダー表面に一部が突出するように凹凸が形成されている。即ち、前記防眩層は、前記バインダー表面に突出した微粒子による表面凹凸を有することによって、光散乱／光反射などを制御して画像表示装置の視認性低下などを抑制することができる。
しかし、以前に知られた防眩層を含む光学フィルムの場合、表面に凹凸を形成させるために有機粒子と無機ナノ粒子を共に使用したが、無機ナノ粒子はバインダーおよび溶媒に対する分散性が低くて無機ナノ粒子同士の凝集が発生する問題点が発生した。
特に、前記無機ナノ粒子は有機粒子の表面を囲みながら有機粒子の凝集を誘導し、このような無機ナノ粒子で囲まれた有機粒子が防眩層表面に垂直な方向に過度に凝集する場合、表面凹凸が過度に大きいか多く形成される凹凸不良が発生する問題点がある。
また、このような凹凸不良によって、むしろ防眩層の光学特性が低下して光散乱／光反射などを制御する防眩特性などがよく発現されず、その部位で像が歪んで像鮮明度が低下するか光の反射が周辺部より増幅されて煌めくようになる不良、スパークリングとしても知られている、煌めき現象が発生することがあって改善が必要である。
本発明は、熱と水に対する耐久性が高く、高い明暗比および優れた像鮮明度を実現し高い耐摩耗性および耐スクラッチ性などの機械的物性を有する偏光板を提供するためのものである。
また、本発明は、前記光学積層体を含む液晶パネルおよびディスプレイ装置をそれぞれ提供するためのものである。
本明細書では、偏光子；前記偏光子の一面側に形成され、高分子基材と防眩層を含む光学積層体；および前記偏光子の他の一面側に形成され、（メタ）アクリレート系樹脂を含む熱可塑性樹脂層；を含み、前記高分子基材は高分子樹脂および前記高分子樹脂に分散した１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子を含み、前記防眩層はバインダー樹脂および前記バインダー上に分散している有機微粒子または無機微粒子を含み、前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される直径１００μｍ以上の微細突起が前記防眩層の外部表面に存在する比率が５０個／ｍ２以下である、偏光板を提供することができる。
また本明細書では、前記偏光板を含むディスプレイ装置が提供される。
以下、発明の具体的な実施形態による光学積層体、偏光板、およびディスプレイ装置についてより具体的に説明する。
本明細書で、第１、第２などの用語は多様な構成要素を説明するのに使用され、前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的のみで使用される。
また、（メタ）アクリル［（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ］は、アクリル（ａｃｒｙｌ）およびメタクリル（ｍｅｔｈａｃｒｙｌ）の両方ともを含む意味である。
また、中空構造の無機ナノ粒子とは、無機ナノ粒子の表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。
また、（共）重合体は、共重合体（ｃｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）の両方ともを含む意味である。
発明の一実施形態によれば、偏光子；前記偏光子の一面側に形成され、高分子基材と防眩層を含む光学積層体；および前記偏光子の他の一面側に形成され、（メタ）アクリレート系樹脂を含む熱可塑性樹脂層；を含み、前記高分子基材は高分子樹脂および前記高分子樹脂に分散した１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子を含み、前記防眩層はバインダー樹脂および前記バインダー上に分散している有機微粒子または無機微粒子を含み、前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される直径１００μｍ以上の微細突起が前記防眩層の外部表面に存在する比率が５０個／ｍ２以下である、偏光板を提供することができる。
前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される直径１００μｍ以上の微細突起が前記防眩層の外部表面に存在する比率が５０個／ｍ２以下、または１～３０個／ｍ２、または実質的に存在しないのによって、前記光学積層体を含む前記実施形態の偏光板は相対的に低いヘイズ値を有しながらも高い明暗比および均一で良好な像鮮明度を実現することができる。
前記防眩層／または偏光板は、Ａ光源下での透過率が９０％以上、ヘイズが１０％以下、または８％以下であってもよい（例えば、測定機器ＨＭ－１５０、測定規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５による測定）。
より具体的に、前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される微細突起が１００μｍ以上の直径を有する程度の大きさになれば肉眼で視認されるスパークリング（煌めき）現象が発生することがあり、前記微細突起が前記防眩層の外部表面に形成される比率が相対的に低いことによって、反射光の増幅によるスパークリング（煌めき）現象を防止することができ、映像の像鮮明度が均一であり、これによって高解像度イメージを鮮明に実現することができる。
一般に、ヘイズ値が高いほど外部光の拡散程度が大きくなって、眩しさ防止効果に優れる反面、表面の散乱によるイメージの歪曲現象と内部散乱による白化現象で明暗比が落ちる問題点が発生する。これに対し、前記実施形態の偏光板は、前述の防眩層を含んであまり高くないヘイズ値を有しながらも高い明暗比および優れた像鮮明度を示すことができる。
前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される微細突起の直径は前記防眩層の表面に平行な方向への断面幅で決定でき、１００μｍ以上、または１００μｍ～３００μｍ、または１１０μｍ～２５０μｍ、または１２０μｍ～２００μｍであってもよい。
前述のように、前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される直径１００μｍ以上の微細突起が前記防眩層の外部表面に存在する比率が５０個／ｍ２以下、または１～３０個／ｍ２であってもよく、また下記一般式１で定義される防眩層の一面中の微細突起が位置する領域の比率が０．５面積％以下、０．３面積％以下、または０．０１～０．５面積％、または０．０２～０．２面積％、または０．０５～１面積％であってもよい。
［一般式１］
防眩層の一面中の微細突起が位置する領域の比率＝（微細突起の個数×５ｍｍの直径を有する円の面積）／防眩層の一面の面積（ｍｍ２）
上記一般式１での“５ｍｍの直径を有する円”は、前記微細突起が位置する領域と定義する。
前述の防眩層の特性は、前記防眩層を形成するためのコーティング組成物で溶媒を除いた固形分の含量や防眩層形成時使用する有機溶媒の種類などを特定することによるものである。
より具体的に、前記防眩層を形成するためのコーティング組成物で溶媒を除いた固形分の含量は、２５～４０重量％または３０～３５重量％であってもよい。前述の範囲で前記防眩層を形成するためのコーティング組成物の固形分含量が調節されることによって、前記防眩層形成時に有機微粒子または無機微粒子の流動が円滑になり、これにより、これらの凝集体である微細突起が実質的に生成されないようにできる。
また、前記防眩層を形成するためのコーティング組成物は、特定の混合溶媒を含むことができる。前記有機溶媒はアルコールおよび非アルコール類の有機溶媒を含むことができ、より具体的に、前記有機溶媒はｎ－ブチルアセテートおよび２－ブタノールを含む混合溶媒であってもよい。また、前記有機溶媒は、ｎ－ブチルアセテートおよび２－ブタノールを１：２～１：５の重量比で含むことができる。
前述の有機溶媒を使用することによって、前記防眩層形成時、有機微粒子または無機微粒子の流動が円滑になり、これにより、これらの過凝集体である微細突起が実質的に生成されないようにできる。
一方、前記光学積層体では、前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層厚さの７５％以内に、または厚さの５０％以内、または３０％以内に１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子が存在し、これにより、前記光学積層体は低い光沢度および反射率と、適切な水準のヘイズ特性などの優れた光学特性および防眩特性などを示しながら同時に相対的に高い耐スクラッチ性および耐久性を有することができる。
前記高分子基材に含まれる１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子は前記光学積層体の製造過程で前記防眩層に侵入して防眩層の外部面へまで露出され、本発明者らは前記ゴム粒子が前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層の厚さの７５％以内にまたは５０％以内に、または厚さの３０％以内の範囲までのみ位置するように調節した。
このように、前記ゴム粒子が前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層厚さの７５％以内にまたは５０％以内に、または厚さの３０％以内の範囲までのみ位置し、前記ゴム粒子が防眩層の外部面に露出されるか防眩層の上面に位置して前記光学積層体の耐スクラッチ性を低下させるか反射率やヘイズ特性を高めるようになる現象を防止した。
より具体的に、前記防眩層を形成するためのコーティング組成物を塗布し熱処理または乾燥時６０℃を超過する温度を適用する場合、前記ゴム粒子が前記高分子基材から前記形成される防眩層に上がってくるようになり、前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層厚さの７５％を超過する範囲まで前記ゴム粒子が位置することになる。
これにより、前記防眩層を形成するためのコーティング組成物を塗布し熱処理または乾燥時、６０℃以下の温度を適用することができる。
一方、前述のように、前記光学積層体の製造過程で前記高分子基材に含まれるゴム粒子の一部が前記防眩層に移動することがあり、これにより、前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層の厚さの７５％以内に存在する１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子と前記高分子基材に含まれる１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子は同一な成分のゴム粒子であり得る。
前記ゴム粒子は、通常知られた天然ゴムまたは合成ゴムであってもよい。例えば、前記ゴム粒子は、スチレン系ゴム、ブタジエン系ゴム、スチレン－ブタジエン系ゴムおよびアクリル系ゴムからなる群より選択された１種以上のゴムを含むことができる。
前記スチレン系、スチレン－ブタジエン系ゴムの製造に使用される前記スチレン系単量体は、置換されていないスチレン単量体または置換されたスチレン単量体であってもよい。
前記置換されたスチレン単量体は、ベンゼン環またはビニル基に脂肪族炭化水素またはヘテロ原子を含む置換基で置換されたスチレンであってもよい。例えば、スチレン、α－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－メチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、２，５－ジメチルスチレン、２－メチル－４－クロロスチレン、２，４，６－トリメチルスチレン、ｃｉｓ－β－メチルスチレン、ｔｒａｎｓ－β－メチルスチレン、４－メチル－α－メチルスチレン、４－フルオロ－α－メチルスチレン、４－クロロ－α－メチルスチレン、４－ブロモ－α－メチルスチレン、４－ｔ－ブチルスチレン、２－フルオロスチレン、３－フルオロスチレン、４－フルオロスチレン、２，４－ジフルオロスチレン、２，３，４，５，６－ペンタフルオロスチレン、２－クロロスチレン、３－クロロスチレン、４－クロロスチレン、２，４－ジクロロスチレン、２，６－ジクロロスチレン、オクタクロロスチレン、２－ブロモスチレン、３－ブロモスチレン、４－ブロモスチレン、２，４－ジブロモスチレン、α－ブロモスチレン、およびβ－ブロモスチレンからなる群より選択された一つ以上であってもよいが、これに限定されない。より好ましくは、Ｃ１－４アルキルまたはハロゲンで置換されたスチレンを使用することができる。
前記ブタジエン系、スチレン－ブタジエン系ゴムの製造に使用される前記ブタジエン系単量体は、１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、２－エチル－１，３－ブタジエン、１，３－ペンタジエンおよびクロロプレンからなる群より選択される一つ以上を使用することができ、最も好ましくは、共重合性が良好であるという観点から、１，３－ブタジエンを使用することができる。
前記アクリル系ゴムの製造に使用される前記アクリレート系単量体は、メタクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、不飽和カルボン酸、酸無水物およびヒドロキシ基を含有するエステルからなる群より選択される一つ以上を使用することができる。
前記アクリレート系単量体の具体的な例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、およびベンジルメタクリレートを含むメタクリル酸エステル類；メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートを含むアクリル酸エステル類；アクリル酸およびメタクリル酸を含む不飽和カルボン酸；無水マレイン酸を含む酸無水物；２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレートおよびモノグリセロールアクリレートを含むヒドロキシ基を含有するエステル；またはこれらの混合物；または前記アクリル系単量体を多官能単量体の存在下で重合させる化合物を使用することができる。
ゴム粒子は、このようなゴム弾性を有する粒子が単層に形成されたものであってもよく、ゴム弾性層を少なくとも１層有する多層構造体であってもよい。多層構造のアクリル系ゴム粒子としては、前記のようなゴム弾性を有する粒子を核にして、その周囲を硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったもの、硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体を核にして、その周囲を前記のようなゴム弾性を有するアクリル系重合体で覆ったもの、また硬質の核の周囲をゴム弾性のアクリル系重合体で覆って、またその周囲を硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったものなどが挙げられる。弾性層で形成されるゴム粒子は、その平均直径が通常１０～５００ｎｍ程度の範囲にある。
一方、前記高分子基材は、１０～１５０μｍ、２０～１２０μｍ、または３０～１００μｍの厚さを有することができる。前記高分子基材の厚さが１０μｍ未満であれば、柔軟性が落ちて工程を制御しにくいことがある。また、前記高分子基材が過度に厚くなれば、高分子基材の透過率が減少して光学物性が下落することがあり、これを含む画像表示装置を薄型化しにくいという問題点がある。
前記防眩層は、１～１０μｍの厚さを有することができる。前記防眩層の厚さが過度に薄ければ、フィルムの硬度が低まるか耐スクラッチ特性が下落して光学積層体の最外部フィルムとして使用するに不適合になることがある。前記防眩層の厚さが過度に厚ければ、フィルムに撓みが発生し、屈曲特性が悪くなってフィルムがよく折れることがあり、これにより、ロール工程時フィルム走行が難しいことがある。
一方、前記高分子基材の厚さに対する前記防眩層の厚さの比率が０．００８～０．８、または０．０１～０．５であってもよい。前記高分子基材の厚さに対する前記防眩層の厚さの比率が過度に小さければ、基材の表面を防眩層が十分に保護できなくて鉛筆硬度など機械物性の確保が難しいことがある。また、前記高分子基材の厚さに対する前記防眩層の厚さの比率が過度に大きければ、積層体の柔軟性が減少して耐クラック性が不足することがある。
前記高分子基材は、前記バインダー樹脂１００重量部に対して１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子５～５０重量部を含むことができる。
前記高分子基材で、前記バインダー樹脂に対する前記ゴム粒子の含量が過度に小さければ、外力からの衝撃吸収ができなくてフィルムがよく壊れるか、一定の曲率以下に曲げる場合、フィルムが壊れる問題が生じることがある。
前記高分子基材で、前記バインダー樹脂に対する前記ゴム粒子の含量が過度に高ければ、フィルムの機械的強度が弱くなってフィルムが簡単に変形することがあり、バインダー樹脂の架橋密度が低まってハードコーティング時溶媒浸食が増加してフィルムの硬度と耐スクラッチ性が悪化することがあり、ゴム粒子と高分子基材成分の屈折率差によって透過度が下落し光学特性が低下することがある。
前記高分子基材の具体的な成分は特に限定されないが、所定の光透過度と共に耐湿特性を確保するために、前記高分子樹脂は、（メタ）アクリレート樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂およびポリエステル樹脂からなる群より選択された１種以上を含むことができる。
前記光学積層体で、４０℃、湿度１００％条件で２４時間測定した前記高分子基材の水分透過量が、１５０ｇ／ｍ２以下、１００ｇ／ｍ２以下、または７５ｇ／ｍ２以下、または５～７５ｇ／ｍ２であってもよい。
より具体的に前記高分子基材は、４０℃、湿度１００％条件で２４時間の水分透過量を測定した時（測定機器 ｌａｂ ｔｈｉｎｋ社 Ｗａｔｅｒ Ｖａｐｏｒ Ｐｅｒｍｅａｂｉｌｉｔｙ Ｔｅｓｔｅｒ）、水分透過量が１５０ｇ／ｍ２以下、１００ｇ／ｍ２以下、または７５ｇ／ｍ２以下、または５～７５ｇ／ｍ２であってもよい。
一方、前記防眩層は、前記バインダー樹脂１００重量部に対して前記有機微粒子または前記無機微粒子をそれぞれ１～１０重量部を含むことができる。
前記防眩層で前記バインダー樹脂に対する前記有機微粒子または前記無機微粒子の含量が過度に小さければ、外部光の散乱／反射などがよく制御されなくて防眩特性が大きく低下することがあり、乾燥時粒子の安定性が急激に下落して数百μｍ大きさの突起が生成されることがあって光学特性が確保されにくい。また、前記高分子基材で前記バインダー樹脂に対する前記有機微粒子または前記無機微粒子の含量が過度に高ければ、透過イメージ光の屈折が増加して光学フィルムの像鮮明度が大きく低下することがあり、重畳された粒子が多くできて微細突起が増加するか、白濁が発生するかフィルムのブラック鮮明度が下落することがある。
前記防眩層に含まれるバインダー樹脂は、光硬化性樹脂を含むことができる。前記光硬化性樹脂は、紫外線などの光が照射されれば重合反応を起こすことができる光重合性化合物の（共）重合体を意味する。
前記光重合性化合物の具体的な例としては、ビニル系単量体またはオリゴマーや（メタ）アクリレート単量体またはオリゴマーから形成された（共）重合体が挙げられる。
前記光硬化性樹脂の例としては、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートおよびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマー群；およびジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリンプロポキシレートトリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチルプロピルトリアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートおよびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体からなる群；から形成された重合体または共重合体や、エポキシ基、脂環式エポキシ基、グリシジル基、またはオキセタン基を含むエポキシ基を含むエポキシ樹脂などが挙げられる。
前記バインダー樹脂は、前述の光硬化性樹脂と共に重量平均分子量が１０，０００ｇ／ｍｏｌ以上である（共）重合体（以下、高分子量（共）重合体という）をさらに含むことができる。前記高分子量（共）重合体は、例えば、セルロース系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、エポキシド系ポリマー、ナイロン系ポリマー、ウレタン系ポリマーおよびポリオレフィン系ポリマーからなる群より選択される１種以上のポリマーを含むことができる。
前記有機または無機微粒子の粒径は、具体的に限定されない。
前記防眩層に含まれる有機微粒子はミクロン（μｍ）スケールであってもよく、前記防眩層に含まれる無機微粒子はナノ（ｎｍ）スケールであってもよい。本明細書で、ミクロン（μｍ）スケールとは１ｍｍ未満、即ち、１０００μｍ未満の粒子大きさまたは粒径を有するのを言い、ナノ（ｎｍ）スケールとは１μｍ未満、即ち、１０００ｎｍ未満の粒子大きさまたは粒径を有するのを言い、サブ－ミクロン（ｓｕｂ－μｍ）スケールとはミクロンスケールまたはナノスケールの粒子大きさまたは粒径を有するのをいう。
より具体的に、前記有機微粒子は、１～５０μｍ、または１～１０μｍの断面直径を有することができる。また、前記無機微粒子は、１ｎｍ～５００ｎｍ、または１ｎｍ～３００ｎｍの断面直径を有することができる。
前記ハードコーティング層に含まれる有機または無機微粒子の具体的な例は特に限定されないが、例えば、前記有機または無機微粒子は、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛からなる無機微粒子であってもよい。
一方、前記実施形態の光学積層体は、前記防眩層の一面に形成され、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での屈折率が１．２０～１．６０である低屈折層をさらに含むことができる。
前記３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での屈折率が１．２０～１．６０である低屈折層はバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した有機微粒子または有機微粒子を含むことができ、選択的に光反応性官能基を有する含フッ素化合物および／または光反応性官能基を有するシリコン系化合物をさらに含むことができる。
前記バインダー樹脂は多官能（メタ）アクリレート系繰り返し単位を含む（共）重合体を含み、このような繰り返し単位は例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ＴＭＰＥＯＴＡ）、グリセリンプロポキシル化トリアクリレート（ＧＰＴＡ）、ペンタエリトリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）、またはジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などの多官能（メタ）アクリレート系化合物に由来したものであってもよい。
前記含フッ素化合物またはシリコン系化合物に含まれる光反応性官能基は、（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）、およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の官能基を含むことができる。
前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも一つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも一つの水素がフッ素で置換され、一つ以上の炭素がケイ素で置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１以上の光反応性官能基で置換され少なくとも一つの水素がフッ素で置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選択された１種以上の化合物であってもよい。
前記低屈折層は、中空型無機ナノ粒子、ソリッド型無機ナノ粒子および／または多孔性無機ナノ粒子を含むこともできる。
前記中空型無機ナノ粒子は、２００ｎｍ未満の最大直径を有し、その表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。前記中空型無機ナノ粒子は、１～２００ｎｍ、または１０～１００ｎｍの数平均粒径を有する無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。また、前記中空型無機ナノ粒子は、１．５０ｇ／ｃｍ３～３．５０ｇ／ｃｍ３の密度を有することができる。
前記中空型無機ナノ粒子は、表面に（メタ）アクリレート基、エポキシド基、ビニル基（Ｖｉｎｙｌ）およびチオール基（Ｔｈｉｏｌ）からなる群より選択された１種以上の反応性官能基を含有することができる。前記中空型無機ナノ粒子表面に前述の反応性官能基を含有することによって、より高い架橋度を有することができる。
前記ソリッド型無機ナノ粒子は、０．５～１００ｎｍの数平均粒径を有するソリッド型無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。
前記多孔性無機ナノ粒子は、０．５～１００ｎｍの数平均粒径を有する無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。
前記低反射層は、前記（共）重合体１００重量部に対して前記無機ナノ粒子１０～４００重量部；および前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物および／またはシリコン系化合物２０～３００重量部を含むことができる。
一方、前記実施形態の偏光板は、前記光学積層体を偏光子保護フィルムとして含むことができる。
より具体的に、前記偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一面側に形成され、高分子基材と防眩層を含む光学積層体と、前記偏光子の他の一面側に形成され、（メタ）アクリレート系樹脂を含む熱可塑性樹脂層を含むことができる。
特に、以前に知られた偏光板は偏光子を中心にして両側にトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムなどを位置する構造を有するのに対し、前記実施形態の偏光板は一側に前述の特性を有する光学積層体が位置し他の一側に（メタ）アクリレート系樹脂を含む熱可塑性樹脂層が位置して、以前に知られた他の偏光板構造に比べてより薄い厚さを通じても堅固な構造を実現することができ、また外部熱によって耐久構造や物性が大きく変わらない特性を有することができる。
前記熱可塑性樹脂層の厚さが大きく限定されるのではないが、前記偏光板の構造および物性などを考慮して１０μｍ～８０μｍ、または２０μｍ～６０μｍ、または３０μｍ～５０μｍの厚さを有することができる。
一方、前記光学積層体に含まれる高分子基材の厚さに対する前記熱可塑性樹脂層の厚さが大きく限定されるのではないが、前記高分子基材の厚さに対する前記熱可塑性樹脂層の厚さの比が適正範囲を有しなければ、偏光板に撓みが発生することがあり、柔軟性が落ちて工程を制御しにくいこともある。これにより、前記実施形態の偏光板で、前記光学積層体に含まれる高分子基材の厚さに対する前記熱可塑性樹脂層の厚さの比率が０．３～２．０、または０．４～１．２、または０．５～０．９であってもよい。
一方、前記熱可塑性樹脂層は、（メタ）アクリレート系樹脂以外に機械的強度向上のためのゴム粒子をさらに含むことができる。
前記熱可塑性樹脂層に含まれる（メタ）アクリレート系樹脂の具体的な例は特に限定されず、例えば、（メタ）アクリレート（共）重合体、（メタ）アクリレートエステル（共）重合体、ポリメチルメタクリレートなどが挙げられる。
前記熱可塑性樹脂層に含まれる（メタ）アクリレート系樹脂は１３０℃以下、または１２５℃以下のガラス転移温度を有することができ、または１００℃～１２５℃のガラス転移温度を有することができる。
前記熱可塑性樹脂層は、前記偏光子の他の一面側に接着剤層を媒介として結合できる。前記接着剤層は、例えば、接着剤組成物を偏光子の一面に塗布し、乾燥、加熱または電磁波の照射などによって硬化させて形成することができる。前記接着剤層として使用できる具体的な種類は、硬化されて目的とする接着特性を発現することができるものであれば、特に制限されない。例えば、ポリビニルアルコール系接着剤；アクリル接着剤；ビニルアセテート系接着剤；ウレタン系接着剤；ポリエステル系接着剤；ポリオレフィン系接着剤；ポリビニルアルキルエーテル系接着剤；ゴム系接着剤；塩化ビニル－ビニルアセテート系接着剤；スチレン－ブタジエン－スチレン（ＳＢＳ）接着剤；スチレン－ブタジエン－スチレンの水素添加物（ＳＥＢＳ）系接着剤；エチレン系接着剤；およびアクリル酸エステル系接着剤などの一種または二種以上を使用することができる。前記のような接着剤層は、例えば、水系、溶剤型または無溶剤型接着剤組成物を硬化させて調製することができる。また、前記接着剤層は、熱硬化型、常温硬化型、湿気硬化型または光硬化型接着剤組成物を硬化した状態で含むことができる。また、前記接着剤層としては、水系ポリビニルアルコール系接着剤組成物；無溶剤型アクリル接着剤組成物；または無溶剤型ビニルアセテート系接着剤組成物を硬化した状態で含む接着剤層を使用することができる。
前記実施形態の偏光板は、偏光子を含む。前記偏光子は、当該技術分野によく知られた偏光子、例えば、ヨードまたは二色性染料を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなるフィルムを使用することができる。この時、前記偏光子はポリビニルアルコールフィルムにヨードまたは二色性染料を染着させ延伸して製造できるが、その製造方法は特に限定されない。
一方、前記偏光子がポリビニルアルコールフィルムである場合、ポリビニルアルコールフィルムは、ポリビニルアルコール樹脂またはその誘導体を含むものであれば特別な制限なく使用が可能である。この時、前記ポリビニルアルコール樹脂の誘導体としては、これに限定されないが、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂などが挙げられる。または、前記ポリビニルアルコールフィルムは当該技術分野において偏光子製造に一般に使用される市販されるポリビニルアルコールフィルム、例えば、クラレ社のＰ３０、ＰＥ３０、ＰＥ６０、日本合成社のＭ３０００、Ｍ６０００などを使用することができる。
一方、前記ポリビニルアルコールフィルムは、重合度が１０００～１００００または１５００～５０００であってもよいが、これらに限定されない。重合度が前記範囲を満足する時、分子動きが自由であり、ヨードまたは二色性染料などと柔軟に混合できる。また、前記偏光子は厚さが４０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、１～２０μｍ、または１μｍ～１０μｍであってもよい。この場合、前記偏光子を含む偏光板や画像表示装置などのデバイスの薄形軽量化が可能である。
前記偏光板は、前記偏光子と前記光学積層体の高分子基材の間に位置し０．１μｍ～５μｍの厚さを有する接着層；をさらに含むことができる。
前記接着層には、前記接着剤としては、当該技術分野で使用される多様な偏光板用接着剤、例えば、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、陽イオン系またはラジカル系接着剤などが制限なく使用できる。
発明の他の実施形態によれば、前述の光学積層体または偏光板を含むディスプレイ装置を提供することができる。
前記ディスプレイ装置の具体的な例は特に限定されないが、例えば、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ］）、プラズマディスプレイ装置、有機発光ダイオード装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などの装置であってもよい。
一つの一例として、前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスタ、カラーフィルタおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置であってもよい。
前記ディスプレイ装置で、前記光学積層体または偏光板は、ディスプレイパネルの観測者側またはバックライト側の最外殻表面に備えられてもよい。
また、他の一例として、前記ディスプレイ装置は、表示パネル；および前記表示パネルの少なくとも一面に位置する前記偏光板を含むことができる。
前記ディスプレイ装置は液晶パネルおよび前記液晶パネルの両面にそれぞれ備えられた光漢積層体を含む液晶表示装置であってもよく、この時、前記偏光板のうちの少なくとも一つが前述の本明細書の一実施状態による偏光子を含む偏光板であってもよい。
この時、前記液晶表示装置に含まれる液晶パネルの種類は特に限定されないが、例えば、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（ｓｕｐｅｒ ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）型、Ｆ（ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｉｃ）型またはＰＤ（ｐｏｌｙｍｅｒ ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ）型のような受動行列方式のパネル；２端子型（ｔｗｏ ｔｅｒｍｉｎａｌ）または３端子型（ｔｈｒｅｅ ｔｅｒｍｉｎａｌ）のような能動行列方式のパネル；横電界型（ＩＰＳ；Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）パネルおよび垂直配向形（ＶＡ；Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）パネルなどの公知のパネルが全て適用できる。
本発明によれば、高い明暗比および優れた像鮮明度を実現し高い耐摩耗性および耐スクラッチ性などの機械的物性を有する偏光板と、前記偏光板を含む液晶パネルおよびディスプレイ装置を提供することができる。
製造例１の光学積層体で確認される１００μｍ以上の微細突起（protrusion）をレーザ顕微鏡（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）で撮った写真である。 製造例１の光学積層体の断面ＴＥＭ写真を示したものである。 比較製造例２の光学積層体の断面ＴＥＭ写真を示したものである。
発明を下記の実施例でより詳細に説明する。但し、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定ない。
［製造例１～３および比較製造例１～３：光学積層体の製造］
（１）防眩層形成用コーティング組成物の製造
下記表１に記載された成分を混合して防眩層形成用コーティング組成物を製造した。
（２）光学積層体の製造
下記表１に記載された高分子基材上に前記製造された防眩層形成用コーティング液それぞれを＃１２番 ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングした後、４０℃の温度で２分乾燥し、ＵＶ硬化して防眩層（コーティング厚さは４μｍ）を形成した。ＵＶ硬化時、ＵＶランプはＨ ｂｕｌｂを用いて、窒素雰囲気下で硬化反応を行い、硬化時に照射されたＵＶ光量は１５０ｍＪ／ｃｍ２である。
Figure 0007391334000001
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリトリトールテトラアクリレート
ＵＡ－３０６Ｔ：ウレタンアクリレートであって、トルエンジイソシアネートとペンタエリトリトールトリアクリレートの反応物（Ｋｙｏｅｉｓｈａ製品）
Ｇ８１６１：光硬化型アクリレートポリマー（Ｍｗ～２００，０００、Ｓａｎ ｎｏｐｃｏ製品）
ＩＲＧ－１８４：開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４、Ｃｉｂａ社）
Ｔｅｇｏ－２７０：Ｔｅｇｏ社レベリング剤
ＢＹＫ３５０：ＢＹＫ社レベリング剤
ＸＸ－１０３ＢＱ（２．０μｍ ＲＩ１．５１５）：ポリスチレンとポリメチルメタクリレートの共重合粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ製品）
ＸＸ－１１３ＢＱ（２．０μｍ ＲＩ１．５５５）：ポリスチレンとポリメチルメタクリレートの共重合粒子（Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ製品）
ＭＡ－ＳＴ（３０％メタノール溶液）：大きさ１０～１５ｎｍのナノシリカ粒子がメチルアルコールに分散した分散液（Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製品）
ＥｔＯＨ：エタノール
ｎ－ＢＡ：ｎ－ブチルアセテート
２－ＢｕＯＨ：２－ブタノール
［実施例１～３および比較例１～３：偏光板の製造］
前記製造例および比較製造例それぞれで製造された光学積層体の高分子基材側にＵＶ接着剤を用いてポリビニルアルコール偏光子（厚さ：２５μｍ、製造会社：エルジー化学）を接合した。
そして、ＵＶ接着剤を用いて前記ポリビニルアルコール偏光子の他の一面に４０μｍ厚さのアクリレート樹脂フィルム（ＬＧ化学製品：４０μｍポリメチルメタクリレート基材）を接合して偏光板を製造した。
［実験例１～５：光学積層体の物性測定］
実験例１：光学積層体のヘイズ評価
前記製造例および比較製造例それぞれで得られた光学積層体から４ｃｍ×４ｃｍの試片を準備し、ヘイズ測定器（ＨＭ－１５０、Ａ光源、村上社）で３回測定して平均値を計算し、これを全体ヘイズ値として算出した。測定時、透光度とヘイズは同時に測定され、透光度はＪＩＳ Ｋ ７３６１規格、ヘイズはＪＩＳ Ｋ ７１３６規格によって測定した。
実験例２：像鮮明度（％）測定
前記製造例および比較製造例それぞれで得られた光学積層体に対してスガ試験機株式会社（Ｓｕｇａ Ｔｅｓｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．）のＩＣＭ－１Ｔを用いて像鮮明度を測定した。像鮮明度は、スリット幅０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、２ｍｍで測定して総合計で表示する。
実験例３：防眩層表面で凝集する微粒子の比率確認
前記製造例および比較製造例それぞれで得られた光学積層体から５０ｃｍ×５０ｃｍ（横×縦）に切断したサンプルを照度７００ｌｕｘのＬＥＤ照明下で黒色無光紙の上に下ろした。そして、前記サンプルフィルム表面基準にして光が７０度で入射されるようにフィルムを配置した後、光が反射される側から観察して周辺部より煌めきが強い微細突起を探した。
微細突起と確認される部分は直径５ｍｍの円で表示し、個数を数えて下記式によって突起数と突起面積比率を計算した。この時、突起数は下記一般式２で計算し、前記有機微粒子または無機微粒子の凝集体のうちのその大きさが直径１００μｍ以上である微細突起が前記防眩層の外部表面に形成される面積比率は下記一般式１で定義した。
［一般式１］
防眩層の一面中の微細突起が位置する領域の比率＝（微細突起の個数×５ｍｍの直径を有する円の面積）／防眩層の一面の面積（ｍｍ２）
上記一般式１での“５ｍｍの直径を有する円”は、前記微細突起が位置する領域と定義する。
［一般式２］
突起数（個／ｍ２）：５０ｃｍ×５０ｃｍで測定された個数×４
実験例４：断面測定
前記サンプルを０．５ｃｍ幅に切断して断面を取って、ミクロトーム技法を用いて断面サンプルを製作した。観察しようとする表面と断面を白金（Ｐｔ）でコーティングした後、ＳＥＭでコーティング層の厚さ、浸食層の厚さ、ゴム粒子の位置などを観察した。浸食層がよく示されない場合、断面サンプルの表面をマイクロ波でエッチングし、白金コーティングした後、観察して浸食層の厚さを確認した。
実験例５：耐スクラッチ性測定
耐スクラッチ測定機器（ＫＰＤ－３０１、Ｋｉｐａｅ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．）を用いてスチールウール（＃００００）に荷重をかけて幅２．５ｃｍ、長さ１３ｃｍの区間を２７ｒｐｍの速度で１０回往復しながら実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される１ｃｍ以下のスクラッチ一つ以下が観察される最大荷重を測定した。
Figure 0007391334000002
図２に示されているように、製造例１の光学積層体では前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層厚さの２５％以内に１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子が存在するという点が確認された。これに対し、図３で確認されるように、比較製造例２の光学積層体では前記高分子基材および前記防眩層の界面から前記防眩層厚さの９０％の範囲にまで１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子が存在するという点が確認された。
そして、前記表１に示されているように、製造例の光学積層体は高い耐スクラッチ性を有しながらも防眩性が実現できる水準のヘイズおよび高い像鮮明度を実現するという点が確認されるのに対し、比較製造例の光学積層体は低い水準の耐スクラッチ性や相対的に低い像鮮明度を示すという点が確認される。
［実施例４および比較例４および５：偏光板の製造］
実施例４
（１）低反射層形成用コーティング液（Ｃ）の製造
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１００ｇ、中空型シリカナノ粒子（直径範囲：約４２ｎｍ～６６ｎｍ、ＪＳＣ ｃａｔａｌｙｓｔ ａｎｄ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製品）２８３ｇ、ソリッド型シリカナノ粒子（直径範囲：約１２ｎｍ～１９ｎｍ）５９ｇ、第１含フッ素化合物（Ｘ－７１－１２０３Ｍ、ＳｈｉｎＥｔｓｕ社）１１５ｇ、第２含フッ素化合物（ＲＳ－５３７、ＤＩＣ社）１５．５ｇおよび開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １２７、Ｃｉｂａ社）１０ｇを、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）溶媒に固形分濃度３重量％になるように希釈して低反射層形成用コーティング液を製造した。
（２）偏光板の製造
前記実施例１で高分子基材上に前記防眩層を形成した以後に、前記低反射層形成用コーティング液（Ｃ）を＃４ ｍａｙｅｒ ｂａｒで厚さが約１１０～１２０ｎｍになるようにコーティングし、４０℃で１分間乾燥および硬化（２５２ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射）して低屈折層を形成した点を除いて、実施例１と同様な方法で偏光板を製造した。
比較例４
ＵＶ接着剤を用いてポリビニルアルコール偏光子（厚さ：１７μｍ、製造会社：エルジー化学）の一面にＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム（厚さ：６０μｍ）を接合し、前記ＴＡＣフィルム上に前記製造例１のコーティング液を＃１２番 ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングした後、４０℃の温度で２分間乾燥し、ＵＶ硬化して防眩層（コーティング厚さは４μｍ）を形成した。ＵＶ硬化時、ＵＶランプはＨ ｂｕｌｂを用いて、窒素雰囲気下で硬化反応を行い、硬化時照射されたＵＶ光量は１５０ｍＪ／ｃｍ２である。
そして、ＵＶ接着剤を用いて前記ポリビニルアルコール偏光子の他の一面に４０μｍ厚さのアクリレート樹脂フィルム（ＬＧ化学製品：４０μｍポリメチルメタクリレート基材）を接合して偏光板を製造した。
比較例５
ＵＶ接着剤を用いてポリビニルアルコール偏光子（厚さ：１７μｍ、製造会社：エルジー化学）の一面に６０μｍ厚さのＭＵＶアクリレート樹脂フィルム（ＬＧ化学製品、１００ｎｍ厚さのｐｒｉｍｅｒ層が一面に形成された６０μｍ厚さのアクリレートフィルム）を接合し、前記プライマー層上に前記製造例１のコーティング液を＃１２番 ｍａｙｅｒ ｂａｒでコーティングした後、４０℃の温度で２分乾燥し、ＵＶ硬化して防眩層（コーティング厚さは４μｍ）を形成した。ＵＶ硬化時、ＵＶランプはＨ ｂｕｌｂを用いて、窒素雰囲気下で硬化反応を行い、硬化時照射されたＵＶ光量は１５０ｍＪ／ｃｍ２である。
そして、ＵＶ接着剤を用いて前記ポリビニルアルコール偏光子の他の一面に４０μｍ厚さのアクリレート樹脂フィルムを接合して偏光板を製造した。
［実験例６：熱衝撃評価］
前記実施例４および比較例４および５で製造された偏光板をＴＶ用ガラス（横１２ｃｍ、縦１２ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）の一面に接合して熱衝撃および耐水性評価用サンプルを製造する。この時、偏光子のＭＤ方向が正四角形の一辺と平行に偏光板を裁断する。
そして、前記製造された偏光板と偏光板が接合された評価用サンプルに対して次のような条件で熱衝撃および耐水性実験を行って以下の事項について測定および確認した。
１）熱衝撃実験測定条件：
偏光板と評価用サンプルを熱衝撃チャンバーに垂直に立てておく。常温から８０℃に昇温して３０分間放置し、以後温度を－３０℃に下げて３０分間放置後、常温に温度調節することを１サイクルにして総１００サイクルを繰り返した。
２）頂点浮き上がり（ｍｍ）、１０×１０／ｆｉｌｍ単品
前記偏光板サンプルの四つの頂点を観察してコーティング層と偏光子の間の浮き上がり、偏光子と保護フィルムの間の剥離、ハードコーティングと粘着層間の剥離と撓みを観察する。浮き上がりが発生して撓みが現れる場合、扁平に床に置いた状態で床から撓んだ高さを測定して平均を求めた。
３）耐水性実験
裁断した試片をガラス基板（ｓｏｄａ ｌｉｍｅ ｇｌａｓｓ）に付着してサンプルを製造した。その次に、製造されたサンプルを６０℃の温度の水に投入し、２４時間放置した後に取り出して気泡または剥離の発生有無を観察して、下記基準にして耐水性を評価した。耐水性の測定直前に製造されたサンプルを常温で２４時間放置し、評価を行った。評価条件は下記の通りである。
Ｘ：コーティング層と基材層および接着剤層と粘着剤層の界面で気泡および剥離発生無い
△：コーティング層と基材層および接着剤層と粘着剤層の界面で気泡および／または剥離若干発生
Ｏ：コーティング層と基材層および接着剤層と粘着剤層の界面で気泡および／または剥離多量発生
Figure 0007391334000003
上記表３に示されているように、実施例４の偏光板は製造過程で６０℃以上の温度が加えられる場合にも細部層間の熱収縮率などが抑制され、偏光板の撓みバランス（ｂａｌａｎｃｅ）も良好であり水に長時間露出されても高い安定性を有するという点も確認されて、熱と水に露出される外部環境に長時間放置されても偏光板のクラックを防止することができ、液晶表示装置の光漏れ現象を防止することができることが確認された。
これに対し、比較例４および比較例５それぞれの偏光板は前記熱衝撃評価および耐水性評価結果、耐熱性および耐水性が脆弱であるという点が確認された。
１ 高分子基材
２ 防眩層
３ ゴム粒子
４ 高分子基材および防眩層の界面
５ 防眩層の表面
６ 高分子基材および防眩層の界面からゴム粒子が存在する最大範囲

Claims (10)

  1. 偏光子；
    前記偏光子の一面側に形成され、高分子基材と防眩層を含む光学積層体；および
    前記偏光子の他の一面側に形成され、（メタ）アクリレート系樹脂を含む熱可塑性樹脂層；を含み、
    前記高分子基材は、高分子樹脂および前記高分子樹脂に分散した１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子を含み、
    前記防眩層は、バインダー樹脂および前記バインダー上に分散している有機微粒子または無機微粒子を含み、
    前記防眩層は、前記バインダー樹脂１００重量部に対して前記有機微粒子または無機微粒子を１～１０重量部を含み、
    前記ゴム粒子は、前記高分子基材および前記防眩層の界面から防眩層側に前記防眩層の厚さの７５％以内にのみ存在し、
    前記有機微粒子または無機微粒子が凝集して形成される直径１００μｍ～３００μｍである微細突起が前記防眩層の外部表面に存在する比率が１個以上５０個／ｍ２以下であり、前記微細突起の直径は、前記防眩層の表面での前記防眩層の表面に平行な方向への断面幅で決定され、
    下記一般式１で定義される防眩層の一面中の前記微細突起が位置する領域の比率が０．５面積％以下である、
    偏光板。
    ［一般式１］
    防眩層の一面中の前記微細突起が位置する領域の比率＝（微細突起の個数×５ｍｍの直径を有する円の面積）／防眩層の一面の面積（ｍｍ ２ ）
    上記一般式１での“５ｍｍの直径を有する円”は、前記微細突起が位置する領域と定義する。
  2. 前記高分子樹脂は、（メタ）アクリレート樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、およびポリエステル樹脂からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１に記載の偏光板。
  3. 前記ゴム粒子は、スチレン系ゴム、ブタジエン系ゴム、スチレン－ブタジエン系ゴム、およびアクリル系ゴムからなる群より選択された１種以上のゴムを含む、請求項１又は２に記載の偏光板。
  4. 前記高分子基材は、１０～１５０μｍの厚さを有し、
    前記防眩層は、１～１０μｍの厚さを有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の偏光板。
  5. 前記高分子基材の厚さに対する前記防眩層の厚さの比率が０．００８～０．８である、請求項１～４のいずれか一項に記載の偏光板。
  6. 前記熱可塑性樹脂層は、１０μｍ～８０μｍの厚さを有する、請求項１～５のいずれか一項に記載の偏光板。
  7. 前記高分子基材の厚さに対する前記熱可塑性樹脂層の厚さの比率が０．３～２．０である、請求項１～６のいずれか一項に記載の偏光板。
  8. 前記高分子基材は、前記高分子樹脂１００重量部に対して１０～５００ｎｍの断面直径を有するゴム粒子５～５０重量部を含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の偏光板。
  9. ４０℃、湿度１００％条件で２４時間測定した前記高分子基材の水分透過量が１５０ｇ／ｍ２以下である、請求項１～８のいずれか一項に記載の偏光板。
  10. 請求項１～９のいずれか一項の偏光板を含むディスプレイ装置。
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