JP7386624B2 - 保持装置および保持装置の製造方法 - Google Patents
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A-1.加熱装置100の構成:
図1は、本実施形態における加熱装置100の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、本実施形態における加熱装置100のYZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、本実施形態における加熱装置100のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。また、図4は、本実施形態における加熱装置100のXY断面構成を概略的に示す説明図である。なお、図2には、図1および図4のII-IIの位置における加熱装置100のYZ断面構成が示されており、図3には、図1および図4のIII-IIIの位置における加熱装置100のXZ断面構成が示されている。また、図4には、図2および図3のIV-IVの位置における加熱装置100のXY断面構成が示されている。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、加熱装置100は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。また、本明細書では、Z軸方向に直交する方向を面方向というものとする。加熱装置100は、特許請求の範囲における保持装置に相当する。
図3および図4に示すように、保持体10の内部には、ガス流路14が形成されている。ガス流路14は、ヒータ電極50に対して裏面S2側に形成されており、保持体10の裏面S2に開口するガス導入口IGと、互いに略同径であり、保持体10の内側部IPにおける側面S4にそれぞれ開口する3つのガス吹出口OG、とに連通している。ガス流路14、ガス導入口IGおよびガス吹出口OGのそれぞれの径は、例えば0.4mm以上、4mm以下程度である。
図3および図4に示すように、保持体10(具体的には、内側部IP)の内部には、孔16が形成されている。孔16は、ヒータ電極50に対して裏面S2側に形成されており、かつ、Z軸方向において、ガス流路14の内の横流路14aと同じ位置に配置されている。すなわち、孔16は、横流路14aと同様に、面方向に延びる空間である。また、Z軸方向視における保持体10の内側部IPにおいて、孔16は、ガス流路14(特には、横流路14a)と重ならない領域(以下、「非重複領域An」ともいう)に形成されている。また、本実施形態において、孔16は、1つの横流路14aに対して、それぞれ2つの外側孔16aと内側孔16bとが連通している。外側孔16aの一方の端部E1は横流路14aに連通しており、かつ、他方の端部E2は袋小路状となっている。すなわち、他方の端部E2は、直接的におよび間接的に、保持体10の外部に連通していない。内側孔16bについても、外側孔16aと同様に、一方の端部は横流路14aに連通しており、かつ、他方の端部は袋小路状となっている。
次に、第1実施形態における加熱装置100の製造方法について説明する。図5は、第1実施形態における加熱装置100の製造方法を示すフローチャートである。また、図6は、第1実施形態における加熱装置100の製造方法の概要を示す説明図である。
以上説明したように、本実施形態の加熱装置100は、保持面S11を有する板状であり、内部に、保持体10の裏面S2に開口するガス導入口IGと、側面S4に開口するガス吹出口OGとに連通するガス流路14が形成された保持体10、を備え、保持体10の保持面S11上に半導体ウェハWといった対象物を保持する加熱装置100である。本実施形態の加熱装置100は、さらに、保持体10(具体的には、内側部IP)の内部に、Z軸方向視において、ガス流路14と重ならない領域(非重複領域An)に孔16が形成されている。当該孔16(例えば、外側孔16a)は、一方の端部E1が、ガス流路14(特には、横流路14a)に連通し、かつ、他方の端部E2が、直接的にまたは間接的に、保持体10の外部に連通していない。本実施形態の加熱装置100では、孔16が非重複領域Anに形成されているため、Z軸方向視において、保持面S11のうち、非重複領域Anにおける、保持体10と半導体ウェハWとの間の伝熱性を、ガス流路14と重なる領域における当該伝熱性に近づけることができる。また、孔16(例えば、外側孔16a)の一方の端部E1は、ガス流路14(特には、横流路14a)に連通しているため、孔16の内部を、ガス流路14の内部と同様の雰囲気下とすることができる。一方、孔16の他方の端部E2は、直接的にまたは間接的に、保持体10の外部に連通していない。換言すれば、孔16の他方の端部E2は、袋小路状である。このため、孔16が、ガス流路14におけるガス吹出口OGからのガス吹出量へ影響を及ぼすことを抑制することができる。従って、本実施形態の加熱装置100によれば、ガス流路14のガス吹出口OGにおけるガス吹出量に影響を与えることなく、保持体10における内側部IPの保持面S11上の温度分布のばらつきを低減することができる。
図7は、第2実施形態の加熱装置100Aの構成を概略的に示す説明図である。図7には、上述した図4の断面に対応する第2実施形態の加熱装置100AのXY断面構成が示されている。以下では、第2実施形態の加熱装置100Aの構成の内、上述した第1実施形態の加熱装置100の構成と同一の構成については、同一の符号を付すことによってその説明を適宜省略する。
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
Claims (6)
- 第1の方向に略垂直な第1の表面と、前記第1の表面に対向する第2の表面と、側面と、を有する板状の保持体であって、内部に、前記保持体の表面に開口するガス導入口と前記保持体の前記側面に開口するガス吹出口とに連通するガス流路が形成された保持体、
を備え、前記保持体の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、
前記保持体の内部に、前記第1の方向視において、前記ガス流路と重ならない領域に形成された孔であって、前記孔の一方の端部が、前記ガス流路に連通し、かつ、前記孔の他方の端部が、直接的にまたは間接的に、前記保持体の外部に連通していない孔が形成されている、
ことを特徴とする保持装置。 - 第1の方向に略垂直な第1の表面と、前記第1の表面に対向する第2の表面と、側面と、を有する板状の保持体であって、内部に、前記保持体の前記第2の表面に開口するガス導入口と前記保持体の前記側面に開口するガス吹出口とに連通するガス流路が形成された保持体、
を備え、前記保持体の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、
前記保持体の内部に、前記第1の方向視において、前記ガス流路と重ならない領域に形成された孔であって、前記孔の一方の端部が、前記保持体の前記側面に開口し、かつ、前記孔の他方の端部が、前記ガス流路に連通していない孔が形成されている、
ことを特徴とする保持装置。 - 請求項2に記載の保持装置において、
前記孔の他方の端部は、前記保持体の表面に開口している、
ことを特徴とする保持装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記第1の方向視において、前記第1の表面の面積に占める前記ガス流路と前記孔との面積の比率と、前記第1の表面を、前記第1の表面の中心を基点として、外縁方向に前記ガス吹出口の数で仮想的に等分したときに形成される各分割領域の各面積に占める各前記分割領域に重なる領域に形成された前記ガス流路と前記孔との面積の比率とは、略同一である、
ことを特徴とする保持装置。 - 第1の方向に略垂直な第1の表面と、前記第1の表面に対向する第2の表面と、側面と、を有する板状の保持体であって、内部に、前記保持体の前記第2の表面に開口するガス導入口と前記保持体の前記側面に開口するガス吹出口とに連通するガス流路と、前記第1の方向視において、前記ガス流路と重ならない領域に形成された孔であって、前記孔の一方の端部が、前記ガス流路に連通し、かつ、前記孔の他方の端部が、直接的にまたは間接的に、前記保持体の外部に連通していない孔と、が形成された保持体、を備え、
前記保持体の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置の製造方法において、
前記ガス流路と、前記孔とを形成する溝部が形成された、熱処理前の前記保持体である積層体を準備する第1の工程と、
前記積層体を熱処理する第2の工程と、
を備える、ことを特徴とする保持装置の製造方法。 - 第1の方向に略垂直な第1の表面と、前記第1の表面に対向する第2の表面と、側面と、を有する板状の保持体であって、内部に、前記保持体の前記第2の表面に開口するガス導入口と前記保持体の前記側面に開口するガス吹出口とに連通するガス流路と、前記第1の方向視において、前記ガス流路と重ならない領域に形成された孔であって、前記孔の一方の端部が、前記保持体の前記側面に開口し、かつ、前記孔の他方の端部が、前記ガス流路に連通していない孔と、が形成された保持体、を備え、
前記保持体の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置の製造方法において、
前記ガス流路と、前記孔とを形成する溝部が形成された、熱処理前の前記保持体である積層体を準備する工程と、
前記積層体を熱処理する工程と、
を備える、ことを特徴とする保持装置の製造方法。
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