JP7375633B2 - 下引き層、下引き層の製造方法、電子写真感光体、及び画像形成装置 - Google Patents
下引き層、下引き層の製造方法、電子写真感光体、及び画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7375633B2 JP7375633B2 JP2020045210A JP2020045210A JP7375633B2 JP 7375633 B2 JP7375633 B2 JP 7375633B2 JP 2020045210 A JP2020045210 A JP 2020045210A JP 2020045210 A JP2020045210 A JP 2020045210A JP 7375633 B2 JP7375633 B2 JP 7375633B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- layer
- carbon atoms
- undercoat layer
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 title claims description 210
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 375
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 106
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 88
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 88
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 78
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 73
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 63
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 56
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 48
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 45
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 41
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 32
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 28
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 27
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 26
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 25
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 25
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 23
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 20
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 94
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 52
- -1 2-ethylpropyl group Chemical group 0.000 description 37
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 22
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 21
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 10
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical group [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- QIUGUNHEXAZYIY-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroacridine Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3N=C21 QIUGUNHEXAZYIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CLQYLLIGYDFCGY-UHFFFAOYSA-N 4-(2-anthracen-9-ylethenyl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=C(C=CC=C2)C2=CC2=CC=CC=C12 CLQYLLIGYDFCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPHMISFOHDHNIV-FSZOTQKASA-N cycloheximide Chemical compound C1[C@@H](C)C[C@H](C)C(=O)[C@@H]1[C@H](O)CC1CC(=O)NC(=O)C1 YPHMISFOHDHNIV-FSZOTQKASA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005919 1,2,2-trimethylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005927 1,2,2-trimethylpropyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005926 1,2-dimethylbutyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005923 1,2-dimethylpropyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroanthracene-9,10-dione Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3C(=O)C2=C1 NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQGWMEKAPOBYFV-UHFFFAOYSA-N 1,5,7-trinitrothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C(=O)C3=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C3SC2=C1 WQGWMEKAPOBYFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJVBYWCDGKXHKK-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,2-n,2-n-tetraphenylbenzene-1,2-diamine Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C(=CC=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IJVBYWCDGKXHKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCANAXVBJKNANM-UHFFFAOYSA-N 1-nitroanthracene-9,10-dione Chemical class O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] YCANAXVBJKNANM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTECWVALCNVZFJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,6-tetranitrofluoren-9-one Chemical class O=C1C2=CC=C([N+]([O-])=O)C([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O BTECWVALCNVZFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBPKDMJTHQCFNY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-amino-2-phenylethenyl)phenyl]-1-phenylethenamine Chemical class NC(=CC1=C(C=CC=C1)C=C(N)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 JBPKDMJTHQCFNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003858 2-ethylbutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])O*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005924 2-methylpentyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- GEKJEMDSKURVLI-UHFFFAOYSA-N 3,4-dibromofuran-2,5-dione Chemical compound BrC1=C(Br)C(=O)OC1=O GEKJEMDSKURVLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxycyclobut-2-en-1-one Chemical compound OC1=CC(=O)C1 IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001331 3-methylbutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005925 3-methylpentyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000439 4-methylpentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYPMAZCBFKBIFK-UHFFFAOYSA-N 9,10-dinitroanthracene Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=C(C=CC=C3)C3=C([N+]([O-])=O)C2=C1 XYPMAZCBFKBIFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000656145 Thyrsites atun Species 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical compound [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N anthanthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4C=CC=C5C(=O)C6=CC=C1C2=C6C3=C54 PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical class N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000003427 indacenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical class N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M molport-000-691-708 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[Ga](Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- BYPNIFFYJHKCFO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-(2-phenyl-1,3-dihydropyrazol-5-yl)aniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=CCN(C=2C=CC=CC=2)N1 BYPNIFFYJHKCFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- UDJWHGNSQWLKGR-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-[5-[4-(methylamino)phenyl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(NC)=CC=2)O1 UDJWHGNSQWLKGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000012255 powdered metal Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004882 thiopyrans Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000001651 triphenylamine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
- G03G5/144—Inert intermediate layers comprising inorganic material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
- G03G21/0005—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
- G03G21/0058—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using a roller or a polygonal rotating cleaning member; Details thereof, e.g. surface structure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/056—Polyesters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0564—Polycarbonates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0609—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0612—Acyclic or carbocyclic compounds containing nitrogen
- G03G5/0614—Amines
- G03G5/06142—Amines arylamine
- G03G5/06145—Amines arylamine triamine or greater
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0618—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen and nitrogen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0624—Heterocyclic compounds containing one hetero ring
- G03G5/0627—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered
- G03G5/0631—Heterocyclic compounds containing one hetero ring being five-membered containing two hetero atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0666—Dyes containing a methine or polymethine group
- G03G5/0668—Dyes containing a methine or polymethine group containing only one methine or polymethine group
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0666—Dyes containing a methine or polymethine group
- G03G5/0668—Dyes containing a methine or polymethine group containing only one methine or polymethine group
- G03G5/067—Dyes containing a methine or polymethine group containing only one methine or polymethine group containing hetero rings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0675—Azo dyes
- G03G5/0677—Monoazo dyes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/00953—Electrographic recording members
- G03G2215/00957—Compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
MM+MB+MT=100 ・・・(2)
30≦MM≦90 ・・・(3)
5≦MB≦50 ・・・(4)
5≦MT≦50 ・・・(5)
本発明の第1実施形態は、下引き層に関する。第1実施形態に係る下引き層は、金属粒子と、ポリアミド樹脂とを含有する。
以下、図1及び図2を参照して、下引き層に含有される金属粒子21の構造について説明する。図1に示す金属粒子21は、コア22と、コート層23とを有する。コート層23は、コア22の表面の少なくとも一部を覆う。コア22は、例えば、粒子状である。図1に示すように、コート層23は、コア22の表面の全体に備えられてもよい。即ち、コート層23は、コア22の表面全体を覆っていてもよい。また、図2に示すように、コート層23は、コア22の表面の一部に備えられてもよい。即ち、コート層23は、コア22の表面の一部を覆っていてもよい。以上、図1及び図2を参照して、下引き層に含有される金属粒子21の構造について説明した。
下引き層に含有されるポリアミド樹脂は、アミド結合と、アルキレン基とを有する。赤外分光法により測定される、アミド結合に由来する第1ピークの第1吸光度(A1)に対する、アルキレン基に由来する第2ピークの第2吸光度(A2)の吸光度比率(A2/A1)は、0.70以上である。第1ピークは、波数1620cm-1以上1680cm-1以下の範囲における最大ピークである。第2ピークは、波数2900cm-1以上2970cm-1以下の範囲における最大ピークである。
|CHH-CLL|≦10V ・・・(1)
本発明の第2実施形態は、下引き層の製造方法に関する。第2実施形態に係る下引き層の製造方法は、下引き層形成工程を含む。下引き層形成工程において、塗布液(以下、下引き層用塗布液と記載することがある)を、被塗布体に塗布して乾燥させることにより、第1実施形態に係る下引き層を形成する。被塗布体は、例えば、第3実施形態で後述する導電性基体である。塗布液は、第1実施形態で述べた金属粒子と、第1実施形態で述べたポリアミド樹脂と、溶剤とを含有する。
MM+MB+MT=100 ・・・(2)
30≦MM≦90 ・・・(3)
5≦MB≦50 ・・・(4)
5≦MT≦50 ・・・(5)
本発明の第3実施形態は、感光体に関する。第3実施形態に係る感光体は、導電性基体と、感光層と、第1実施形態で述べた下引き層とを備える。下引き層は、導電性基体と感光層との間に備えられる。感光体が第1実施形態に係る下引き層を備えることから、第1実施形態で述べたのと同じ理由により、第3実施形態に係る感光体は、耐圧性に優れ、湿度による感度特性の変動を抑制できる。
以下、図3及び図4を参照して、単層型感光体1について説明する。図3及び図4は、各々、第3実施形態に係る感光体の一例である単層型感光体1の部分断面図である。
次に、図5~図7を参照して、積層型感光体10について説明する。図5~図7は、各々、第3実施形態に係る感光体の一例である積層型感光体10の部分断面図である。
感光層(詳しくは、電荷発生層、又は単層型感光層)は、例えば、電荷発生剤を含有する。電荷発生剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、無金属ナフタロシアニン顔料、金属ナフタロシアニン顔料、スクアライン顔料、インジゴ顔料、アズレニウム顔料、シアニン顔料、無機光導電材料(例えば、セレン、セレン-テルル、セレン-ヒ素、硫化カドミウム又はアモルファスシリコン)の粉末、ピリリウム顔料、アンサンスロン系顔料、トリフェニルメタン系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系顔料、及びキナクリドン系顔料が挙げられる。
感光層(詳しくは、電荷輸送層、又は単層型感光層)は、例えば、バインダー樹脂を含有する。バインダー樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び光硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体、スチレン-アクリロニトリル共重合体、スチレン-マレイン酸共重合体、アクリル酸重合体、スチレン-アクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、及びポリエーテル樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、及びメラミン樹脂が挙げられる。光硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ化合物のアクリル酸付加物、及びウレタン化合物のアクリル酸付加物が挙げられる。
感光層(詳しくは、電荷発生層)は、例えば、ベース樹脂を含有する。ベース樹脂の例は、既に述べたバインダー樹脂の例と同じである。電荷発生層及び電荷輸送層を良好に形成するために、電荷発生層に含有されるベース樹脂は、電荷輸送層に含有されるバインダー樹脂と異なることが好ましい。
感光層(詳しくは、単層型感光層)は、例えば、電子輸送剤を含有する。電子輸送剤としては、例えば、キノン系化合物、ジイミド系化合物、ヒドラゾン系化合物、マロノニトリル系化合物、チオピラン系化合物、トリニトロチオキサントン系化合物、3,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン系化合物、ジニトロアントラセン系化合物、ジニトロアクリジン系化合物、テトラシアノエチレン、2,4,8-トリニトロチオキサントン、ジニトロベンゼン、ジニトロアクリジン、無水コハク酸、無水マレイン酸、及びジブロモ無水マレイン酸が挙げられる。キノン系化合物としては、例えば、ジフェノキノン系化合物、アゾキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、ニトロアントラキノン系化合物、及びジニトロアントラキノン系化合物が挙げられる。
感光層(詳しくは、電荷輸送層、又は単層型感光層)は、例えば、正孔輸送剤を含有する。正孔輸送剤としては、例えば、トリフェニルアミン誘導体、ジアミン誘導体(例えば、N,N,N’,N’-テトラフェニルベンジジン誘導体、N,N,N’,N’-テトラフェニルフェニレンジアミン誘導体、N,N,N’,N’-テトラフェニルナフチレンジアミン誘導体、N,N,N’,N’-テトラフェニルフェナントリレンジアミン誘導体、及びジ(アミノフェニルエテニル)ベンゼン誘導体)、オキサジアゾール系化合物(例えば、2,5-ジ(4-メチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール)、スチリル系化合物(例えば、9-(4-ジエチルアミノスチリル)アントラセン)、カルバゾール系化合物(例えば、ポリビニルカルバゾール)、有機ポリシラン化合物、ピラゾリン系化合物(例えば、1-フェニル-3-(p-ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン)、ヒドラゾン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、及びトリアゾール系化合物が挙げられる。
感光層(詳しくは、電荷発生層、電荷輸送層、又は単層型感光層)は、必要に応じて、添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、1重項消光剤、紫外線吸収剤、軟化剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワックス、ドナー、界面活性剤、可塑剤、増感剤、電子アクセプター化合物、及びレベリング剤が挙げられる。
感光体が単層型感光層である場合、感光体の耐圧性を向上させ、湿度による感光体の感度特性の変動を抑制するために、下引き層が含有するポリアミド樹脂及び金属粒子、並びに単層型感光層が含有する正孔輸送剤、電子輸送剤、及びポリアリレート樹脂が、表1に示す組み合わせNo.S1~S16の各々であることが好ましい。同じ理由から、下引き層が含有するポリアミド樹脂及び金属粒子、並びに単層型感光層が含有する正孔輸送剤、電子輸送剤、及びポリアリレート樹脂が、表1に示す組み合わせNo.S1~S16の各々であり、下引き層が含有する金属粒子のコート層がシリカを更に含有していることが好ましい。同じ理由から、下引き層が含有するポリアミド樹脂及び金属粒子、並びに単層型感光層が含有する正孔輸送剤、電子輸送剤、及びポリアリレート樹脂が、表1に示す組み合わせNo.S1~S16の各々であり、電荷発生剤がY型チタニルフタロシアニンであることが好ましい。
導電性基体は、感光体の導電性基体として用いることができる限り、特に限定されない。導電性基体は、少なくとも表面部が導電性を有する材料で構成されていればよい。導電性基体の一例としては、導電性を有する材料で構成される導電性基体が挙げられる。導電性基体の別の例としては、導電性を有する材料で被覆される導電性基体が挙げられる。導電性を有する材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅、錫、白金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼、及び真鍮が挙げられる。これらの導電性を有する材料を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて(例えば、合金として)用いてもよい。これらの導電性を有する材料のなかでも、感光層から導電性基体への電荷の移動が良好であることから、アルミニウム及びアルミニウム合金が好ましい。
感光体の製造方法は、導電性基体上に下引き層を形成する下引き層形成工程と、下引き層上に感光層を形成する感光層形成工程とを含む。
本発明の第4実施形態は、画像形成装置に関する。以下、図8を参照しながら、第4実施形態に係る画像形成装置の一例について説明する。
実施例及び比較例に係る下引き層(UCL-1)~(UCL-6)を製造した。下引き層(UCL-1)~(UCL-6)の構成を、表3に示す。
金属粒子(MT-05):テイカ株式会社製「MT-05」(構成:酸化チタンコアと、酸化チタンコアを覆うコート層(アルミナとシリカとにより構成される層)とを有する粒子。金属粒子の最表面に存在する材料:アルミナ及びシリカ。数平均一次粒径:10nm。)
金属粒子(S-1):三菱マテリアル電子化成株式会社製「S-1」(構成:表面処理されていない酸化スズ粒子。)
金属粒子(SMT-A):テイカ株式会社製「SMT-A」(構成:酸化チタンコアと、酸化チタンコアを覆う第1コート層(アルミナとシリカとにより構成される層)と、第1コート層を覆う第2コート層(メチルハイドロジェンポリシロキサンにより構成される層)とを有する粒子。金属粒子の最表面に存在する材料:メチルハイドロジェンポリシロキサン。数平均一次粒径:10nm。)
ポリアミド樹脂(PA201):株式会社T&K TOKA製「PA201」
ポリアミド樹脂(PA100):株式会社T&K TOKA製「PA100」
ポリアミド樹脂(CM4000):東レ株式会社製「アミラン(登録商標)CM4000」
ポリアミド樹脂(CM8000):東レ株式会社製「アミラン(登録商標)CM8000」
金属粒子(MT-05)2.5質量部と、ポリアミド樹脂(PA201)1.0質量部と、溶剤10.0質量部とを、ビーズミルを用いて24時間混合して、下引き層用塗布液を得た。溶剤は、メタノール8.0質量部、ブタノール1.0質量部、及びトルエン1.0質量部を混合した混合溶剤であった。目開き5μmのフィルターを用いて、得られた下引き層用塗布液をろ過した。ディップコート法により、導電性基体(アルミニウム製のドラム状支持体)の表面に、下引き層用塗布液を塗布し、120℃で30分間乾燥させた。このようにして、導電性基体上に、下引き層(UCL-1)を形成した。下引き層(UCL-1)の膜厚は、2μmであった。
ポリアミド樹脂(PA201)を、表3に示す種類のポリアミド樹脂に変更したこと以外は、下引き層(UCL-1)と同じ方法により、下引き層(UCL-2)~(UCL-4)の各々を製造した。なお、これらの下引き層の製造におけるポリアミド樹脂の添加量は、下引き層(UCL-1)と同じ1.0質量部であった。
金属粒子(MT-05)を、表3に示す種類の金属粒子に変更したこと以外は、下引き層(UCL-1)と同じ方法により、下引き層(UCL-5)~(UCL-6)の各々を製造した。なお、これらの下引き層の製造における金属粒子の添加量は、下引き層(UCL-1)と同じ2.5質量部であった。
<ポリアミド樹脂の吸光度の測定>
フーリエ変換赤外分光光度計(PerkinElmer社製「SPECTRUMONE」)を用いて、ATR測定モードにより、温度23℃且つ相対湿度50%の環境下で、ポリアミド樹脂の吸光度を測定した。測定条件は、以下に示す通りであった。
アタッチメント:ATRアクセサリー(Pike Technology社製「MIRacle(登録商標)」)
光学結晶:Ge
分解能:4cm-1
積算回数:16回
ポリアミド樹脂の吸水率の測定は、温度23℃且つ相対湿度50%の環境下で行った。30gのイオン交換水を入れた容量70mLの容器に、0.5gのポリアミド樹脂を入れ、イオン交換水に96時間浸漬させた。なお、浸漬中にイオン交換水の攪拌は実施しなかった。96時間浸漬後、イオン交換水からポリアミド樹脂を取り出した。第1不織布及び第2不織布(何れも、クラレクラフレックス株式会社製「製品名:クラクリーン(登録商標)ワイパー SF-20C」、サイズ:200mm×250mm、材質:レーヨンポリエステル)を準備した。水平な台の上に第1不織布を置き、第1不織布上にイオン交換水から取り出した直後のポリアミド樹脂を置き、ポリアミド樹脂の上に第2不織布を置き、第2不織布上に重り(重量:500g、第2不織布との接触面のサイズ:100mm×140mm)を置き、1分間静置した。次いで、1分間静置後のポリアミド樹脂の質量を測定し、水浸漬後のポリアミド樹脂の質量(単位:g)とした。水浸漬前のポリアミド樹脂の質量0.5gと、水浸漬後のポリアミド樹脂の質量とから、式「吸水率=100×(水浸漬後のポリアミド樹脂の質量-水浸漬前のポリアミドの質量)/水浸漬後のポリアミド樹脂の質量=100×(水浸漬後のポリアミド樹脂の質量-0.5)/水浸漬後のポリアミド樹脂の質量」から、ポリアミド樹脂の吸水率(単位:質量%)を算出した。各ポリアミド樹脂の吸水率を、上記表3に示す。
下引き層の体積抵抗率の測定は、温度23℃且つ相対湿度50%の環境下で行った。測定試料として、上記[下引き層の製造]において製造した、下引き層を備えた導電性基体を使用した。なお、この測定試料は、感光層を備えていなかった。下引き層の外周面に、第1電極(半径5.5mmの円形状の銀電極、化研テック株式会社製「TK PASTE(登録商標)CN-7120」)を取り付けた。導電性基体の内周面に、第2電極(半径5.5mmの円形状の銀電極、化研テック株式会社製「TK PASTE(登録商標)CN-7120」)を取り付けた。第1電極と、電圧印加装置(トレック社製「MODEL677B」)とを接続した。第2電極と、アースとを、電流計(KEITHLEY社製「MODEL485」)を介して接続した。電圧印加装置を用いて、第1電極に、電圧(+10V)を印加した。そして、電圧印加から3秒後に、第1電極と第2電極との間に流れた電流値を、電流計を用いて測定した。下記式(6)から、下引き層の体積抵抗率ρV(単位:Ω・cm)を算出した。各下引き層の体積抵抗率を、上記表3に示す。
ρV=RV×(S/L)=(V/I)×(S/L)・・・(6)
式(6)中、ρVは下引き層の体積抵抗率を示し、RVは下引き層の抵抗値を示し、Sは下引き層の断面積を示し、Lは下引き層の長さを示し、Vは第1電極と第2電極との間に印加された電圧を示し、Iは測定された電流値を示す。この測定において、Sは0.238cm2であり、Lは0.0002cmであった。
下引き層の帯電電位差の測定試料として、上記[下引き層の製造]において製造した、下引き層を備える導電性基体を使用した。なお、この測定試料は、感光層を備えていなかった。コロトロン帯電器を備えるドラム感度試験機(ジェンテック株式会社製)に、測定試料をセットした。
<単層型感光体の製造>
実施例及び比較例に係る単層型感光体(A-1)~(A-5)及び(B-1)~(B-4)を製造した。単層型感光体(A-1)~(A-5)及び(B-1)~(B-4)の構成を、後述する表4に示す。
棒状音波発振子を用いて、電荷発生剤であるY型チタニルフタロシアニン2質量部、正孔輸送剤(H-1)70質量部、電子輸送剤(E-1)50質量部、及びバインダー樹脂であるポリアリレート樹脂(R-1)100質量部を、溶剤であるテトラヒドロフラン500質量部に20分間分散させて、単層型感光層用塗布液を得た。目開き5μmのフィルターを用いて、得られた単層型感光層用塗布液をろ過した。ディップコート法により、上記[下引き層の製造]において製造した下引き層(UCL-1)上に、単層型感光層用塗布液を塗布し、120℃で50分間乾燥させた。このようにして、下引き層(UCL-1)上に単層型感光層(膜厚33μm)を形成し、単層型感光体(A-1)を得た。単層型感光体(A-1)において、導電性基体上に下引き層(UCL-1)が、下引き層(UCL-1)上に単層型感光層が備えられていた。
電子輸送剤(E-1)を、表4に示す種類の電子輸送剤に変更したこと以外は、単層型感光体(A-1)と同じ方法により、単層型感光体(A-2)~(A-4)の各々を製造した。なお、これらの単層型感光体の製造における電子輸送剤の添加量は、単層型感光体(A-1)と同じ50質量部であった。
下引き層(UCL-1)を、表4に示す下引き層に変更したこと以外は、単層型感光体(A-1)と同じ方法により、単層型感光体(A-5)及び(B-1)~(B-4)の各々を製造した。なお、表4に示す各下引き層は、上記[下引き層の製造]において製造された。
実施例及び比較例に係る積層型感光体(C-1)~(C-5)及び(D-1)~(D-4)を製造した。積層型感光体(C-1)~(C-5)及び(D-1)~(D-4)の構成を、後述する表5に示す。
上記[下引き層の製造]において製造した下引き層(UCL-1)上に、電荷発生層を形成した。詳しくは、電荷発生剤であるY型チタニルフタロシアニン1.5質量部と、ベース樹脂であるポリビニルアセタール樹脂(積水化学工業株式会社製「エスレックKX-5」)1.0質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル40.0質量部と、テトラヒドロフラン40.0質量部とを、ビーズミルを用いて6時間混合して、電荷発生層用塗布液を得た。目開き3μmのフィルターを用いて、電荷発生層用塗布液をろ過した。ディップコート法により、ろ過後の電荷発生層用塗布液を下引き層(UCL-1)上に塗布し、70℃で20分間乾燥させた。このようにして、下引き層(UCL-1)上に電荷発生層(膜厚0.3μm)を形成した。
正孔輸送剤(H-1)を、表5に示す種類の正孔輸送剤に変更したこと以外は、積層型感光体(C-1)と同じ方法により、積層型感光体(C-2)~(C-4)の各々を製造した。なお、これらの積層型感光体の製造における正孔輸送剤の添加量は、積層型感光体(C-1)と同じ50質量部であった。
下引き層(UCL-1)を、表5に示す下引き層に変更したこと以外は、積層型感光体(C-1)と同じ方法により、積層型感光体(C-5)及び(D-1)~(D-4)の各々を製造した。なお、表5に示す各下引き層は、上記[下引き層の製造]において製造された。
<単層型感光体の感度特性の評価>
まず、温度32.5℃且つ相対湿度80%のHH環境下における単層型感光体の露光後電位を測定した。詳しくは、ドラム感度試験機(ジェンテック株式会社製)を用いて、単層型感光体の表面を+750Vに帯電させた。次いで、単色光(波長:780nm、露光量:0.070μJ/cm2)をハロゲンランプの光からバンドパスフィルターを用いて取り出し、単層型感光体の表面に照射した。単色光の照射終了から50ミリ秒が経過した時点の単層型感光体の表面電位を測定した。測定した表面電位を、HH環境下における単層型感光体の露光後電位(単位:+V)とした。HH環境下における単層型感光体の露光後電位を、表4の「HH感度」欄に示す。
まず、温度32.5℃且つ相対湿度80%のHH環境下における積層型感光体の露光後電位を測定した。詳しくは、ドラム感度試験機(ジェンテック株式会社製)を用いて、積層型感光体の表面を-700Vに帯電させた。次いで、単色光(波長:780nm、露光量:1.00μJ/cm2)をハロゲンランプの光からバンドパスフィルターを用いて取り出し、積層型感光体の表面に照射した。単色光の照射終了から50ミリ秒が経過した時点の積層型感光体の表面電位を測定した。測定した表面電位を、HH環境下における積層型感光体の露光後電位(単位:-V)とした。HH環境下における積層型感光体の露光後電位を、表5の「HH感度」欄に示す。
単層型感光体の耐圧性の評価は、温度23℃且つ相対湿度50%の環境下で行った。耐圧性の評価には、針電極を備える耐圧性試験機(京セラドキュメントソリューションズ株式会社製の試作機)を使用した。まず、針電極の軸方向と単層型感光体の回転軸方向とが直交するように、単層型感光体の表面に針電極の先端を近接させた。単層型感光体の表面と、針電極の先端との間の距離は、1mmであった。開始電圧0V、及び昇圧速度+300V/秒の条件で、針電極に印加する電圧を上昇させた。そして、単層型感光体にリークが発生したときの電圧(単位:+kV)を測定した。測定結果を、表4の「耐圧性」欄に示す。リークが発生したときの電圧の絶対値が大きいほど、単層型感光体の耐電圧性が高いことを示す。
積層型感光体の耐圧性の評価は、温度23℃且つ相対湿度50%の環境下で行った。耐圧性の評価には、針電極を備える耐圧性試験機(京セラドキュメントソリューションズ株式会社製の試作機)を使用した。まず、針電極の軸方向と積層型感光体の回転軸方向とが直交するように、積層型感光体の表面に針電極の先端を近接させた。積層型感光体の表面と、針電極の先端との間の距離は、1mmであった。開始電圧0V、及び降圧速度-300V/秒の条件で、針電極に印加する電圧を下降させた。そして、積層型感光体にリークが発生したときの電圧(単位:-kV)を測定した。測定結果を、表5の「耐圧性」欄に示す。リークが発生したときの電圧の絶対値が大きいほど、積層型感光体の耐電圧性が高いことを示す。
2 :導電性基体
3 :感光層
4 :下引き層
10 :積層型感光体(電子写真感光体)
21 :金属粒子
22 :コア
23 :コート層
42 :帯電装置
44 :露光装置
46 :現像装置
48 :転写装置
110 :画像形成装置
542 :クリーニングローラー
Claims (16)
- 金属粒子と、ポリアミド樹脂とを含有する下引き層であって、
前記金属粒子は、コアと、前記コアの表面の少なくとも一部を覆うコート層とを有し、
前記コアは、酸化チタンを含有し、
前記コート層は、アルミナとシリカを少なくとも含有し、シロキサン結合を有するポリマーを含有せず、前記アルミナは、前記金属粒子の最表面に位置し、
前記ポリアミド樹脂は、アミド結合と、アルキレン基とを有し、
赤外分光法により測定される、前記アミド結合に由来する第1ピークの第1吸光度に対する、前記アルキレン基に由来する第2ピークの第2吸光度の吸光度比率は、0.70以上であり、
前記第1ピークは、波数1620cm-1以上1680cm-1以下の範囲における最大ピークであり、
前記第2ピークは、波数2900cm-1以上2970cm-1以下の範囲における最大ピークであり、
前記金属粒子の含有量は、1.0質量部の前記ポリアミド樹脂に対して、2.0質量部以上であり、
温度32.5℃且つ相対湿度80%の第1環境下において+10μAの電流を流したときの前記下引き層の第1帯電電位C HH と、温度10.0℃且つ相対湿度15%の第2環境下において+10μAの電流を流したときの前記下引き層の第2帯電電位C LL とが、下記式(1)を満たす、下引き層。
|C HH -C LL |≦10V ・・・(1) - 前記下引き層の体積抵抗率は、1.0×1010Ω・cm以上である、請求項1に記載の下引き層。
- 前記ポリアミド樹脂の吸水率は、3.0質量%以下である、請求項1又は2に記載の下引き層。
- 前記金属粒子と前記ポリアミド樹脂と溶剤とを含有する塗布液を、被塗布体に塗布して乾燥させることにより、請求項1~3の何れか一項に記載の下引き層を形成する下引き層形成工程を含み、
前記溶剤は、メタノールと、ブタノールと、トルエンとを含有し、
前記溶剤の質量に対する、前記メタノールの質量の百分率MMと、前記ブタノールの質量の百分率MBと、前記トルエンの質量の百分率MTとが、下記式(2)、(3)、(4)、及び(5)を満たす、下引き層の製造方法。
MM+MB+MT=100 ・・・(2)
30≦MM≦90 ・・・(3)
5≦MB≦50 ・・・(4)
5≦MT≦50 ・・・(5) - 導電性基体と、
電荷発生剤を含有する感光層と、
前記導電性基体と前記感光層との間に備えられる下引き層とを備え、
前記下引き層が、請求項1~3の何れか一項に記載の下引き層である、電子写真感光体。 - 前記感光層は、バインダー樹脂を含有し、
前記バインダー樹脂は、ポリアリレート樹脂を含み、
前記ポリアリレート樹脂は、少なくとも1種の一般式(10)で表される繰り返し単位と、少なくとも1種の一般式(11)で表される繰り返し単位とを含む、請求項5に記載の電子写真感光体。
前記一般式(11)中、Xは、化学式(X1)、化学式(X2)、又は化学式(X3)で表される二価の基を表す。)
前記一般式(W2)中、tは、1以上3以下の整数を表す。)
- 前記感光層は、電子輸送剤を含有し、
前記電子輸送剤は、一般式(20)、(21)、(22)、又は(23)で表される化合物を含む、請求項5~7の何れか一項に記載の電子写真感光体。
前記一般式(21)中、Q5及びQ6は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、フェニル基、又は炭素原子数1以上8以下のアルコキシ基を表し、Q7は、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、フェニル基、又は炭素原子数1以上8以下のアルコキシ基を表し、uは、0以上4以下の整数を表し、
前記一般式(22)中、Q8及びQ9は、各々独立に、水素原子、又は炭素原子数1以上6以下のアルキル基を表し、Q10は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数6以上14以下のアリール基を表し、
前記一般式(23)中、Q11、Q12、Q13、Q14、Q15、及びQ16は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、又は炭素原子数6以上14以下のアリール基を表し、Y1は酸素原子、硫黄原子又は=C(CN)2を表し、Y2は酸素原子又は硫黄原子を表す。) - 前記感光層は、正孔輸送剤を含有し、
前記正孔輸送剤は、一般式(30)、(31)、又は(32)で表される化合物を含む、請求項5~9の何れか一項に記載の電子写真感光体。
前記一般式(31)中、R32及びR33は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、又はフェニル基を表し、R34、R35、R46、及びR47は、各々独立に、炭素原子数1以上8以下のアルキル基又はフェニル基を表し、R36~R45は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、又はフェニル基を表し、p及びqは、各々独立に、0又は1を表し、h及びiは、各々独立に、0以上5以下の整数を表し、j及びkは、各々独立に、0以上4以下の整数を表し、
前記一般式(32)中、R23及びR24は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、炭素原子数1以上8以下のアルコキシ基、又は炭素原子数1以上8以下のアルキル基で置換されてもよいフェニル基を表し、R25及びR26は、各々独立に、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、炭素原子数1以上8以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表し、R27、R28、R29、R30、及びR31は、各々独立に、水素原子、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、炭素原子数1以上8以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表し、R27、R28、R29、R30、及びR31のうちの隣接した2つが互いに結合して環を表してもよく、d及びeは、各々独立に、0以上5以下の整数を表し、f及びgは、各々独立に、1又は2を表す。) - 電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電装置と、
帯電された前記電子写真感光体の前記表面を露光して、前記電子写真感光体の前記表面に静電潜像を形成する露光装置と、
前記静電潜像をトナー像として現像する現像装置と、
前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写体へ転写する転写装置とを備え、
前記電子写真感光体は、
導電性基体と、
電荷発生剤を含有する感光層と、
前記導電性基体と前記感光層との間に備えられる下引き層とを備え、
前記下引き層が、請求項1~3の何れか一項に記載の下引き層である、画像形成装置。 - 前記被転写体は、記録媒体であり、
前記電子写真感光体の前記表面と前記記録媒体とが接触した状態で、前記転写装置は、前記トナー像を前記電子写真感光体から前記記録媒体へ転写する、請求項12に記載の画像形成装置。 - 前記現像装置は、前記電子写真感光体の前記表面と接触している、請求項12又は13に記載の画像形成装置。
- 前記帯電装置は、帯電ローラーである、請求項12~14の何れか一項に記載の画像形成装置。
- 前記電子写真感光体の前記表面を研磨して、前記電子写真感光体の前記表面に付着しているトナーを回収する、クリーニングローラーを更に備える、請求項12~15の何れか一項に記載の画像形成装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020045210A JP7375633B2 (ja) | 2020-03-16 | 2020-03-16 | 下引き層、下引き層の製造方法、電子写真感光体、及び画像形成装置 |
US17/199,561 US20210286277A1 (en) | 2020-03-16 | 2021-03-12 | Undercoat layer, method for manufacturing undercoat layer, electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020045210A JP7375633B2 (ja) | 2020-03-16 | 2020-03-16 | 下引き層、下引き層の製造方法、電子写真感光体、及び画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021148818A JP2021148818A (ja) | 2021-09-27 |
JP7375633B2 true JP7375633B2 (ja) | 2023-11-08 |
Family
ID=77664754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020045210A Active JP7375633B2 (ja) | 2020-03-16 | 2020-03-16 | 下引き層、下引き層の製造方法、電子写真感光体、及び画像形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210286277A1 (ja) |
JP (1) | JP7375633B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20230195003A1 (en) | 2021-12-16 | 2023-06-22 | Fujifilm Business Innovation Corp. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006208474A (ja) | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体 |
JP2009237179A (ja) | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体の製造方法 |
JP2011197261A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sharp Corp | 電子写真感光体下引層用塗布液とその製造方法およびその用途 |
JP2011257585A (ja) | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体と画像形成装置 |
JP2019020671A (ja) | 2017-07-21 | 2019-02-07 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 電子写真感光体 |
-
2020
- 2020-03-16 JP JP2020045210A patent/JP7375633B2/ja active Active
-
2021
- 2021-03-12 US US17/199,561 patent/US20210286277A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006208474A (ja) | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体 |
JP2009237179A (ja) | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体の製造方法 |
JP2011197261A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sharp Corp | 電子写真感光体下引層用塗布液とその製造方法およびその用途 |
JP2011257585A (ja) | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体と画像形成装置 |
JP2019020671A (ja) | 2017-07-21 | 2019-02-07 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 電子写真感光体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021148818A (ja) | 2021-09-27 |
US20210286277A1 (en) | 2021-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6747514B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP6812947B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
JP6769408B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP5622673B2 (ja) | 電子写真感光体及び画像形成装置 | |
JP6210222B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP7375633B2 (ja) | 下引き層、下引き層の製造方法、電子写真感光体、及び画像形成装置 | |
JP7331434B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP6583231B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP7415330B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
US8088540B2 (en) | Photoreceptor for electrophotography | |
JP6724855B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
JP2020118705A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
WO2018198496A1 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
JP6741145B2 (ja) | 電子写真感光体及び画像形成装置 | |
JP7259514B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP6233129B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2020118767A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP6515878B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ | |
JP6217510B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP7331630B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP6627815B2 (ja) | 電子写真感光体及び画像形成装置 | |
JP7215577B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2019020672A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP7287108B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP5526082B2 (ja) | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230606 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230614 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230926 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231009 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7375633 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |