JP7365024B2 - 試料支持体、イオン化方法及び質量分析方法 - Google Patents
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Description
[試料支持体の構成]
図1及び図2に示されるように、試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体1は、基板2と、フレーム3と、導電層5と、誘導体化剤6と、塩基性化剤7と、を備えている。基板2は、例えば、絶縁性材料によって長方形板状に形成されている。基板2の一辺の長さは、例えば数cm程度である。基板2の厚さは、例えば1~50μmである。基板2は、第1表面2a及び第2表面2b並びに複数の貫通孔2cを有している。第2表面2bは、第1表面2aとは反対側の表面である。
次に、試料支持体1を用いたイオン化方法及び質量分析方法について説明する。まず、試料支持体1を用意する(第1工程)。試料支持体1は、イオン化方法及び質量分析方法の実施者によって製造されることにより用意されてもよいし、試料支持体1の製造者又は販売者等から譲渡されることにより用意されてもよい。
以上説明したように、試料支持体1は、第1表面2a、及び第1表面2aとは反対側の第2表面2b、並びに、第1表面2a及び第2表面2bに開口する複数の貫通孔2cを有する基板2を備えている。これにより、複数の貫通孔2cに成分S1が導入されると、成分S1が第1表面2a側に留まる。さらに、導電層5に電圧が印加されつつ基板2の第1表面2aに対してレーザ光L等のエネルギー線が照射されると、第1表面2a側における成分S1にエネルギーが伝達される。このエネルギーによって、成分S1がイオン化されることで、試料イオンS2が生じる。ここで、試料支持体1は、複数の貫通孔2cに設けられ、成分S1を誘導体化するための誘導体化剤6を備えている。そのため、成分S1は、誘導体化剤6の一部61と混合した状態で第1表面2a側に留まる。これにより、成分S1を第1表面2a側に留まらせた状態で誘導体化することができ、誘導体化された成分S1をイオン化することができる。したがって、イオン化された試料イオンS2が検出されやすくなるため、試料イオンS2の信号の強度が低下するのが抑制される。よって、試料支持体1によれば、高感度な質量分析が可能となる。具体的には、例えば、試料Sの濃度の限界を広げることができる。すなわち、基板2の第1表面2aに留まる成分S1の量が相対的に少ない場合においても、試料イオンS2の信号の強度が低下するのを抑制することができ、質量分析の感度を向上させることができる。
[試料支持体の構成]
図6の(a)、図6の(b)及び図7に示されるように、第2実施形態の試料支持体1Aは、フレーム3に代えてフレーム3Aを備えている点において、第1実施形態の試料支持体1と主に相違している。
次に、試料支持体1Aを用いたイオン化方法及び質量分析方法について説明する。まず、図8の(a)に示されるように、試料支持体1Aを用意する(第1工程)。続いて、試料Sの成分を試料支持体1Aの複数の貫通孔2c(図7参照)に導入する(第2工程)。具体的には、試料支持体1Aの各測定領域Rに試料Sを配置する。本実施形態では、例えばピペット9によって、試料Sの成分を含む溶液を基板2の第2表面2b(図7参照)側から各測定領域Rの複数の貫通孔2cに対して滴下する。つまり、試料Sの成分を含む溶液は、誘導体化剤6が設けられた表面に対して滴下される。具体的には、第1表面2a(誘導体化剤6)に対して第2表面2bが上側に位置するように試料支持体1が支持された状態で、第2表面2bに対して溶液が滴下される。
本発明は、上述した各実施形態に限定されない。第1実施形態では、試料支持体1が塩基性化剤7を備えている例を示したが、試料支持体は、塩基性化剤7を備えていなくてもよい。以下、塩基性化剤7を備えていない試料支持体1B~1Eについて説明する。試料支持体1B~1Eは、塩基性化剤7を備えていない点において、試料支持体1と主に相違している。図10に示されるように、試料支持体1Bでは、第2表面2b側には誘導体化剤6が設けられ、第1表面2a側には塩基性化剤7が設けられていなくてもよい。
Claims (18)
- 試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第1表面、及び前記第1表面とは反対側の第2表面、並びに、前記第1表面及び前記第2表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、
少なくとも前記第1表面に設けられた導電層と、
前記複数の貫通孔に設けられ、前記成分を誘導体化するための誘導体化剤と、
前記成分が誘導体化される環境を塩基性にするための塩基性化剤と、を備え、
前記誘導体化剤は、前記第2表面側に設けられ、
前記塩基性化剤は、前記第1表面側に設けられている、試料支持体。 - 試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第1表面、及び前記第1表面とは反対側の第2表面、並びに、前記第1表面及び前記第2表面に開口する複数の貫通孔を有する基板と、
少なくとも前記第1表面に設けられた導電層と、
前記複数の貫通孔に設けられ、前記成分を誘導体化するための誘導体化剤と、
前記成分が誘導体化される環境を塩基性にするための塩基性化剤と、を備え、
前記誘導体化剤は、前記第1表面側に設けられ、
前記塩基性化剤は、前記第2表面側に設けられている、試料支持体。 - 前記誘導体化剤は、塗布乾燥膜として設けられている、請求項1又は2に記載の試料支持体。
- 前記誘導体化剤は、蒸着膜又はスパッタ膜として設けられている、請求項1又は2に記載の試料支持体。
- 前記誘導体化剤は、ピリリウム化合物、カルバメート化合物、イソチオシアネート化合物、N‐ヒドロキシスクシンイミドエステル及びヒドラジド化合物から選択される少なくとも一つを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 前記塩基性化剤は、塗布乾燥膜として設けられている、請求項1~5のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 前記塩基性化剤は、蒸着膜又はスパッタ膜として設けられている、請求項1~5のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 前記塩基性化剤は、アミン類、イミン類、無機塩基類、アミン類緩衝剤、イミン類緩衝剤及び無機塩基類緩衝剤から選択される少なくとも一つを含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 前記複数の貫通孔のそれぞれの幅は、1~700nmである、請求項1~8のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 前記基板は、バルブ金属又はシリコンを陽極酸化することにより形成されている、請求項1~9のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 前記基板には、それぞれが複数の前記貫通孔を含む複数の測定領域が形成されている、請求項1~10のいずれか一項に記載の試料支持体。
- 試料の成分のイオン化に用いられる試料支持体であって、
第1表面、及び前記第1表面とは反対側の第2表面、並びに、前記第1表面及び前記第2表面に開口する複数の貫通孔を有する導電性の基板と、
前記複数の貫通孔に設けられ、前記成分を誘導体化するための誘導体化剤と、
前記成分が誘導体化される環境を塩基性にするための塩基性化剤と、を備え、
前記誘導体化剤は、前記第1表面及び前記第2表面の一方の側に設けられ、
前記塩基性化剤は、前記第1表面及び前記第2表面の他方の側に設けられている、試料支持体。 - 請求項1~11のいずれか一項に記載の試料支持体を用意する第1工程と、
前記試料の前記成分を前記複数の貫通孔に導入する第2工程と、
前記成分が導入された前記試料支持体を加熱することにより、前記成分を誘導体化する第3工程と、
前記導電層に電圧を印加しつつ前記第1表面に対してエネルギー線を照射することにより、前記成分をイオン化する第4工程と、を備える、イオン化方法。 - 前記第1工程においては、請求項1に記載の試料支持体を用意し、
前記第2工程においては、前記第2表面が前記試料に対向するように前記試料上に前記試料支持体を配置する、請求項13に記載のイオン化方法。 - 前記第1工程においては、請求項1に記載の試料支持体を用意し、
前記第2工程においては、前記成分を含む溶液を前記第2表面側から前記複数の貫通孔に対して滴下する、請求項13に記載のイオン化方法。 - 前記第1工程においては、請求項2に記載の試料支持体を用意し、
前記第2工程においては、前記成分を含む溶液を前記第1表面側から前記複数の貫通孔に対して滴下する、請求項13に記載のイオン化方法。 - 請求項12に記載の試料支持体を用意する第1工程と、
前記試料の前記成分を前記複数の貫通孔に導入する第2工程と、
前記成分が導入された前記試料支持体を加熱することにより、前記成分を誘導体化する第3工程と、
前記基板に電圧を印加しつつ前記第1表面に対してエネルギー線を照射することにより、前記成分をイオン化する第4工程と、を備える、イオン化方法。 - 請求項13~17のいずれか一項に記載のイオン化方法の各工程と、
イオン化された前記成分を検出する第5工程と、を備える、質量分析方法。
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